一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂及工艺

技术领域

本发明属于玻璃蚀刻领域，具体公开了一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂及工艺。

背景技术

现在电子穿戴产品的需求日益增加，智能手机的更新换代速度越来越快，手机盖板的材质也一直在往新的材料方面进行发展，由原来的玻璃材质到后来的金属材质以及现在的用陶瓷材质作为智能手机的盖板，陶瓷手机盖板具有很好的散热性，这样就使得手机在使用过程中很大程度降低了热损伤，并且和金属结构相比，陶瓷不会像金属材质一样屏蔽信号，不需要将天线裸露在外，并且陶瓷材质的莫氏硬度比玻璃更高，在日常使用中不会被刮花，经久耐用。

但是在制备陶瓷材质成型的过程中，离不开使用粗抛和精抛等加工工艺，在加工完陶瓷后，陶瓷表面常常存在由二氧化硅，氧化铝等颗粒的残留，若清洗不良，则会导致产品的表面容易被腐蚀，产生异色等不良情况。

发明内容

针对上述情况，本发明公开了一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂及工艺。本发明利用乙二胺四乙酸二钠螯合剂和缓蚀剂，对抛光粉残留膜层组分进行络合，同时缓冲强碱对玻璃的腐蚀。氯酸钾，硝酸钠，是作为氧化剂，因为抛光液残留组分为有离子态的物质，有氧化铝，氧化铈，稳定性很高，需要强氧化性物质将其变成易反应的氧化物。而选择多种氧化物进行复配，可以满足对不同组分的物质进行氧化清除。聚氧乙烯醚为表面活性剂，对适用酸碱性的使用环境，湿润和去污效果强。

本发明的技术方案如下：

一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,其特征在于，以全部组分为100质量份计，由以下质量份的原料制成：

进一步地，上述碱性物质为25份，碱性物质是提供强碱性环境。

进一步地，上述四硼酸钠为9份。

进一步地，上述乙二胺四乙酸二钠为10份；乙二胺四乙酸二钠螯合剂和缓蚀剂，对抛光粉残留膜层组分进行络合，同时缓冲强碱对玻璃的腐蚀

进一步地，上述聚氧乙烯醚为7份。

进一步地，上述氯酸盐选自氯酸钾。

氯酸钾，硝酸钠，是作为氧化剂，因为抛光液残留组分为有离子态的物质，有氧化铝，氧化铈，稳定性很高，需要强氧化性物质将其变成易反应的氧化物。而选择多种氧化物进行复配，可以满足对不同组分的物质进行氧化清除。聚氧乙烯醚为表面活性剂，对适用酸碱性的使用环境，湿润和去污效果强。

进一步地，上述的一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂的制备方法,其特征在于，按照配方配置原料，并混合均匀。

进一步地，上述的一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂的应用工艺，其特征在于，包括以下步骤：

(1)使用槽式超声波机台，按照配方配置原料，并混合均匀，温度在70-80℃，20％配比使用；

(2)将待清洗的陶瓷盖板浸泡清洗2min；

(3)取出陶瓷盖板后，使用纯水对陶瓷盖板进行清洗，烘干；

(4)清洗效果以单槽清洗100pcs陶瓷盖板，对清洗后的陶瓷表面脏污的残留情况进行检验。

进一步地，上述的抛光粉清洗剂或权利要求8所述的应用工艺在手机或者手机盖板外观处理中的应用。

从上述技术方案可以得出，本发明具有如下有益效果:

a.环保型好，不会对人体和环境造成损害

b.能够高效的对陶瓷表面的脏污进行清除，时间更短，良率更高。

c.操作简单。

具体实施方式

下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例中使用的试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规试剂产品。

实施例1

一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,以全部组分为100质量份计，由以下质量份的原料制成：

碱性物质15份，四硼酸钠5份，乙二胺四乙酸二钠5份，聚氧乙烯醚4份，丙三醇5份，氯酸钾5份，硝酸钠5份，余量是水。

(1)使用槽式超声波机台，按照配方配置原料，并混合均匀，温度在70-80℃，20％配比使用；

(2)将待清洗的陶瓷盖板浸泡清洗2min；

(3)取出陶瓷盖板后，使用纯水对陶瓷盖板进行清洗，烘干；

(4)清洗效果以单槽清洗100pcs陶瓷盖板，对清洗后的陶瓷表面脏污的残留情况进行检验。

基于上述工艺清洗后的陶瓷盖板有96pcs玻璃清洗干净，有4片有抛光粉脏污残留。

实施例2

一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,以全部组分为100质量份计，由以下质量份的原料制成：

碱性物质17份，四硼酸钠6份，乙二胺四乙酸二钠7份，聚氧乙烯醚6份，丙三醇6份，氯酸钾7份，硝酸钠7份，余量是水。

(1)使用槽式超声波机台，按照配方配置原料，并混合均匀，温度在70-80℃，20％配比使用；

(2)将待清洗的陶瓷盖板浸泡清洗2min；

(3)取出陶瓷盖板后，使用纯水对陶瓷盖板进行清洗，烘干；

(4)清洗效果以单槽清洗100pcs陶瓷盖板，对清洗后的陶瓷表面脏污的残留情况进行检验。

基于上述工艺清洗后的陶瓷盖板有95pcs玻璃清洗干净，有5片有抛光粉脏污残留。

实施例3

一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,以全部组分为100质量份计，由以下质量份的原料制成：

碱性物质22份，四硼酸钠8份，乙二胺四乙酸二钠8份，聚氧乙烯醚5份，丙三醇7份，氯酸钾6份，硝酸钠6份，余量是水。

(1)使用槽式超声波机台，按照配方配置原料，并混合均匀，温度在70-80℃，20％配比使用；

(2)将待清洗的陶瓷盖板浸泡清洗2min；

(3)取出陶瓷盖板后，使用纯水对陶瓷盖板进行清洗，烘干；

(4)清洗效果以单槽清洗100pcs陶瓷盖板，对清洗后的陶瓷表面脏污的残留情况进行检验。

基于上述工艺清洗后的陶瓷盖板有93pcs玻璃清洗干净，有7片有抛光粉脏污残留。

实施例4

一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,以全部组分为100质量份计，由以下质量份的原料制成：

碱性物质25份，四硼酸钠9份，乙二胺四乙酸二钠10份，聚氧乙烯醚7份，丙三醇10份，氯酸钾8份，硝酸钠9份，余量是水。

(1)使用槽式超声波机台，按照配方配置原料，并混合均匀，温度在70-80℃，20％配比使用；

(2)将待清洗的陶瓷盖板浸泡清洗2min；

(3)取出陶瓷盖板后，使用纯水对陶瓷盖板进行清洗，烘干；

(4)清洗效果以单槽清洗100pcs陶瓷盖板，对清洗后的陶瓷表面脏污的残留情况进行检验。

基于上述工艺清洗后的陶瓷盖板有98pcs玻璃清洗干净，有2片有抛光粉脏污残留。

对比例1

一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,以全部组分为100质量份计，由以下质量份的原料制成：

碱性物质10份，四硼酸钠1份，乙二胺四乙酸二钠4份，聚氧乙烯醚2份，丙三醇2份，氯酸钾3份，硝酸钠1份，余量是水。

(1)使用槽式超声波机台，按照配方配置原料，并混合均匀，温度在70-80℃，20％配比使用；

(2)将待清洗的陶瓷盖板浸泡清洗2min；

(3)取出陶瓷盖板后，使用纯水对陶瓷盖板进行清洗，烘干；

(4)清洗效果以单槽清洗100pcs陶瓷盖板，对清洗后的陶瓷表面脏污的残留情况进行检验。

基于上述工艺清洗后的陶瓷盖板有68pcs玻璃清洗干净，有32片有抛光粉脏污残留。

对比例2

一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,以全部组分为100质量份计，由以下质量份的原料制成：

碱性物质12份，四硼酸钠0份，乙二胺四乙酸二钠2份，聚氧乙烯醚2份，丙三醇3份，氯酸钾4份，硝酸钠3份，余量是水。

(1)使用槽式超声波机台，按照配方配置原料，并混合均匀，温度在70-80℃，20％配比使用；

(2)将待清洗的陶瓷盖板浸泡清洗2min；

(3)取出陶瓷盖板后，使用纯水对陶瓷盖板进行清洗，烘干；

(4)清洗效果以单槽清洗100pcs陶瓷盖板，对清洗后的陶瓷表面脏污的残留情况进行检验。

基于上述工艺清洗后的陶瓷盖板有68pcs玻璃清洗干净，有32片有抛光粉脏污残留。

对比例3

一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,以全部组分为100质量份计，由以下质量份的原料制成：

碱性物质5份，四硼酸钠2份，乙二胺四乙酸二钠0份，聚氧乙烯醚2份，丙三醇4份，氯酸钾1份，硝酸钠1份，余量是水。

(1)使用槽式超声波机台，按照配方配置原料，并混合均匀，温度在70-80℃，20％配比使用；

(2)将待清洗的陶瓷盖板浸泡清洗2min；

(3)取出陶瓷盖板后，使用纯水对陶瓷盖板进行清洗，烘干；

(4)清洗效果以单槽清洗100pcs陶瓷盖板，对清洗后的陶瓷表面脏污的残留情况进行检验。

基于上述工艺清洗后的陶瓷盖板有55pcs玻璃清洗干净，有45片有抛光粉脏污残留。

对比例4

一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,以全部组分为100质量份计，由以下质量份的原料制成：

碱性物质6份，四硼酸钠1份，乙二胺四乙酸二钠12份，聚氧乙烯醚0份，丙三醇1份，氯酸钾13份，硝酸钠13份，余量是水。

(1)使用槽式超声波机台，按照配方配置原料，并混合均匀，温度在70-80℃，20％配比使用；

(2)将待清洗的陶瓷盖板浸泡清洗2min；

(3)取出陶瓷盖板后，使用纯水对陶瓷盖板进行清洗，烘干；

(4)清洗效果以单槽清洗100pcs陶瓷盖板，对清洗后的陶瓷表面脏污的残留情况进行检验。

基于上述工艺清洗后的陶瓷盖板有79pcs玻璃清洗干净，有21片有抛光粉脏污残留。

根据以上实施例及对比例可以看出，本发明所述的一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂能够高效的对陶瓷表面的脏污进行清除，时间更短，良率更高，十分适合应用于手机或者手机盖板外观处理领域。

以上所述实施例仅表达了本发明的有限几种优选实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。