涂覆装置及使用其制造显示装置的方法

技术领域

本发明涉及涂覆装置和使用该涂覆装置制造显示装置的方法。

背景技术

随着多媒体的发展，显示装置的重要性日益增加。对应于此，诸如液晶显示装置(LCD)、有机发光显示装置(OLED)等的各种类型的显示装置已经被使用。

在上述显示装置的制造过程中，可以使用各种类型的涂覆装置，诸如用于在基板上涂覆构成显示装置的层的辊式涂覆机、槽模涂覆机、分配器或喷墨打印机等。

发明内容

解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是提供一种能够对应于基板的高度变化来检测基板上的粒子的涂覆装置以及使用该涂覆装置制造显示装置的方法。

本发明的技术问题不限于以上所述，且本领域技术人员将通过下面的描述可以清楚地理解未提及的其他技术问题。

解决方法

用于解决上述技术问题的、根据一实施例的涂覆装置包括：台，用于传送目标基板；涂覆部，用于将涂覆材料涂覆在目标基板上；第一出光部，用于发射第一光束以横跨目标基板的上表面；第一位置调节部，连接到第一出光部并调节第一出光部的高度；第一距离测量部，布置在台上并测量距目标基板的上表面的第一距离；以及控制部，用于控制第一位置调节部，以基于由第一距离测量部测量的第一距离来调节第一出光部的高度。

控制部可以基于第一距离的变化量计算目标基板的上表面的高度的变化量，并且可以控制第一位置调节部，以对应于目标基板的上表面的高度的变化量调节第一出光部的高度。

控制部可以控制第一位置调节部，以使第一光束和目标基板的上表面之间的第一间距保持恒定。

当第一距离小于或等于预设值时，控制部可以控制第一位置调节部以升高第一出光部。

涂覆装置还可以包括用于接收第一光束的第一收光部，其中，控制部可以基于由第一收光部接收的第一光束的量来检测在目标基板的上表面上的尺寸大于或等于预设尺寸的粒子。

当在目标基板的上表面上检测到尺寸大于或等于预设尺寸的粒子时，控制部可以中止或中断涂覆部的操作。

涂覆装置还可以包括用于调节涂覆部的高度的第三位置调节部，其中，控制部可以控制第三位置调节部，以基于第一距离调节涂覆部和目标基板的上表面之间的间距。

涂覆装置还可以包括：第二出光部，用于发射第二光束以横跨目标基板的下表面；第二收光部，用于接收第二光束；第四位置调节部，连接到第二出光部，并用于调节第二出光部的高度；第三位置调节部，用于调节第二收光部的高度；以及第二距离测量部，布置在台的下方，并用于测量距目标基板的下表面的第二距离，其中，台可以是利用气体压力提升目标基板的气浮台。

控制部可以控制第四位置调节部，以基于由第二距离测量部测量的第二距离来调节第二出光部的高度。

控制部可以基于第二距离的变化量计算目标基板的下表面的高度的变化量，并且可以控制第四位置调节部以对应于目标基板的下表面的高度的变化量调节第二出光部的高度。

控制部可以控制第四位置调节部，以使第二光束和目标基板的下表面之间的第二间距保持恒定。

当第二距离小于或等于预设值时，控制部可以控制第四位置调节部以降低第二出光部。

控制部可以基于由第二收光部接收的第二光束的量来检测在目标基板的下表面上的尺寸大于或等于预设尺寸的粒子。

用于解决上述技术问题的、根据一实施例的制造显示装置的方法包括：通过至少一个距离测量仪测量距目标基板的一个表面的距离的步骤；以及基于所测量的距离调节目标基板的一个表面与横跨目标基板的一个表面的至少一个光束之间的间距的步骤。

测量距目标基板的一个表面的距离的步骤可以包括：通过布置在目标基板的上表面上的第一距离测量仪测量距目标基板的上表面的距离的步骤。

调节目标基板的一个表面与至少一个光束之间的间距的步骤可以包括：当距目标基板的上表面的距离小于或等于预设值时，提升第一出光部的步骤，其中，第一出光部将第一光束发射到目标基板的上表面上以横跨目标基板的上表面。

测量距目标基板的一个表面的距离的步骤可以包括：通过布置在目标基板的下表面上的第二距离测量仪测量距目标基板的下表面的距离的步骤。

调节目标基板的一个表面与至少一个光束之间的间距的步骤可以包括：当距目标基板的下表面的距离小于或等于预设值时，降低第二出光部的步骤，其中，第二出光部将第二光束发射到目标基板的下表面上以横跨目标基板的下表面。

制造显示装置的方法还可以包括：基于所测量的距离来调节布置在目标基板的一个表面上的涂覆部与目标基板的一个表面之间的间距。

制造显示装置的方法还可以包括：基于距目标基板的一个表面的距离和目标基板的一个表面与至少一个光束之间的间距，计算目标基板的一个表面上的粒子的尺寸的步骤。

其他实施例的具体细节包含在详细说明及附图中。

有益效果

通过根据一实施例的涂覆装置和使用该涂覆装置制造显示装置的方法，可对应于基板的高度变化精确地检测出基板上的粒子。

根据实施例的效果不限于以上所例示的内容，并且在本说明书中包括了更多种效果。

附图说明

图1是根据一实施例的涂覆装置的立体图。

图2是沿图1的A-A'截取的剖视图。

图3是根据另一实施例的涂覆装置的立体图。

图4是沿图2的B-B'截取的剖视图。

图5是示出根据一实施例的制造显示装置的方法的流程图。

图6至图8是示出根据一实施例的制造显示装置的方法的步骤的图。

图9至图11是示出根据另一实施例的制造显示装置的方法的步骤的图。

附图标记的说明

1： 涂覆装置

10： 台

31： 第一出光部

33： 第一收光部

35： 第一位置调节部

37： 第二位置调节部

50： 第一距离测量部

70： 涂覆部

90： 支承台

100： 控制部

具体实施方式

本发明的优点和特征以及实现这些优点和特征的方法将通过参考下面结合附图详细描述的实施例而变得清楚。然而，本发明并不限于以下公开的实施例，而是以彼此不同的多种形态实现，且本实施例只是为了使本发明的公开变得完整，并向本发明所属技术领域的普通技术人员完整地告知本发明的范围而提供的，且本发明仅由权利要求书的范围来定义。

当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，其包括直接在另一元件上的情况和中间插置有其他层或其他元件的情况两者。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的构成要素。用于说明实施例的图中所示的形状、大小、比例、角度、个数等是示例性的，因此本发明不限于图中所示的内容。

以下，将参照附图来描述具体的实施例。

图1是根据一实施例的涂覆装置的立体图。图2是沿图1的A-A'截取的剖视图。

以下，第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3在彼此不同的方向上相交。第一方向DR1可以是水平方向。第二方向DR2可以是竖直方向。第三方向DR3可以是厚度方向。第一方向DR1、第二方向DR2和/或第三方向DR3可以包括两个或更多个方向。例如，第三方向DR3可以包括朝向图的上侧的上侧方向和朝向图的下侧的下侧方向。因此，被布置成面向上侧方向的构件的一个表面可以被称为上表面，而被布置成面向下侧方向的构件的另一个表面可以被称为下表面。然而，这些方向只是示例性且相对的，而不限于以上所述。

以下将描述的涂覆装置1包括用于将涂覆材料涂覆到目标基板T上的各种类型的装置，例如，辊式涂覆装置、槽缝涂覆装置、分配器或喷墨打印机等。在一个实施例中，涂覆装置1可以是用于在目标基板T上涂覆构成显示装置的至少一个层(例如，绝缘层、发光层、薄膜封装层、滤色器层等)的显示装置的制造装置，但不限于此。

参照图1和图2，涂覆装置1可包括台10、第一出光部31、第一收光部33、第一位置调节部35、第二位置调节部37、第一距离测量部50、涂覆部70、支承台90和控制部100。

台10可以装载目标基板T。在一个实施例中，目标基板T可以装载到台10上并沿第一方向DR1移动。在一些实施例中，也可以将目标基板T装载到台10上，并且使布置在台10上的涂覆部70和第一距离测量部50沿第一方向DR1移动。在一个实施例中，涂覆装置1还可包括沿至少一个方向移动台10的台移动部11。

涂覆部70布置在台10上，并将涂覆材料涂覆到装载在台10上的目标基板T的上表面上。涂覆部70可包括用于分配、涂覆或印刷涂覆材料的各种装置。在一个实施例中，涂覆部70可包括喷射涂覆材料的至少一个开口部，例如，喷嘴，但不限于此。在一些实施例中，涂覆部70可包括用于槽模涂覆机的、沿第二方向DR2纵向形成的喷嘴。在一些实施例中，涂覆部70也可以是包括用于喷墨打印机的多个喷嘴的喷墨头。在一些实施例中，涂覆装置1还可包括沿至少一个方向(例如，竖直方向)移动涂覆部70的第三位置调节部71，并且可根据目标基板T的弯曲度或目标基板T上是否存在粒子而调节涂覆部70与目标基板T和/或台10之间的第三方向DR3上的距离。

第一出光部31沿与第一方向DR1交叉的第二方向DR2将第一光束LB发射到台10上。当目标基板T装载在台10上时，第一光束LB可以横跨目标基板T的上表面而发射。在一个实施例中，第一光束LB可以平行于目标基板T的上表面，并且可以发射为与目标基板T的上表面间隔开第一间距。第一间距可以是第三方向DR3上的间距。在一些实施例中，也可以将第一光束LB发射到目标基板T的上表面上，以使其与目标基板T的上表面紧密接触。第一光束LB可以包括具有高方向性的光，例如，激光。在一个实施例中，第一出光部31可以布置在台10的第二方向DR2上的一侧。

第一收光部33接收第一光束LB。在一个实施例中，第一收光部33可以包括基于接收到的第一光束LB的量产生电信号的装置或传感器(例如，光电传感器等)，并且电信号可以被传递到控制部100。在一个实施例中，第一收光部33可以布置在台10的第二方向DR2上的另一侧。即，第一出光部31和第一收光部33可以沿第二方向DR2彼此相对地布置，其中台10位于第一出光部31和第一收光部33之间。

第一位置调节部35可以连接到第一出光部31，以调节第一出光部31的位置。具体地，第一位置调节部35可以调节第一出光部31的高度。由此，可以调节第一光束LB与目标基板T之间的间距。所述间距可以是竖直方向上的间距。

第二位置调节部37可以连接到第一收光部33，以调节第一收光部33的位置。由此，可以根据第一出光部31的高度变化来调节第一收光部33的高度。在一些实施例中，也可以使第一收光部33具有预定范围的光接收区域，并且仅调节第一出光部31的高度。

在一个实施例中，第一位置调节部35和第二位置调节部37可以实现为沿长度方向可伸缩的汽缸或机械臂等，但不限于此。在一些实施例中，第一位置调节部35和第二位置调节部37也可以包括其至少一部分配置为能够移动的滑动构件或线性移动引导件等。

第一距离测量部50测量距目标基板T的上表面的距离。由此，可以计算目标基板T的上表面的高度变化量和/或弯曲度。第一距离测量部50可包括使用各种方法(诸如三角测量法、飞行时间(Time of Flight)测量法、相位差位移测量法等)来测量距目标基板T的距离的各种距离测量装置，例如，激光距离测量仪或视觉相机等。在一个实施例中，第一距离测量部50可以布置在台10上，但不限于此。在一些实施例中，第一距离测量部50可以通过连接部51连接到布置在台10上方的支承台90的下端，但不限于此。在一个实施例中，可以布置多个第一距离测量部50。例如，三个第一距离测量部50以一定的间距布置，以测量目标基板T的上表面上的彼此不同的区域的高度，但不限于此。

支承台90可以配置在台10上以横跨台10。在一个实施例中，目标基板T可以沿第一方向DR1移动，并且支承台90可以布置成沿第二方向DR2横跨台10。在这种情况下，第一距离测量部50和涂覆部70可结合到支承台90，使得面向台10的上表面。如图2所示，在一个实施例中，第一出光部31、第一距离测量部50和涂覆部70可以沿传送目标基板T的方向依次排列，但并不限于此。在一些实施例中，第一出光部31、第一距离测量部50和涂覆部70也可以沿传送目标基板T的方向以第一距离测量部50、第一出光部31和涂覆部70的顺序排列。即，第一距离测量部50也可以朝向目标基板T进入的一侧布置在第一出光部31之前。在一些实施例中，第一出光部31和第一收光部33也可以与支承台90结合在一起，或者也可以仅涂覆部70与支承台90结合在一起。在一个实施例中，所述支承台90可以是门形架，该门形架包括横跨台10上方的水平部和布置在水平部的两端处并朝向支承面延伸的两个竖直部。

控制部100可以控制台10、涂覆部70、第一出光部31、第一收光部33、第一位置调节部35、第二位置调节部37和第一距离测量部50中的至少一个。

控制部100可以控制第一位置调节部35，以基于由第一距离测量部50测量的第一距离来调节第一出光部31的高度。具体地，控制部100可以基于由第一距离测量部50测量的第一距离的变化量来计算目标基板T的上表面的高度的变化量。控制部100可以控制第一位置调节部35，以对应于目标基板T的上表面的高度的变化量来调节第一出光部31的高度。此外，控制部100可以基于由第一收光部33接收的第一光束LB的量来检测在目标基板T的上表面上的尺寸大于或等于预设尺寸的粒子。

将在图6至图8中详细描述涂覆装置1的具体操作。

图3是根据另一实施例的涂覆装置的立体图。图4是沿图2的B-B'截取的剖视图。

图3的实施例与图1的实施例的不同之处在于，涂覆装置1还包括第二出光部31_2、第二收光部33_2和第二距离测量部50_2。

参照图3和图4，涂覆装置1a可以包括台10a、涂覆部70、第一出光部31_1、第二出光部31_2、第一收光部33_1、第二收光部33_2、第一距离测量部50_1、第二距离测量部50_2、第一位置调节部35_1、第二位置调节部37_1、第三位置调节部71、第四位置调节部35_2、第五位置调节部37_2、支承台90和控制部100。

与图1的实施例不同，台10a可以装载目标基板T，使得目标基板T与台10a间隔开。例如，台10a可以是通过向上方喷射气体来提升目标基板T的气浮台。由此，目标基板T可以在其下表面与台10a的上表面间隔开预定间距的状态下沿第一方向DR1移动。如图3所示，台10a可以包括沿第一方向DR1延伸且以一定的间距布置的多个气浮单元，但不限于此。尽管未示出，但是涂覆装置1a还可以包括用于抓取装载在气浮台上的目标基板T的抓取器。

涂覆部70布置在台10a上，并将涂覆材料涂覆到装载在台10a上的目标基板T的上表面上。涂覆装置1a还可包括沿至少一个方向移动涂覆部70的第三位置调节部71。

第一出光部31_1沿第二方向DR2发射第一光束LB_1，使得第一光束LB_1在台10a上横跨目标基板T的上表面。在一些实施例中，第一光束LB_1可以发射为与目标基板T的上表面间隔开第一间距。

第一收光部33_1接收第一光束LB_1，并将第一光束LB_1转换为电信号。

在一些实施例中，第一出光部31_1和第一收光部33_1可以分别布置在台10a的第二方向DR2上的一侧和另一侧，其中台10a位于第一出光部31_1和第一收光部33_1之间。此时，第一出光部31_1和第一收光部33_1可以分别通过第一位置调节部35_1和第二位置调节部37_1连接以使得第一出光部31_1和第一收光部33_1分别悬挂到布置在台10a上的支承台90上。

第二出光部31_2将第二光束LB_2发射到台10a上。具体地，第二出光部31_2可以沿第二方向DR2发射第二光束LB_2，使得第二光束LB_2在通过气压在台10a上被提升的目标基板T与台10a之间横跨目标基板T的下表面。在这种情况下，第二光束LB_2可以与目标基板T的下表面平行，并且可以发射为与目标基板T的下表面以第二间距间隔开。所述第二间距可以是第三方向DR3上的间距。在一些实施例中，第二出光部31_2可以布置在台10a的第二方向DR2上的一侧，并且可以连接到固定在支承表面上的第四位置调节部35_2并被第四位置调节部35_2支承。第二出光部31_2可以布置在比第一出光部31_1低的位置处。即，如图4所示，在横截面中台10a、目标基板T、第一出光部31_1和第二出光部31_2可以沿上侧方向以台10a、第二出光部31_2、目标基板T和第一出光部31_1的顺序布置。在一些实施例中，第二出光部31_2可以布置为沿第三方向DR3与第一出光部31_1至少部分地重叠。

第二收光部33_2接收第二光束LB_2。类似于第一收光部33_1，第二收光部33_2可包括接收第二光束LB_2并将第二光束LB_2转换为电信号的传感器或装置，例如，光电传感器等。在一个实施例中，第二收光部33_2可布置在台10a的第二方向DR2上的另一侧，以面向第二出光部31_2，并且第二收光部33_2可连接到固定在支承表面上的第五位置调节部37_2，并被第五位置调节部37_2支承。第二收光部33_2可以布置在比第一收光部33_1低的位置处。即，与第二出光部31_2的布置类似，台10a、目标基板T、第一收光部33_1和第二收光部33_2可以沿上侧方向以台10a、第二收光部33_2、目标基板T和第一收光部33_1的顺序布置。在一些实施例中，第二收光部33_2可以布置为沿第三方向DR3与第一收光部33_1至少部分地重叠。

第一距离测量部50_1测量距目标基板T的上表面的第三方向DR3上的距离。由此，可以计算出目标基板T的上表面的高度变化量和/或弯曲度。在一些实施例中，第一距离测量部50_1可以通过连接部51_1连接到布置在台10a上方的支承台90的下端，但不限于此。在一些实施例中，第一出光部31_1、第一收光部33_1、第一距离测量部50_1和涂覆部70可以与布置在台10a上方的支承台90的下端相邻地连接。在一些实施例中，第一出光部31_1、第一收光部33_1和第一距离测量部50_1中的至少一个也可以由与支承台90分离的单独的支承装置支承。

第二距离测量部50_2测量距目标基板T的下表面的距离。由此，可以计算出目标基板T的下表面的高度变化量和/或弯曲度。在一些实施例中，第二距离测量部50_2可以布置在台10a的下方，并且可以由连接到支承表面上的支承部51_2支承和固定。在这种情况下，第二距离测量部50_2可以通过多个气浮单元之间的间隙测量距目标基板T的下表面的距离。在一些实施例中，第二距离测量部50_2可以布置为沿第三方向DR3与第一距离测量部50_1至少部分地重叠。在一些实施例中，第二距离测量部50_2也可以与台10a一体形成。在一些实施例中，可以布置多个第二距离测量部50_2。例如，三个第二距离测量部50_2可以以一定的间距布置，从而测量目标基板T的下表面的彼此不同的区域的高度，但不限于此。第二距离测量部50_2可包括使用各种方法(诸如三角测量法、飞行时间(Time of Flight)测量法、相位差位移测量法等)来测量距目标基板T的距离的各种距离测量装置，例如，激光距离测量仪或视觉相机等。

在一些实施例中，第一出光部31_1、第一距离测量部50_1和涂覆部70可以沿第一方向DR1依次排列，且第二出光部31_2和第二距离测量部50_2可以沿第一方向DR1依次排列。在一些实施例中，第一距离测量部50_1和第二距离测量部50_2也可以分别朝向目标基板T进入的一侧布置在第一出光部31_1和第二出光部31_2之前。例如，在图4中，第一距离测量部50_1和第二距离测量部50_2也可以分别布置在相对于第一出光部31_1和第二出光部31_2的左侧。

第一位置调节部35_1和第二位置调节部37_1分别连接到第一出光部31_1和第一收光部33_1。在一些实施例中，第一位置调节部35_1和第二位置调节部37_1可以连接成悬挂到布置在台10a上方的支承台90上。第一位置调节部35_1和第二位置调节部37_1可以配置为沿长度方向可伸缩，从而可调节第一出光部31_1和第一收光部33_1的高度。

第三位置调节部71连接涂覆部70和支承台90，并配置为沿第三方向DR3可伸缩，以调节涂覆部70的高度。

第四位置调节部35_2和第五位置调节部37_2分别连接到第二出光部31_2和第二收光部33_2。在一些实施例中，第四位置调节部35_2和第五位置调节部37_2可以固定在支承表面上，其中台10a位于第四位置调节部35_2和第五位置调节部37_2之间，但不限于此。第四位置调节部35_2和第五位置调节部37_2可以配置为沿长度方向可伸缩，从而可调节第二出光部31_2和第二收光部33_2的高度。

在一些实施例中，第一位置调节部35_1、第二位置调节部37_1、第三位置调节部71、第四位置调节部35_2和第五位置调节部37_2可实现为沿长度方向可伸缩的汽缸或机械臂等，但不限于此。在一些实施例中，第一位置调节部35_1、第二位置调节部37_1、第三位置调节部71、第四位置调节部35_2和第五位置调节部37_2中的至少一个也可以包括其至少一部分配置为能够移动的滑动构件或线性移动引导件等。

控制部100控制台10a、涂覆部70、第一出光部31_1、第二出光部31_2、第一收光部33_1、第二收光部33_2、第一距离测量部50_1、第二距离测量部50_2、第一位置调节部35_1、第二位置调节部37_1、第三位置调节部71、第四位置调节部35_2和第五位置调节部37_2中的至少一个。

控制部100可以控制第四位置调节部35_2，以基于由第二距离测量部50_2测量的第二距离来调节第二出光部31_2的高度。

控制部100可以基于由第二收光部33_2接收的第二光束LB_2的量来检测在目标基板T的下表面上的尺寸大于或等于预设尺寸的粒子。

下面将在图9至图11中描述涂覆装置1a的具体操作。

图5是示出根据一实施例的制造显示装置的方法的流程图。图6至图8是示出根据一实施例的制造显示装置的方法的步骤的图。

参照图5至图8，制造显示装置的方法可以包括：步骤S101，通过至少一个距离测量仪测量距目标基板T的一个表面的距离；以及步骤S102，基于所测量的距离调节目标基板T的一个表面与横跨目标基板T的一个表面的至少一个光束之间的间距。

测量距目标基板T的一个表面的距离的步骤S101可以包括：通过布置在目标基板T的上表面上的第一距离测量部50测量距目标基板T的上表面的距离的步骤。

调节目标基板T的一个表面与至少一个光束之间的间距的步骤(S102)可以包括：当距目标基板T的上表面的距离小于或等于预设值时，提升第一出光部31的步骤，其中，第一出光部31将第一光束LB发射到目标基板T的上表面上以横跨目标基板T的上表面。

制造显示装置的方法还可以包括以下步骤中的至少一个：基于所测量的距离，调节布置在目标基板T的一个表面上的涂覆部70与目标基板T的一个表面之间的间距的步骤；以及基于距目标基板T的一个表面的距离和目标基板T的一个表面与至少一个光束之间的间距，计算目标基板T的一个表面上的粒子P的尺寸的步骤。

制造显示装置的方法不限于上述示例，且参照图1至图4，可以省略上述步骤中的至少一部分，或者可以进一步包括至少一个其他步骤。

以下，将参照图6至图8详细描述制造显示装置的方法。根据一实施例的制造显示装置的方法可以通过图1至图2的涂覆装置1来执行。

以下，将例示使用涂覆装置1制造显示装置的方法，但是能够使用涂覆装置1的工艺不限于上述示例。涂覆装置1可以用于将涂覆材料涂覆到基板上的各种工艺，例如，分配工艺、涂覆工艺或印刷工艺。

参照图6，装载在台10上的目标基板T可以向一侧方向移动。

当目标基板T位于第一距离测量部50的下方时，第一距离测量部50可以测量从第一距离测量部50到目标基板T的上表面的第一距离D1。

参照图1和图6，第一距离测量部50可布置为多个，并且可以分别测量目标基板T的上表面的彼此不同的区域的高度。例如，三个第一距离测量部50可以分别测量距与目标基板T的第二方向DR2上的一侧相邻的一个区域、与目标基板T的第二方向DR上的另一侧相邻的另一个区域、以及上述一个区域与上述另一个区域之间的中间区域的距离。控制部100可以基于从多个第一距离测量部50获得的多个距离值以及由第一收光部33接收的第一光束LB的光量变化，精确地识别目标基板T的上表面是否弯曲或目标基板T的上表面上是否存在粒子P。

当测量到第一距离D1时，控制部100可以基于所测量的第一距离D1计算目标基板T的上表面的高度。在一些实施例中，第一距离测量部50也可以在没有布置目标基板T的情况下，测量第一距离测量部50与台10的上表面之间的距离之后，在装载目标基板T的情况下，测量第一距离测量部50与目标基板T的上表面之间的距离，从而计算目标基板T的厚度Ht。

在计算出目标基板T的上表面的高度之后，第一位置调节部35、第二位置调节部37和/或第三位置调节部71可以对应于目标基板T的上表面的高度来调节第一出光部31、第一收光部33和/或涂覆部70的高度。

第一出光部31和/或第一收光部33的高度可以分别通过第一位置调节部35和第二位置调节部37来调节，使得第一光束LB与目标基板T的上表面间隔开第一间距D2。第一间距D2可以是第三方向DR3上的间距。第一间距D2可以小于或等于在涂覆工艺中要检测的目标基板T上的粒子P的高度Ph。

可通过第三位置调节部71将涂覆部70的高度调节为与目标基板T的上表面间隔开第二间距D3。第二间距D3可以是第三方向DR3上的间距。第二间距D3可以大于第一间距D2。第二间距D3可以大于或等于在涂覆工艺中要检测的目标基板T上的粒子P的尺寸。

参照图7，在调节第一出光部31和/或涂覆部70的高度之后，目标基板T沿第一方向DR1移动，并穿过第一光束LB和涂覆部70的下方。此时，涂覆部70可将涂覆材料M涂覆到目标基板T的上表面上。涂覆材料M可以包括用于在目标基板T上形成至少一个层的材料，例如，用于形成发光层、薄膜封装层或滤色器层等的材料。

在目标基板T沿第一方向DR1移动期间，第一光束LB可以与目标基板T的上表面保持第一间距D2，并且控制部100可以监视由第一收光部33接收的第一光束LB的光量的变化。

粒子P可位于目标基板T上。粒子P可以是在涂覆工艺前或涂覆工艺期间可能会粘附到目标基板T上的异物。上述异物位于涂覆材料M和目标基板T之间，从而可导致坏件，并且在目标基板T移动时，上述异物夹在涂覆部70和目标基板T之间，从而可导致目标基板T划伤等。可以通过由第一收光部33接收的第一光束LB的光量的变化来检测这种粒子P。

当第一光束LB的光量没有变化或者光量的变化在预设范围内时，涂覆部70可以连续地执行将涂覆材料M涂覆到目标基板T的上表面上的涂覆工艺。即，当在目标基板T的上表面上没有检测出尺寸大于或等于预设尺寸的粒子P时，控制部100可以控制台10和涂覆部70以继续执行涂覆工艺。

当第一光束LB的光量的变化大于或等于预设范围时，控制部100可以中断或中止涂覆工艺。具体地，当在目标基板T的上表面上存在高度大于第一间距D2的粒子P时，其会阻挡或阻碍第一光束LB的路径。因此，由第一收光部33接收的第一光束LB的光量可减少到小于或等于预设值，或者第一收光部33可能接收不到第一光束LB。在这种情况下，控制部100可以通过第一收光部33检测第一光束LB的光量变化，以控制涂覆部70和/或台10中断或中止涂覆工艺。然后，可以将目标基板T传送到涂覆装置1的外部以进行清洗。

在一些实施例中，当第一光束LB的光量的变化大于或等于预设范围时，控制部100可以控制第三位置调节部71以向上移动涂覆部70。由此，涂覆部70可避开目标基板T的上表面上的异物。在一些实施例中，控制部100可以根据第一光束LB的光量的变化程度来移动涂覆部70或中止涂覆工艺。例如，当第一光束LB的光量的变化在第一预设范围内时，控制部100可以向上移动涂覆部70，而当第一光束LB的光量的变化在大于第一预设范围的第二预设范围内时，控制部100可以在向上移动涂覆部70的同时中止或停止涂覆工艺。

参照图8，粒子P可位于目标基板T与台10之间。即，与图7的情况不同，粒子P可位于目标基板T的下表面上。由于粒子P具有预定的高度，因此会导致目标基板T弯曲。在这种情况下，可以对应于目标基板T的弯曲而调节第一出光部31和/或涂覆部70的高度。

第一距离测量部50测量距目标基板T的上表面的第一距离D1'，并且控制部100可以监视第一距离D1'的变化量。控制部100可以基于第一距离D1'的变化量来计算目标基板T的上表面的高度的变化量，并且可以对应于目标基板T的上表面的高度的变化量来控制第一出光部31和/或涂覆部70的高度。在一些实施例中，当所测量的目标基板T的上表面的高度变化量大于或等于预设范围时，控制部100可以中断或中止涂覆工艺。

例如，经过第一距离测量部50下方的目标基板T的上表面可能会由于目标基板T的弯曲而逐渐变高。在这种情况下，由第一距离测量部50测量的第一距离D1'会减小。当所测量的第一距离D1'小于或等于预设值时，控制部100可升高第一出光部31。控制部100可考虑第一距离D1'减小的量来确定第一出光部31的上升距离。由此，第一光束LB可以上升以与目标基板T的上表面保持恒定的第一间距D2。即，涂覆装置1可以通过移动第一出光部31使得第一光束LB对应于目标基板T的弯曲而与目标基板T保持恒定间距，从而防止由于第一光束LB的光量变化而导致的错误检测，并连续地检测弯曲的目标基板T的上表面上的尺寸大于或等于预设尺寸的粒子P。在一些实施例中，控制部100可以通过计算第一距离D1'的单位时间变化量来控制第一出光部31的上升距离和/或上升速度。

在一些实施例中，由于通过第一距离测量部50计算目标基板T的上表面的精确高度，因此即使目标基板T弯曲，也可以精确地检测出目标基板T的上表面上的粒子P。此时，可以基于第一光束LB的光量的变化、目标基板T的上表面的高度以及第一间距D2来计算粒子P的高度Ph。

图9至图11是示出根据另一实施例的制造显示装置的方法的步骤的图。

图9至图11的实施例与图6至图8的实施例的不同之处在于，可以进一步检测目标基板T的下表面的弯曲以及目标基板T的下表面上的粒子P。

参照图5、图9至图11，测量距目标基板T的一个表面的距离的步骤S101可以包括：通过布置在目标基板T的下方的第二距离测量部50_2测量距目标基板T的下表面的距离的步骤。

调节目标基板T的一个表面与至少一个光束之间的间距的步骤S102可以包括：当距目标基板T的下表面的距离小于或等于预设值时，降低第二出光部31_2的步骤，其中第二出光部31_2将第二光束LB_2发射到目标基板T的下表面上以使第二光束LB_2横跨目标基板T的下表面。

参照图3、图4和图9，台10a可以是通过气压使目标基板T悬浮的气浮台。由此，可以在目标基板T的下表面与台10a的上表面之间形成间距。目标基板T可以在与台10a间隔开的状态下沿第一方向DR1移动。

第一出光部31_1可以将第一光束LB_1发射到目标基板T的上表面上。第一光束LB_1可以与目标基板T的上表面间隔开第一间距D2。

第二出光部31_2可以将第二光束LB_2发射到目标基板T的下表面上。第二光束LB_2可以与目标基板T的下表面间隔开第三间距D5。在这种情况下，第二光束LB_2可以穿过目标基板T的下表面和台10a的上表面之间。即，目标基板T可以移动为穿过第一光束LB_1和第二光束LB_2之间。

当目标基板T沿第一方向DR1移动时，第一距离测量部50_1可以测量距目标基板T的上表面的第一距离D1，且第二距离测量部50_2可以测量距目标基板T的下表面的第二距离D4。控制部100可基于所测量的第一距离D1和第二距离D4分别计算目标基板T的上表面和下表面的高度的变化量。可以布置多个第一距离测量部50_1和多个第二距离测量部50_2。在一些实施例中，可以基于第一距离D1和第二距离D4来计算目标基板T的精确的厚度Ht和/或厚度Ht的变化量。

控制部100可以控制第一位置调节部35_1和第四位置调节部35_2，以对应于目标基板T的上表面和下表面的高度的变化量来调节第一出光部31_1和第二出光部31_2的高度。控制部100监视目标基板T的上表面和下表面的高度的变化量，并控制第一位置调节部35_1和第四位置调节部35_2，以保持第一间距D2和第三间距D5恒定。在这种情况下，可以分别通过第二位置调节部37_1和第五位置调节部37_2对应于第一出光部31_1和第二出光部31_2的高度而调节第一收光部33_1和第二收光部33_2的高度。

当所测量的第一距离D1和/或第二距离D4大于或等于预设范围时，控制部100可移动涂覆部70的位置，或者中止或中断涂覆工艺。例如，当第一距离D1减小时，涂覆部70可以上升，而当第一距离D1增大时，涂覆部70可以下降。即，在使用气浮台的情况下，涂覆装置1a可以对应于目标基板T的根据气体喷射的竖直运动而移动第一出光部31_1和/或第二出光部31_2，从而精确地检测目标基板T的上表面或下表面上的粒子P。

参照图3、图4和图10，当粒子P位于目标基板T的上表面上时，控制部100可以基于由第一收光部33_1接收的第一光束LB_1的光量的变化来确定是否存在尺寸大于或等于预设尺寸的粒子P。对于目标基板T的上表面上的粒子P的检测与图7的实施例基本相同或相似，因此以下将省略其详细描述。

参照图3、图4和图11，当粒子P位于目标基板T的下表面上时，控制部100可以基于由第二收光部33_2接收的第二光束LB_2的光量的变化来确定是否存在尺寸大于或等于预设尺寸的粒子P。预设尺寸可以大于或等于第三间距D5。具体地，当具有大于第三间距D5的高度的粒子P位于目标基板T的下表面上时，其会阻挡或阻碍第二光束LB_2的路径，从而可导致由第二收光部33_2接收的第二光束LB_2的光量的变化。当第二光束LB_2的光量变化大于或等于预设范围时，控制部100可中止或中断涂覆部70的操作。

在一些实施例中，由于通过第一距离测量部50_1和第二距离测量部50_2计算目标基板T的上表面和下表面的精确的高度，因此，即使目标基板T弯曲，也可以计算出目标基板T的上表面和/或下表面上的粒子P的精确的高度。

除了可以进一步检测目标基板T的下表面的弯曲和目标基板T的下表面上的粒子P之外，图9至图11的实施例与图6至图8的实施例基本相同或相似，因此，以下将省略重复的描述。

以上参照附图对本发明的实施例进行了说明，但本发明所属技术领域的普通技术人员将理解，在不改变本发明的技术思想或必要特征的情况下，可以以其他具体形式实施本发明。因此，以上记载的实施例应理解为在所有方面都是示例性的，而不是限制性的。