一种平幅双层轧洗机

技术领域

本发明涉及纺织印染设备技术领域，具体为一种平幅双层轧洗机。

背景技术

本发明专利是棉及其混纺织物浸入化学助剂在一定时间内的高温汽蒸作用后，通过水洗轧水工序去除织物中含有棉籽壳、果胶等杂质和织造时加入的浆料目的。使织物具有良好的润湿性、平整度、均匀性、白度等半制品指标。该设备是印染平幅前处理中的重要设备，是各类织物染色、印花等加工的基础，是最终产品质量的基本保证。

目前棉及棉混纺织物的水洗绝大多数采用的是单幅布的水洗机、轧车，因单幅布连续生产工艺车速在90米/分钟以下，生产效率低，万米能耗高等问题。因此，本发明设计一种平幅双层轧洗机以解决现有技术中存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种平幅双层轧洗机，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种平幅双层轧洗机，包括两组水洗箱体，两组所述水洗箱体的内顶部与内底部皆均匀设置有大导布辊，所述水洗箱体的内侧皆均匀设置有两排小导布辊，所述小导布辊皆设置在各组大导布辊之间位置处，且小导布辊皆与对应大导布辊的位置相适合，两组所述水洗箱体之间安装有封闭箱体，且封闭箱体内部的中间位置处设置有多组过布导布辊，所述过布导布辊一侧皆设置有与其位置相适合的扩幅辊，所述水洗箱体内侧壁的中间位置处均匀设置有轧车，且轧车与过布导布辊、扩幅辊的位置相适合，所述封闭箱体内部的一端设置有两组松紧架，且松紧架皆与对应轧车的位置相适合，所述水洗箱体的内底部皆均匀设置有加热部件，所述大导布辊与小导布辊外侧设置有一号布与二号布，且一号布与二号布与过布导布辊、扩幅辊、轧车、松紧架的位置相适合。

优选的，所述大导布辊与小导布辊皆设置有上下两支导布辊，其中上方大导布辊与下方小导布辊穿一幅布，上方小导布辊与下方大导布辊穿另一幅布。

优选的，所述封闭箱体内设计有两套过布导布辊，两套扩幅辊，两套轧车，两套松紧架。

优选的，所述水洗箱体的内侧壁上皆均匀设置有保温层。

优选的，所述大导布辊与小导布辊的外侧皆设置有机械密封与轴承。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：该平幅双层轧洗机专利由同样的操作人员使用一台设备，使两幅布分开穿布，可同时加工两幅布，单幅布连续生产工艺车速可达180米/分钟以上，提高生产率，避免皱折的产生并提高了水洗效果，且该装置结合内侧的加热部件，对箱体内的洗液进行加热，实现洗液与织物中的污物进行置换，便于对织物进行充分的水洗。

附图说明

图1为本发明的主视剖视示意图。

图中：1、一号布；2、二号布；3、水洗箱体；4、大导布辊；5、小导布辊；6、过布导布辊；7、扩幅辊；8、轧车；9、封闭箱体；10、松紧架；11、保温层；12、加热部件。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1，本发明提供的一种实施例：一种平幅双层轧洗机，包括两组水洗箱体3，两组水洗箱体3的内顶部与内底部皆均匀设置有大导布辊4，水洗箱体3的内侧皆均匀设置有两排小导布辊5，小导布辊5皆设置在各组大导布辊4之间位置处，且小导布辊5皆与对应大导布辊4的位置相适合，两组水洗箱体3之间安装有封闭箱体9，且封闭箱体9内部的中间位置处设置有多组过布导布辊6，过布导布辊6一侧皆设置有与其位置相适合的扩幅辊7，水洗箱体3内侧壁的中间位置处均匀设置有轧车8，且轧车8与过布导布辊6、扩幅辊7的位置相适合，实现匀速、稳定的对织物进行导向输送，提高了该装置对织物练漂的稳定性与高效性，封闭箱体9内部的一端设置有两组松紧架10，且松紧架10皆与对应轧车8的位置相适合，水洗箱体3的内底部皆均匀设置有加热部件12，大导布辊4与小导布辊5外侧设置有一号布1与二号布2，且一号布1与二号布2与过布导布辊6、扩幅辊7、轧车8、松紧架10 的位置相适合。

在本实施中：大导布辊4与小导布辊5皆设置有上下两支导布辊，其中上方大导布辊4与下方小导布辊5穿一幅布，上方小导布辊5与下方大导布辊4穿另一幅布，两幅布之间在运行过程中是分开的，以实现均匀预热织物的目的，封闭箱体9内设计有两套过布导布辊6，两套扩幅辊7，两套轧车8，两套松紧架10，使两幅布分开穿布，分开运行，水洗箱体3的内侧壁上皆均匀设置有保温层11，提高隔热效果，避免热量流失，导致热源的损耗增加，大导布辊4与小导布辊5的外侧皆设置有机械密封与轴承，便于密封、张力小和维修。

尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。