镀膜装置

技术领域

本发明涉及镀膜装置技术领域，特别是涉及镀膜装置。

背景技术

轴承在各行各业应用广泛，其性能和质量也直接影响着相应整机产品的性能和寿命，所以对轴承的需求一直朝着高性能、高寿命的方向发展，从而对轴承中的滚珠和沟道的润滑性和耐磨性提出了更高的要求。在这样的发展需求下，对高精度的滚珠及沟道镀膜应运而生。

在医疗器械应用领域中，CT机的核心部件CT球管主要用于产生X射线，从而对人体/动物的各部位进行照射以检查各部位的病理情况。CT机在工作状态时，CT球管处于高温高真空高转速的运行状态。其中，轴承作为CT球管的高转速功能部件，其不仅需要有良好的润滑性和耐磨性，同时还需在高转速下起到导电的作用，轴承的性能决定着CT球管的性能和寿命。为了使轴承具有良好的润滑性、耐磨性以及导电性，在轴承的滚珠上镀膜已成为制备轴承时的必备要求。

然而，采用目前的镀膜装置对滚珠镀膜，滚珠表面的膜层均匀性较差，不满足高端设备对轴承性能的需求。

发明内容

基于此，有必要针对采用目前的镀膜装置对滚珠镀膜，滚珠表面的膜层均匀性较差的技术问题，提供一种镀膜装置，能够改善滚珠表面的膜层均匀性。

一种镀膜装置，用于为待镀膜件镀膜，包括：

真空室；

至少一个转盘，所述至少一个转盘位于所述真空室内，所述转盘内具有用于容纳所述待镀膜件的盘腔，所述盘腔内设置有扰动棒，所述扰动棒与所述盘腔的底壁之间具有间隙；以及

传动机构，所述传动机构位于所述真空室内，所述传动机构用于带动所述转盘绕自身中心轴线相对所述扰动棒转动，以致所述扰动棒改变所述待镀膜件在所述盘腔内的滚动方向。

在一实施例中，所述传动机构包括转台和传动件，所述至少一个转盘设置于所述转台上，所述转台在所述传动件的带动下绕自身中心轴线转动；

所述镀膜装置还包括与所述扰动棒对应的连接棒，所述连接棒固定于所述真空室或所述转台，以致所述转盘绕自身中心轴线转动时相对所述扰动棒转动，所述扰动棒的至少一端固定于对应的所述连接棒。

在一实施例中，其中一个所述转盘为中央转盘，所述中央转盘与所述转台同轴转动，所述中央转盘内的扰动棒对应的连接棒固定于所述真空室。

在一实施例中，至少一个所述转盘为行星转盘，所述行星转盘的中心轴线与所述转台的中心轴线间隔设置，所述转台上设置有与所述行星转盘对应的传动单元，所述传动单元带动对应的所述行星转盘绕自身中心轴线转动；所述行星转盘内的扰动棒对应的连接棒固定于所述转台。

在一实施例中，所述扰动棒具有沿长度方向的第一端和第二端，所述第一端相对所述第二端靠近所述转盘的中心轴线；

至少一个所述扰动棒为第一类扰动棒，所述第一类扰动棒的所述第一端固定于对应的所述连接棒，所述连接棒连接于所述第一端的一端处于所述转盘的中心。

在一实施例中，至少一个所述扰动棒为第一类扰动棒，所述第一类扰动棒的直径与所述间隙的高度之和为待镀膜滚珠的直径的1/6～1/3。

在一实施例中，所述第一类扰动棒为直棒或弧形棒。

在一实施例中，所述扰动棒具有沿长度方向的第一端和第二端，所述第一端相对所述第二端靠近所述转盘的中心轴线；

至少一个所述扰动棒为第二类扰动棒，所述第二类扰动棒的所述第一端与对应的所述转盘的中心轴线间隔设置；沿所述转盘的转动方向，所述第二类扰动棒的后侧表面为凸弧面，所述第二类扰动棒的第一端位于所述第二端的前方。

在一实施例中，所述第二类扰动棒的直径与所述间隙的高度之和为待镀膜滚珠的直径的1/6～1/2。

在一实施例中，所述第二类扰动棒的所述第一端与对应的所述转盘的中心轴线之间的距离为所述转盘的半径的1/4～1/2。

在一实施例中，所述盘腔的底壁至少包括倾斜部分，所述倾斜部分沿所述转盘的径向向外的一端与所述盘腔的侧壁连接；沿所述转盘的径向从外向内，所述倾斜部分逐渐向下倾斜。

在一实施例中，所述盘腔的底壁还包括与所述倾斜部分连接的平底部分，所述倾斜部分围绕于所述平底部分外围。

在一实施例中，所述扰动棒具有沿长度方向的第一端和第二端，所述第一端相对所述第二端靠近所述转盘的中心轴线；所述第二端位于所述盘腔沿所述转盘的径向的外边缘处。

在一实施例中，所述盘腔内设置有沿所述转盘的周向依次排列的多个所述扰动棒。

在一实施例中，所述传动机构包括转台和传动件，所述转台在所述传动件的传动下绕自身中心轴线转动；其中一个所述转盘为中央转盘，所述中央转盘与所述转台同轴转动；至少一个所述转盘为行星转盘，所述行星转盘位于所述中央转盘的外侧，所述转台上设置有与所述行星转盘对应的传动单元，所述传动单元传动对应的所述行星转盘绕自身中心轴线转动；

所述镀膜装置还包括连接于所述真空室的多个靶源；

所述靶源具有能相互切换的第一角度和第二角度，在所述第一角度时，所述靶源的靶面朝向所述中央转盘；在所述第二角度时，所述靶源的靶面朝向所述行星转盘的移动区域，且所述行星转盘移动至与所述靶源的靶面相对时，所述靶源发射靶材粒子时所形成的发射区域在所述行星转盘上的投影覆盖所述行星转盘。

上述的镀膜装置，转盘的盘腔内设置有扰动棒。传动机构带动转盘绕自身中心轴线相对扰动棒转动时，转盘能够带动盘腔内的待镀膜件共同沿转盘的周向相对于扰动棒转动。转盘的转动带动待镀膜件克服扰动棒的阻碍使得待镀膜件从扰动棒的一侧运动至扰动棒的另一侧的过程中，待镀膜件的运动状态则受到扰动棒的干扰，从而扰动棒使得待镀膜件在转盘的盘腔内的滚动方向改变，进而有利于改善待镀膜件表面的膜层均匀性。转盘相对于扰动棒转动时，间隙的存在使得扰动棒与盘腔的底壁之间不会产生摩擦，从而能够避免扰动棒与盘腔的底壁由于摩擦而产生的剐蹭物粘附在待镀膜件的表面，进而能尽量地保证待镀膜件表面的膜层均匀性。

附图说明

图1为一些实施例的镀膜装置的结构示意图；

图2为一些实施例的转盘、第一类扰动棒以及连接棒的连接关系示意图；

图3为另一些实施例的转盘、第一类扰动棒以及连接棒的连接关系示意图；

图4为一些实施例的转盘、第二类扰动棒以及连接棒的连接关系示意图；

图5为一些实施例的转盘和扰动棒的连接关系剖视图；

图6为又一些实施例的转盘和扰动棒的连接关系剖视图。

附图标号说明：

镀膜装置100；

真空室110；

靶源120；连接件121；

转盘130；中央转盘131；行星转盘132；盘腔101；底壁1011；平底部分1011a；倾斜部分1011b；侧壁1012；

扰动棒140；第一类扰动棒141；第二类扰动棒142；

转台150；

连接棒160；第一连接棒161；第二连接棒162；

第一固定棒171；第二固定棒172；

固定杆180。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

请参考图1，本申请一实施例提供一种镀膜装置100。镀膜装置100包括：真空室110、至少一个转盘130以及传动机构(未示出)。

镀膜装置100用于对待镀膜件(未示出)镀膜。待镀膜件可以是CT球管中的轴承的滚珠。待镀膜件还可以为其他机械设备的零部件中的滚珠。待镀膜件还可以为除滚珠以外的其他待镀膜件。

真空室110内设置有靶源120。在真空镀膜技术领域，真空室110和靶源120的作用为公知常识，在此不再赘述。

如图1所示，在本实施例中，真空室110的相对的两个侧壁上分别设置有靶源120。真空室110的顶壁上设置有两个靶源120。可以理解的是，靶源120的数量和分布方式不限于此。

转盘130和传动机构均位于真空室110内。转盘130内具有盘腔101，盘腔101用于容纳待镀膜件。传动机构带动转盘130绕自身中心轴线(即沿转盘130的周向)转动，则转盘130能够携带盘腔101内的待镀膜件共同沿转盘130的周向转动，从而使得待镀膜件相对于靶源120转动，以便对盘腔101内的待镀膜件均匀地镀膜。转盘130携带盘腔101内的待镀膜件共同沿转盘130的周向转动的过程中，待镀膜件同时能在盘腔101内相对转盘130滚动，待镀膜件的滚动也能提高镀膜的均匀性。

如图1至图4所示，转盘130的盘腔101内设置有扰动棒140。传动机构带动转盘130绕自身中心轴线转动时，转盘130相对于扰动棒140转动，从而转盘130携带待镀膜件沿转盘130的周向相对于扰动棒140转动。

当待镀膜件随转盘130沿转盘130的周向转动至扰动棒140所在位置时，扰动棒140则能够在转盘130的周向上阻碍待镀膜件的运动。直至转盘130的转动带动待镀膜件克服扰动棒140的阻碍时，则待镀膜件从扰动棒140的一侧运动至扰动棒140的另一侧，此时，待镀膜件则能够继续随转盘130沿转盘130的周向转动，从而继续进行镀膜。转盘130的转动带动待镀膜件克服扰动棒140的阻碍使得待镀膜件从扰动棒140的一侧运动至扰动棒140的另一侧的过程中，待镀膜件的运动状态则受到扰动棒140的干扰，从而扰动棒140使得待镀膜件在转盘130的盘腔101内的滚动方向改变，进而有利于改善待镀膜件表面的膜层均匀性。

参考图5和图6，扰动棒140与盘腔101的底壁1011之间具有间隙102，转盘130相对于扰动棒140转动时，间隙102的存在使得扰动棒140与盘腔101的底壁1011之间不会产生摩擦，从而能够避免扰动棒140与盘腔101的底壁1011由于摩擦而产生的剐蹭物粘附在待镀膜件的表面，进而能尽量地保证待镀膜件表面的膜层均匀性。

上述的镀膜装置100，转盘130的盘腔101内设置有扰动棒140。传动机构带动转盘130绕自身中心轴线相对扰动棒140转动时，转盘130能够带动盘腔101内的待镀膜件共同沿转盘130的周向相对于扰动棒140转动。转盘130的转动带动待镀膜件克服扰动棒140的阻碍使得待镀膜件从扰动棒140的一侧运动至扰动棒140的另一侧的过程中，待镀膜件的运动状态则受到扰动棒140的干扰，从而扰动棒140使得待镀膜件在转盘130的盘腔101内的滚动方向改变，进而有利于改善待镀膜件表面的膜层均匀性。转盘130相对于扰动棒140转动时，间隙102的存在使得扰动棒140与盘腔101的底壁1011之间不会产生摩擦，从而能够避免扰动棒140与盘腔101的底壁1011由于摩擦而产生的剐蹭物粘附在待镀膜件的表面，进而能尽量地保证待镀膜件表面的膜层均匀性。

在一实施例中，镀膜装置100还包括驱动结构(未示出)，驱动结构设于真空室110外。驱动结构例如是电机等。驱动结构用于驱动传动机构动作，使得传动机构带动转盘130绕自身中心轴线相对扰动棒140转动。

请参考图2至图4，在一实施例中，扰动棒140具有沿长度方向的第一端140a和第二端140b。第一端140a相对第二端140b靠近转盘130的中心轴线。由于第一端140a和第二端140b到转盘130的中心轴线的距离不同，即第一端140a和第二端140b沿转盘130的径向的位置不同，从而扰动棒140在转盘130的径向上具有一定的尺寸，进而，扰动棒140则能够在转盘130的周向上阻碍和干扰待镀膜件的运动，以使得待镀膜件在转盘130的盘腔101内的滚动方向改变。

请参考图1，在一实施例中，传动机构包括转台150和传动件(未示出)。传动件例如是齿轮等结构。所述至少一个转盘130设置于转台150上。转台150在传动件的传动下绕自身中心轴线转动，从而转盘130能随转台150共同转动，有利于对盘腔101内的待镀膜件均匀地镀膜。

结合图1至图4，镀膜装置100还包括与扰动棒140对应的连接棒160，连接棒160固定于真空室110或转台150，以致转盘130绕自身中心轴线转动时相对扰动棒140转动。扰动棒140的至少一端固定于对应的连接棒160。

具体地，由于连接棒160固定于真空室110或转台150，且扰动棒140的至少一端固定于对应的连接棒160，从而方便实现转盘130绕自身中心轴线转动时相对扰动棒140转动。

针对不同的转盘130对应的扰动棒140所连接的连接棒160，连接棒160可以固定于转台150或者真空室110，下面在不同的实施例中详细介绍。

请参考图1，在一些实施例中，其中一个转盘130为中央转盘131，中央转盘131的中心轴线与转台150的中心轴线重合，从而中央转盘131能够与转台150同轴转动。中央转盘131可以固定在转台150上。中央转盘131与转台150同轴转动时，则能够带动中央转盘131的盘腔101内的待镀膜件绕中央转盘131的中心轴线与转台150的中心轴线转动，从而使得中央转盘131的盘腔101内的待镀膜件相对于靶源120转动，以便对中央转盘131的盘腔101内的待镀膜件均匀地镀膜。

在一实施例中，镀膜装置100还包括驱动件(未示出)，驱动件设于真空室110外。驱动件例如是电机等。驱动件用于驱动传动件动作，使得传动件带动转台150转动，从而使得中央转盘131与转台150同步转动。

请参考图1，在一些实施例中，中央转盘131内的扰动棒140对应的连接棒160为第一连接棒161。第一连接棒161固定于真空室110。在本实施例中，中央转盘131内的扰动棒140的第一端140a固定于对应的第一连接棒161。由于第一连接棒161固定于真空室110，从而使得中央转盘131内的扰动棒140与真空室110相对固定，进而能够使得中央转盘131绕自身中心轴线转动时相对扰动棒140转动，以改变待镀膜件在中央转盘131内的滚动方向。

在其他实施例中，也可以令中央转盘的盘腔内的扰动棒的第二端固定于对应的第一连接棒。或者，令中央转盘的盘腔内的扰动棒的第二端和第一端分别固定于各自对应的第一连接棒。

如图1所示，在一些具体的实施例中，镀膜装置100还包括与第一连接棒161对应的第一固定棒171。第一连接棒161的延伸方向沿中央转盘131的轴向，第一连接棒161的一端连接于中央转盘131内的扰动棒140，第一连接棒161的另一端连接于第一固定棒171。第一固定棒171的延伸方向沿中央转盘131的径向，第一固定棒171远离第一连接棒161的一端固定于真空室110，从而使得第一连接棒161和中央转盘131内的扰动棒140均与真空室110相对固定。

此外，通过令第一连接棒161的延伸方向沿中央转盘131的轴向，第一固定棒171的延伸方向沿中央转盘131的径向，则能够尽量避免镀膜过程中第一连接棒161和第一固定棒171对靶源发射的靶材粒子的遮挡，从而能够尽量避免对膜层的均匀性的影响。

在其他实施例中，也可以令第一连接棒的延伸方向倾斜于中央转盘的轴向，第一固定棒的延伸方向倾斜于中央转盘的径向。还可以不设置第一固定棒，而是将第一连接棒远离扰动棒的一端直接固定于真空室的顶壁。

请参考图1，在一些实施例中，至少一个转盘130为行星转盘132。在本实施例中，多个行星转盘132沿转台150的周向依次排列。转台150上设置有与行星转盘132对应的传动单元，因此，转台150在传动件的传动下绕自身中心轴线转动时，能够带动行星转盘132和与行星转盘132对应的传动单元共同围绕转台150的中心轴线转动。传动单元例如是齿轮等结构。

由于行星转盘132的中心轴线与转台150的中心轴线间隔设置，因此，转台150在传动件的传动下绕自身中心轴线转动时，同时携带行星转盘132围绕转台150的中心轴线公转。同时，传动单元传动对应的行星转盘132绕自身中心轴线自转。由此可见，行星转盘132能够同时围绕转台150的中心轴线公转且绕自身中心轴线自转，从而有利于行星转盘132的盘腔101内的待镀膜件均匀镀膜。

在其他实施例中，行星转盘的数量也可以是一个。

在一实施例中，镀膜装置100还包括驱动单元(未示出)，驱动单元位于真空室110外并与转台150连接。驱动单元例如是电机等。驱动单元用于驱动传动单元动作，使得传动单元带动行星转盘132绕自身中心轴线转动，从而行星转盘132相对行星转盘132内的扰动棒140转动。

请参考图1，在一些实施例中，行星转盘132内的扰动棒140对应的连接棒160为第二连接棒162。在本实施例中，行星转盘132内的扰动棒140的第一端140a固定于对应的第二连接棒162，第二连接棒162固定于转台150，从而使得行星转盘132内的扰动棒140与转台150相对固定。又由于与行星转盘132对应的传动单元设置于转台150上，因此，传动单元带动行星转盘132绕自身中心轴线转动时，行星转盘132与行星转盘132内的扰动棒140相对转动，从而行星转盘132自转时行星转盘132内的扰动棒140能够沿行星转盘132的周向阻碍行星转盘132的盘腔101内的待镀膜件，以改变待镀膜件的滚动方向。

在其他实施例中，也可以令行星转盘的盘腔内的扰动棒的第二端固定于对应的第二连接棒。或者，令行星转盘的盘腔内的扰动棒的第二端和第一端分别固定于各自对应的第二连接棒。

如图1所示，在一些具体的实施例中，镀膜装置100还包括与第二连接棒162对应的第二固定棒172。第二连接棒162的延伸方向沿行星转盘132的轴向，第二连接棒162的一端连接于扰动棒142，第二连接棒162的另一端连接于第二固定棒172。第二固定棒172的延伸方向沿行星转盘132的径向，第二固定棒172远离第二连接棒162的一端固定于转台150，从而使得第二连接棒162和行星转盘132内的扰动棒140均与转台150相对固定。

此外，通过令第二连接棒162的延伸方向沿行星转盘132的轴向，第二固定棒172的延伸方向沿行星转盘132的径向，则能够尽量避免镀膜过程中第二连接棒162和第二固定棒172对靶源发射的靶材粒子的遮挡，从而能够尽量避免对膜层的均匀性的影响。

如图1所示，可在转台150上设置一连接杆180，将第二固定棒172远离第二连接棒162的一端固定于连接杆180，从而方便第二固定棒172与转台150固定。优选地，连接杆180的延伸方向沿行星转盘132的轴向，能够尽量避免镀膜过程中对靶源发射的靶材粒子的遮挡，从而能够尽量避免对膜层的均匀性的影响。

在其他实施例中，也可以令第二连接棒的延伸方向倾斜于行星转盘的轴向，第二固定棒的延伸方向倾斜于行星转盘的径向。

如图1所示，在一些实施例中，上述的至少一个转盘130中，既有一个转盘130为中央转盘131，又有至少一个转盘130为行星转盘132。行星转盘132位于中央转盘131的外侧，因此，行星转盘132围绕转台150的中心轴线公转时，即围绕中央转盘131公转。

参考图2和图3，在一些实施例中，至少一个扰动棒140为第一类扰动棒141。转盘130携带待镀膜件转动时，第一类扰动棒141能够被待镀膜件翻越。具体地，当待镀膜件随转盘130沿转盘130的周向转动至第一类扰动棒141所在位置时，转盘130继续转动以带动待镀膜件克服第一类扰动棒141的阻碍，从而使得待镀膜件从第一类扰动棒141的一侧翻越至第一类扰动棒141的另一侧，进而，待镀膜件翻越第一类扰动棒141时其运动状态则能够受到扰动，以改变待镀膜件在盘腔101内的滚动方向，有利于改善待镀膜件表面的膜层均匀性。

具体地，可以令第一类扰动棒141的直径与间隙102的高度之和小于待镀膜件的高度，从而有利于待镀膜件翻越扰动棒140。

在一些具体的实施例中，待镀膜件为待镀膜滚珠。第一类扰动棒141的直径与间隙102的高度之和为待镀膜滚珠的直径的1/6～1/3。由于第一类扰动棒141的直径与间隙102的高度之和小于或等于待镀膜滚珠的直径的1/3，从而便于待镀膜滚珠翻越第一类扰动棒141。由于第一类扰动棒141的直径与间隙102的高度之和大于或等于待镀膜滚珠的直径的1/6，从而第一类扰动棒141能够对待镀膜滚珠起到足够的阻碍作用，以使得待镀膜滚珠翻越第一类扰动棒141之后改变滚动方向。

如图2所示，在一些实施例中，第一类扰动棒141可以是直棒。

如图3所示，在另一些实施例中，第一类扰动棒141也可以是弧形棒。

如图2和图3所示，在一些实施例中，第一类扰动棒141的第一端140a固定于对应的连接棒160。可以理解的是，第一类扰动棒141设置在中央转盘131内时对应的连接棒160则为第一连接棒161。第一类扰动棒141设置在行星转盘132内时对应的连接棒160则为第二连接棒162。

连接棒160连接于第一端140a的一端(在图2和图3中即连接棒160的下端)位于转盘130的中心处。也就是说，第一类扰动棒141的第一端140a大致延伸至转盘130的中心处，从而能够防止待镀膜件从第一类扰动棒141的第一端140a靠近转盘130中心的一侧绕过第一类扰动棒141，进而能够有效保证待镀膜件随转盘130转动时从第一类扰动棒141的一侧翻越至扰动棒140的另一侧，即保证第一类扰动棒141对待镀膜件扰动的作用。

此外，第一类扰动棒141的第一端140a大致延伸至转盘130的中心处，从而第一类扰动棒141能够对靠近转盘130的中心处的待镀膜件起到扰动作用，进而转盘130中可以同时放置较多的待镀膜件，以提高单次镀膜的效率。

参考图4，在一些实施例中，至少一个扰动棒140为第二类扰动棒142。转盘130携带待镀膜件转动时，第二类扰动棒142不能被待镀膜件翻越。

如图4所示，在本实施例中，第二类扰动棒142的第一端140a与对应的转盘130的中心轴线间隔设置，从而，第二类扰动棒142的第一端140a与对应的转盘130的中心轴线具有一定的距离。

第二类扰动棒142为弧形棒。沿转盘130的转动方向W，第二类扰动棒142的后侧表面140c为凸弧面，第二类扰动棒142的前侧表面140d为凹弧面。第二类扰动棒142的第一端140a位于第二端140b的前方。

待镀膜件随转盘130转动至扰动棒140的后侧表面140c时，由于待镀膜件不能翻越第二类扰动棒142，则会继续随转盘130的转动向前滚动，即沿着第二类扰动棒142的后侧表面140c从第二端140b向第一端140a滚动。直至待镀膜件滚动至第一端140a之后，则能够从第二类扰动棒142的第一端140a与转盘130的中心之间绕过第二类扰动棒142，从而移动至第二类扰动棒142的前侧。此后，待镀膜件则继续随转盘130沿转盘130的周向转动，从而继续进行镀膜。由此可见，由于第二类扰动棒142的阻碍使得待镀膜件沿着扰动棒140的后侧表面140c从第二端140b向第一端140a滚动的过程中，则待镀膜件的运动状态受到扰动，起到了对待镀膜件扰动的作用，从而能改变待镀膜件的滚动方向，有利于改善待镀膜件表面的膜层均匀性。

在一些实施例中，待镀膜件为待镀膜滚珠。第二类扰动棒142的直径与间隙102的高度之和为待镀膜滚珠的直径的1/6～1/2，在该范围内，第二类扰动棒142能部分阻挡或完全阻挡待镀膜滚珠的翻越。第二类扰动棒142的直径与间隙102的高度之和例如是待镀膜滚珠的直径的1/6、1/4、1/3、1/2。

在一些具体的实施例中，第二类扰动棒142的第一端140a与对应的转盘130的中心轴线之间的距离为转盘130的半径的1/4～1/2，从而便于待镀膜件从第二类扰动棒142的第一端140a与转盘130的中心之间绕过第二类扰动棒142。该距离例如是转盘130的半径的1/4、1/3、1/2。

如图1至图4所示，在一些实施例中，扰动棒140的第二端140b位于盘腔101沿转盘130的径向的外边缘处。结合图5和图6可以理解的是，盘腔101为一凹腔，盘腔101的底壁用于支撑待镀膜件，盘腔101的侧壁1012则对待镀膜件形成围挡。由于扰动棒140的第二端140b位于盘腔101沿转盘130的径向的外边缘处，即扰动棒140的第二端140b延伸至盘腔101的侧壁1012，从而能够防止待镀膜件绕过扰动棒140的第二端140b移动至扰动棒140的另一侧，进而能够有效保证扰动棒140对待镀膜件扰动的作用，以致有效改变待镀膜件的滚动方向。

在一些实施例中，盘腔101设置有沿转盘130的周向依次排列的多个扰动棒140，从而能够增强对待镀膜件的扰动效果，进而能够更有效地改善膜层的均匀性。单个转盘130的盘腔101内可以设置两个、三个、四个或更多个扰动棒140。

优选地，盘腔101设置的多个扰动棒140均匀排列，从而能够更有效地改善膜层的均匀性。

需要说明的是，任一个转盘130的盘腔101内设置的扰动棒140可以是一个，可以采用上述任一实施例中的扰动棒140的结构，例如任一实施例的第一类扰动棒141或第二类扰动棒142。

任一个转盘130的盘腔101内可以设置多个扰动棒140，该多个扰动棒140的结构可以是完全相同的，可以采用上述任一实施例中的扰动棒140的结构，例如任一实施例的第一类扰动棒141或第二类扰动棒142。

任一个转盘130的盘腔101内可以设置多个扰动棒140，该多个扰动棒140的结构可以是全部互不相同的，可以包括上述任意数量个不同实施例中的扰动棒140的组合，例如包括第一类扰动棒141和第二类扰动棒142的组合。

任一个转盘130的盘腔101内可以设置多个扰动棒140，该多个扰动棒140中，部分扰动棒140的结构互不相同，部分扰动棒140的结构相同。该多个扰动棒140中，结构互不相同的扰动棒140可以包括上述任意数量个不同实施例中的扰动棒140的组合，例如包括第一类扰动棒141和第二类扰动棒142的组合。结构相同的扰动棒140可以采用上述任一实施例中的扰动棒140的结构，例如任一实施例的第一类扰动棒141或第二类扰动棒142。

不同转盘130中对扰动棒140的配置可以相同，也可以不同。

可以理解地，待镀膜件随转盘130沿转盘130的周向转动的过程中，待镀膜件在离心力作用下会产生向转盘130的径向外侧移动的趋势，这种运动趋势容易使得多个待镀膜件堆集在盘腔101的径向外缘或者从盘腔101的径向外缘绕过扰动棒140运动至扰动棒140的另一侧，如此则会造成多个待镀膜件未受到扰动棒140的有效扰动。请参考图5和图6，为了减小或避免待镀膜件向转盘130的径向外侧移动的趋势，在一些实施例中，盘腔101的底壁1011至少包括倾斜部分1011b，倾斜部分1011b沿转盘130的径向向外的一端与盘腔101的侧壁1012连接；沿转盘130的径向从外向内，倾斜部分1011b逐渐向下倾斜。

待镀膜件随转盘130运动的过程中，位于倾斜部分1011b的待镀膜件在重力作用下则会产生向转盘130的径向内侧移动的趋势。待镀膜件在重力作用下产生的向转盘130的径向内侧移动的趋势则可以抵消或减小待镀膜件在离心力作用下向转盘130的径向外侧移动的趋势，甚至使得待镀膜件向转盘130的径向内侧移动，进而能尽量防止多个待镀膜件堆集在盘腔101的径向外缘或者从盘腔101的径向外缘绕过扰动棒140运动至扰动棒140的另一侧，以致尽量保证待镀膜件受到扰动棒140的有效扰动。

请参考图5，在一些实施例中，盘腔101的底壁1011还包括与倾斜部分1011b连接的平底部分1011a，倾斜部分1011b围绕于平底部分1011a外围。由于设置了平底部分1011a，盘腔101内位于平底部分1011a的待镀膜件不会由于重力作用而向转盘130中心堆集，从而防止大量的待镀膜件堆集在转盘130的中心，进而有利于待镀膜件的膜层的均匀性。

在一实施例中，盘腔101内设置有第一类扰动棒141和第二类扰动棒142，且第一类扰动棒141和第二类扰动棒142沿转盘130的周向排列。待镀膜件随转盘130运动的过程中则能够依次经过第一类扰动棒141和第二类扰动棒142，或者，依次经过第二类扰动棒142和第一类扰动棒141，从而待镀膜件既受到第一类扰动棒141的扰动又受到第二类扰动棒142的扰动，提高了对待镀膜件的扰动效果，进而有利于改善膜层的均匀性。

尤其是在一些实施例中，第一类扰动棒141的第二端140b与盘腔101的侧壁1012间隔设置(例如第一类扰动棒141设置在平底部分1011a)，而第二类扰动棒142的第二端140b延伸至盘腔101的侧壁1012处。待镀膜件随转盘130运动的过程中依次经过第一类扰动棒141和第二类扰动棒142。若待镀膜件从第一类扰动棒141的第二端140b与盘腔101的侧壁1012之间绕过第一类扰动棒141，则待镀膜件未受到第一类扰动棒141的扰动。由于第二类扰动棒142的第二端140b延伸至盘腔101的侧壁1012处，因此，随着待镀膜件随转盘130继续转动，则未受到第一类扰动棒141的扰动的待镀膜件必然会受到第二类扰动棒142的阻碍，进而受到第二类扰动棒142的扰动。如此，则通过第一类扰动棒141和第二类扰动棒142起到了对待镀膜件进行有效扰动的双重保障。

在另一些实施例中，连接棒160连接于第一类扰动棒141的第一端140a的一端位于转盘130的中心处。也就是说，第一类扰动棒141的第一端140a大致延伸至转盘130的中心处。

待镀膜件随转盘130运动的过程中则依次经过第二类扰动棒142和第一类扰动棒141。若待镀膜件直接从第二类扰动棒142的第一端140a与转盘130的中心之间经过，则未受到第二类扰动棒142扰动。由于第一类扰动棒141的第一端140a大致延伸至转盘130的中心处，因此，随着待镀膜件随转盘130继续转动，则未受到第二类扰动棒142扰动的待镀膜件必然会受到第一类扰动棒141的阻碍，进而受到第一类扰动棒141的扰动。如此，则通过第一类扰动棒141和第二类扰动棒142起到了对待镀膜件进行有效扰动的双重保障。

请参考图6，在又一些实施例中，自盘腔101的底壁1011的外缘至盘腔101的底壁1011的中心，盘腔101的底壁1011逐渐向下倾斜，即盘腔101的底壁1011整体是倾斜的。也就是说，盘腔101的底壁1011整体为倾斜部分1011b。

请参考图1，在一实施例中，传动机构包括转台150和传动件(未示出)，转台150在传动件的传动下绕自身中心轴线转动。其中一个转盘130为中央转盘131，中央转盘131与转台150同轴转动。至少一个转盘130为行星转盘132，行星转盘132位于中央转盘131的外侧，转台150上设置有与行星转盘132对应的传动单元，传动单元传动对应的行星转盘132绕自身中心轴线转动，即行星转盘132能够同时围绕转台150的中心轴线公转且绕自身中心轴线自转。

镀膜装置还包括设置于真空室110的多个靶源120。

靶源120具有能相互切换的第一角度和第二角度。在第一角度时，靶源120的靶面朝向中央转盘131，此时，可以在中央转盘131内放置待镀膜件，从而在中央转盘131与转台150同轴转动时，可以利用靶源120对中央转盘131内的待镀膜件镀膜。由于个靶源120围绕中央转盘131的中心轴线依次排列，从而有利于对中央转盘131内的待镀膜件更均匀的镀膜。

在行星转盘132内放置待镀膜件，对行星转盘132内的待镀膜件镀膜时，则需要将靶源120切换至第二角度。可以理解的是，转台150转动时携带行星转盘132围绕转台150的中心轴线公转，因此，行星转盘132的移动区域为一围绕转台150的中心轴线的环形区域。对行星转盘132内的待镀膜件镀膜时，行星转盘132环绕该环形区域移动且同时自转。

对行星转盘132内的待镀膜件镀膜时，靶源120切换至第二角度，此时，靶源120的靶面朝向行星转盘132的移动区域(即上述的环形区域)，因此，行星转盘132移动至与靶源120的靶面相对时，靶源120发射的靶材粒子能射至行星转盘132内的待镀膜件上，以对待镀膜件镀膜。

行星转盘132移动至与靶源120的靶面相对时，靶源120发射靶材粒子时所形成的发射区域在行星转盘132上的投影覆盖行星转盘132，从而能确保行星转盘132内的待镀膜件全部在该发射区域内，进而能确保行星转盘132内的待镀膜件得到镀膜。

参考图1，在一实施例中，靶源120通过连接件121安装在真空室110。靶源120与该连接件121可调节角度地连接，从而可以在第一角度与第二角度之间切换。

在一实施例中，靶源120与连接件121可相对转动地连接。靶源120相对连接件121转动，则能够调节其角度，使得靶源120在第一角度和第二角度之间切换。

在一实施例中，连接件121上设置第一连接结构和第二连接结构。靶源120连接于第一连接结构时处于第一角度，靶源120连接于第二连接结构时处于第二角度。第一连接结构例如是螺孔或卡接结构等。第二连接结构例如是螺孔或卡接结构等。

在其他实施例中，靶源120与该连接件121还可以采用其他连接方式，例如二者螺纹连接，从而靶源120相对连接件转动时也可以在第一角度和第二角度之间切换。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。