全尺寸掩模组件及其制造方法

本发明是2018年12月20日所提出的申请号为201811561908.4、发明名称为《全尺寸掩模组件及其制造方法》的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种全尺寸掩模组件及其制造方法，更具体地讲，涉及一种用于在基板上沉积沉积物质的全尺寸掩模组件及其制造方法。

背景技术

在各种显示器件中，有机发光显示器件(Organic Light Emitting Device，OLED)不仅视角宽、对比度(contrast)优良，而且具有响应速度快的优点。由此，趋势是有机发光显示器件(OLED)的使用领域在逐渐扩大。

这种有机发光显示器件(OLED)的各电极和包括发光层的中间层可通过各种方法形成，而其中一个方法就是沉积(deposition)法。

对于中小型有机发光显示器件(OLED)产品而言，制造高分辨率有机发光显示器件(OLED)最大难关在于有机发光显示器件(OLED)制造工艺中生成RGB(红绿蓝)像素的核心即沉积(deposition)工艺。将具有与所要在基板上形成的薄膜等图案相同的图案的精细金属掩模(Fine Metal Mask，以下称为‘掩模’)对准并沉积薄膜的原材料而形成所期望的图案的薄膜。这种沉积工艺采用如下方法：在位于腔室(chamber)下端的沉积源加热有机物，使所加热的有机物升华并通过位于上部的掩模而沉积在TFT玻璃上。

在沉积工艺中将掩模与TFT玻璃以防止出现间隔开的部分的方式粘贴而进行沉积。这是由于在产生间隔的情况下因阴影效应而产生沉积缺陷之故。为了进行正确的沉积，厚度为10μm-30μm的掩模应通过绷紧地张拉掩模而成为保持了弹力的状态以与TFT玻璃保持平整度。为了保持掩模绷紧，在掩模的边缘进一步配制用于拉伸的翼片并以能够施加拉力的夹子夹住翼片部分后进行拉伸。将掩模的各孔以与所要在基板上形成的薄膜等图案一致的方式对准之后，将掩模的与边缘重叠的部分焊接到框架上而制作掩模框架。

在有源矩阵有机发光显示器件(Active Matrix OLED，AMOLED)面板的情况下，大小已到大批量生产用的第六代半，但第七代、第八代等大面积化将不可避免。这是由于只有实现这种大面积化才能通过多面取制作而同时制造大型有源矩阵有机发光显示器件面板之故。

另外，越是趋于高分辨率就越需要精细的图案化作业。为了进行精细的图案化作业，掩模内的孔的大小和孔的间距须减小。TFT玻璃与掩模之间的配置精密度也要精确。进而，掩模的厚度也要变薄。从而掩模的制作变得更加困难，成品率也急剧下降。另外，若TFT玻璃被大面积化，则用于图案形成的蚀刻误差变大，且由于自重而掩模中央部下垂的现象也变得严重。

图1a是示出了根据现有技术的拉伸的条形掩模的示意图。

迄今为止，由于不能以一张为单位制造掩模，因此将多个掩模1a制成条(stick)状并粘贴在框架上而使用了条形掩模型掩模组件。条形掩模1由多个掩模1a和拉伸所需的翼片构成。

随着高分辨率大面积化，条形掩模1的宽度和长度也在增加，由此构成条形掩模1的掩模1a的个数和各个掩模大小也在增加。条形掩模1也要制成高分辨率大面积，但由于难以确保蚀刻均匀性，因而在制作上存在困难。另外，在为了将按照设计图制作的条形掩模1固定成绷紧的状态而施加拉力的情况下，存在条形掩模1变形或掩模表面起皱等问题。

另外，用夹子夹住拉伸的条形掩模1的翼片以将按照设计图制作的条形掩模1固定成绷紧的状态，而在该情况下拉伸时发生问题。

图1b是示出了根据现有技术的拉伸的条形掩模1的变形状态的示意图。

使条形掩模1在沿着长度方向(以下称为‘Y方向’)被拉伸而张拉成绷紧的状态下与条形掩模组件配合。如图1b中所图示，若张拉条形掩模1，则在与条形掩模1的长度垂直的方向(以下称为‘X方向’)上发生收缩，条形掩模1的长度越长，各掩模1a的收缩程度就越大。

目前，条形掩模1只能在Y方向上拉伸而在X方向上就不能拉伸。因此，需要在X方向上进行校正，对此实际情况是在设计条形掩模1时考虑对于X方向的收缩而进行设计。

然而，实际上为了制作条形掩模组件而施加于条形掩模1的拉力不同于设计时所考虑的拉力。因此，在生产条形掩模组件时在对于X方向的R、G、B位置发生错误。从而存在条形掩模1的分辨率越是提高或长度越是拉长，这种错误就越频繁发生的问题。

图2是用于说明在框架上焊接根据现有技术的条形掩模1的情况下发生的问题的示意图。

如图2中所图示，为了生产条形掩模组件，将条形掩模1拉伸并对准R、G、B位置，之后从条形掩模的上部将条形掩模1的焊接区域1b焊接到框架上。在该情况下，焊接区域1b以仅支撑条形掩模1的两头边缘的方式焊接于框架。

条形掩模组件在以一定使用次数使用之后必须进行掩模清洁。此时，条形掩模1由于仅有两端固定于框架，因而机械强度弱，从而存在在清洁和保管步骤中容易从框架上脱落的问题。

(现有技术文献)

(专利文献)

(专利文献1)授权专利公报第10-1742816号(2017年06月02日)

发明内容

所要解决的问题

本发明所要解决的一个技术问题在于提供一种克服现有条形掩模的制造极限及掩模大面积化的技术极限并提高掩模的精密度及机械强度的全尺寸掩模组件。

本发明所要解决的另一技术问题在于提供一种能够在X方向和Y方向上对单元单位掩模施加拉力而提高像素位置精度(PPA，Pixel Position Accuracy)的全尺寸掩模组件。

解决问题的方案

为了解决上述技术问题，本发明提供一种利用了单元单位掩模的全尺寸掩模组件。

根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件能够包括：框架，其形成有框架开口部且具有包围上述框架开口部的支撑部；结构用辅助掩模，其由上述支撑部所支撑，且具有形成格子形态的多个栅条以形成多个结构用辅助掩模开口部；以及多个单元单位掩模，其由上述结构用辅助掩模所支撑且具备使沉积物质通过的沉积图案部。

根据一个实施例，各个上述单元单位掩模能够单独地与上述结构用辅助掩模配合。

根据一个实施例，第一位置对准孔位于上述沉积图案部的某一侧棱边，上述第一位置对准孔设置成在竖直方向上能够对准上述结构用辅助掩模开口部内。

根据一个实施例，第二位置对准孔是从上述沉积图案部中提供的多个基准孔，上述第二位置对准孔的中心能够对准成在竖直方向上与TFT玻璃的TFT位置相互一致。

根据一个实施例，上述栅条能够包括：第一单元单位支撑部，其在第一方向上支撑上述单元单位掩模；第二单元单位支撑部，其在与上述第一方向正交的第二方向上支撑上述单元单位掩模；以及单元单位间隔部，其在上述第一单元单位支撑部与上述第二单元单位支撑部之间具有规定间距，并形成格子形状，且不接触上述单元单位掩模。

根据一个实施例，在第一方向和与上述第一方向正交的第二方向上能够彼此断续地设置多个上述单元单位掩模。

根据一个实施例，上述单元单位掩模在第一方向和与上述第一方向正交的第二方向上能够具有比上述结构用辅助掩模开口部大的区域。

根据一个实施例，上述沉积图案部在第一方向和与上述第一方向正交的第二方向上能够具有比上述结构用辅助掩模开口部小的区域。

根据一个实施例，上述单元单位掩模在其一个面能够进一步包括两个以上的单元单位配合部。

根据一个实施例，上述单元单位配合部可以是并排配置的多个焊接点。

根据一个实施例，上述单元单位配合部可以是沿着端部形成的上述第一方向的第一单元单位配合部或上述第二方向的第二单元单位配合部中一个单元单位配合部。

根据一个实施例，上述单元单位配合部能够包括沿着端部形成的上述第一方向的第一单元单位配合部和上述第二方向的第二单元单位配合部。

根据本发明的又一实施例的利用了单元单位掩模的全尺寸掩模组件，其具有由形成格子形态的多个栅条构成以形成多个结构用辅助掩模开口部的结构用辅助掩模，所述全尺寸掩模组件包括多个单元单位掩模，上述多个单元单位掩模在与上述结构用辅助掩模开口部相对的位置具备沉积图案部且由上述结构用辅助掩模所支撑，各个上述单元单位掩模能够单独地与上述结构用辅助掩模配合。

根据一个实施例，上述栅条能够包括：第一单元单位支撑部，其在第一方向上支撑上述单元单位掩模；第二单元单位支撑部，其在与上述第一方向正交的第二方向上支撑上述单元单位掩模；以及单元单位间隔部，其处于以规定间距位于上述第一单元单位支撑部与上述第二单元单位支撑部之间的状态，并具有格子形状，且不支撑上述单元单位掩模。

根据一个实施例，在第一方向和与上述第一方向正交的第二方向上能够彼此断续地设置多个上述单元单位掩模。

为了解决上述技术问题，本发明提供一种利用了单元单位掩模的全尺寸掩模组件制造方法。

根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件制造方法，其使各个单元单位掩模与形成于结构用辅助掩模的结构用辅助掩模开口部相对而设置，所述全尺寸掩模组件制造方法能够包括：使上述结构用辅助掩模与形成于框架的框架开口部相对而进行对准的结构用辅助掩模对准步骤；在第一方向和第二方向上拉伸上述结构用辅助掩模的结构用辅助掩模拉伸步骤；在上述框架与上述结构用辅助掩模之间形成焊接部而将上述结构用辅助掩模固定在上述框架的结构用辅助掩模固定步骤；使上述单元单位掩模与上述结构用辅助掩模的结构用辅助掩模开口部相对而进行对准的单元单位掩模对准步骤；以及在上述结构用辅助掩模与上述单元单位掩模之间形成单元单位配合部而将上述单元单位掩模固定在上述结构用辅助掩模的单元单位掩模固定步骤。

根据一个实施例，上述单元单位掩模对准步骤能够进一步包括：单元掩模夹具(gripper)在第一方向和第二方向上对上述单元单位掩模施加拉力的单元单位掩模拉伸步骤；使位于沉积物质所通过的沉积图案部中某一侧棱边的第一位置对准孔在竖直方向上对准上述结构用辅助掩模开口部内的单元单位掩模第一位置对准步骤；使上述沉积图案部中的多个第二位置对准孔在竖直方向上对准TFT玻璃的TFT位置的单元单位掩模第二位置对准步骤；以及在上述结构用辅助掩模开口部安装上述单元单位掩模的单元单位掩模安装步骤。

根据一个实施例，上述单元单位掩模第二位置对准步骤能够使上述第二位置对准孔的中心与上述TFT位置一致。

根据一个实施例，上述单元单位掩模固定步骤利用位于全尺寸掩模组件的下部的激光器所发出的激光而能够焊接上述结构用辅助掩模和上述单元单位掩模。

根据本发明的另一实施例的全尺寸掩模组件制造方法能够包括使各个单元单位掩模与形成于固定在框架上的结构用辅助掩模的结构用辅助掩模开口部相对并使上述单元单位掩模各自单独地对准的单元单位掩模对准步骤。

根据一个实施例，上述单元单位掩模对准步骤能够进一步包括：单元掩模夹具(gripper)在第一方向和第二方向上对上述单元单位掩模施加拉力的单元单位掩模拉伸步骤；使位于沉积物质所通过的沉积图案部中某一侧棱边的第一位置对准孔在竖直方向上对准上述结构用辅助掩模开口部内的单元单位掩模第一位置对准步骤；使上述沉积图案部中的多个第二位置对准孔在竖直方向上对准TFT玻璃的TFT位置的单元单位掩模第二位置对准步骤；以及在上述结构用辅助掩模开口部安装上述单元单位掩模的单元单位掩模安装步骤。

发明效果

根据本发明的实施例，由于以各个单元单位掩模为单位来提供，因而使掩模制作面积最小化，使得制作容易，因此具有提高生产效率、能够制作高精密掩模以及降低生产成本的好处。

另外，根据本发明的实施例，由于以各个单元单位掩模为单位来具体实现，因而能够解决利用了条形掩模的全尺寸掩模难以应对圆盘玻璃尺寸扩大的问题，因此具有不仅能够制作第六代全尺寸还能够制作其以上的全尺寸之类的好处。

另外，根据本发明的一个实施例，由于以各个单元单位掩模为单位来具体实现，因而不仅能够在X方向上对单元单位掩模施加拉力还能够在Y方向上对单元单位掩模施加拉力，因此具有能够更精确地控制掩模的总间距的好处。

另外，根据本发明的一个实施例，由于各个单元单位掩模各自具有两个以上的单元单位配合部，因而使全尺寸掩模组件的因使用而引起的变形最小化，从而能够提高耐久性。

另外，根据本发明的一个实施例，由于沿着单元单位掩模的外围面设有由多个焊接点构成的单元单位配合部，因而提高全尺寸掩模组件内的单元单位掩模的配合力，因此增加清洁次数，减少掩模更换所需时间，并延长沉积器的连续运转时间，由此具有能够提高生产效率的好处。

另外，根据本发明的一个实施例，由于在与TFT玻璃接触的面的背面即单元单位掩模的下表面即沉积面上进行焊接，因而即使在焊接时产生毛刺(bur)，沉积时基板也能够附着于全尺寸掩模组件而不会浮动，因此具有能够消除阴影(shadow)现象所导致的沉积缺陷的好处。

附图说明

图1a和图1b是示出了根据现有技术的条形掩模和拉伸的条形掩模的变形状态的示意图。

图2是用于说明在框架上焊接根据现有技术的条形掩模的情况下发生的问题的示意图。

图3是根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件的俯视图。

图4是根据本发明的一个实施例的框架的立体图。

图5是示出了根据本发明的一个实施例的结构用辅助掩模的结构的示意图。

图6是示出了根据本发明的一个实施例的固定于框架的结构用辅助掩模的结构的立体图。

图7a至图7c是示出了根据本发明的一个实施例的单元单位掩模的结构的示意图。

图8和图9是用于说明根据本发明的一个实施例的在固定于框架的结构用辅助掩模上单元单位掩模所第一位置对准的方式的示意图。

图10是示出了根据本发明的一个实施例的单元单位掩模已第一位置对准的状态的示意图。

图11是示出了根据本发明的一个实施例的单元单位掩模已第二位置对准的状态的示意图。

图12是示出了根据本发明的一个实施例的通过焊接而将单元单位掩模与结构用辅助掩模配合时的焊接方向的示意图。

图13是示出了根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件中的结构用辅助掩模的示意图。

图14是示出了根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件中的单元单位掩模的示意图。

图15是示出了根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件制造方法的框图。

图16是示出了图15中的单元单位掩模对准方法的框图。

符号说明

10—全尺寸掩模组件，100—框架，110—支撑部，120—框架开口部，200—结构用辅助掩模，210—结构用辅助掩模开口部，220—栅条，221—第一单元单位支撑部，222—第二单元单位支撑部，223—单元单位间隔部，224—突出部，300—单元单位掩模，310—沉积图案部，311—第一位置对准孔，312—第二位置对准孔，320—单元单位配合部，321—焊接点，322—第一单元单位配合部，323—第二单元单位配合部，S10、S20、S30、S40、S41、S42、S43、S44、S50—步骤。

具体实施方式

以下，参照各附图详细说明本发明的优选实施例。然而，本发明的技术思想并不是限定于这里所说明的实施例而是能够以其它方式具体化。反而，这里所介绍的实施例是为了使所公开的内容能够彻底和完整并为了使本发明的思想能够充分传递到本领域技术人员而提供的。

在本说明书中，在提及到某一构成要素位于另一构成要素之上的情况下，其意味着可以直接形成于另一构成要素之上或者意味着两者之间还可介入第三构成要素。另外，在各图中形状和大小是为了有效地说明技术内容而夸张的。

另外，在本说明书的各种实施例中，为了描述各种构成要素而使用了第一、第二、第三等用语，但这些构成要素不得限定于这种用语。这些用语仅仅是为了使某个构成要素区别于另一构成要素而使用。因此，在某一实施例中作为第一构成要素提及的情况下，在另一实施例中也能够作为第二构成要素提及。这里所说明并例示的各实施例还包括其互补性实施例。另外，在本说明书中所使用的‘和/或’的含义为至少包括前后罗列的各构成要素中的一个构成要素。

在本说明书中，单个的表达除非文理上有明显不同的含义就包括多个的表达。另外，“包括”或“具有”等用语旨在指定说明书中所记载的特征、数字、步骤、构成要素或它们的组合存在，不得理解为排除一个或其以上的其它特征或者数字、步骤、构成要素或它们的组合的存在或附加可能性。另外，在本说明书中所使用的“连接”的含义为均包括间接连接多个构成要素以及直接连接多个构成要素。

另外，在下面说明本发明过程中，对于相关的公知功能或构成的具体的说明在判断为有可能使本发明的要旨不必要地模糊的情况下省略其详细的说明。

为了便于说明，以下第一方向为横宽方向即指称直角坐标系的X轴，第二方向为纵宽方向即指称直角坐标系的Y轴。此时，第一方向与第二方向正交。

图3是根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件10的俯视图，图8是用于说明根据本发明的一个实施例的在固定于框架100的结构用辅助掩模200上单元单位掩模300所第一位置对准的方式的示意图。

参照图3和图8，根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件10能够利用于将沉积物质在基板(未图示)上沉积的沉积工艺。这种全尺寸掩模组件10能够包括框架100和结构用辅助掩模200以及多个单元单位掩模300。在该情况下，全尺寸掩模组件10可以是框架100和结构用辅助掩模200以及单元单位掩模300在竖直方向上依次堆叠的结构。

图4是根据本发明的一个实施例的框架100的立体图。

参照图3和图4，根据本发明的一个实施例的框架100能够包括内侧的框架开口部120和支撑部110。在框架100能够配合将在下面叙述的结构用辅助掩模200和多个单元单位掩模300。框架100可由刚度大的金属材质制成，以防止由于在结构用辅助掩模200和单元单位掩模300的拉伸方向作用的压缩力而产生变形。另外，框架100能够具有一定厚度和四边形形状。

如图4中所图示，在框架100能够形成一个以上的框架开口部120。由此，框架开口部120能够具有大致四边形形状。框架开口部120能够具有与以一定间距排列的多个单元单位掩模300对应的大小和形状，以便在竖直方向上暴露将在下面叙述的多个单元单位掩模300。

支撑部110呈包围中央的框架开口部120的形状且设置于将在下面叙述的结构用辅助掩模200的下部而能够支撑结构用辅助掩模200的一个面。即、支撑部110能够支撑在竖直方向上面接触的结构用辅助掩模200的下表面。另外，支撑部110能够具有与结构用辅助掩模200对应的大小和形状，以便能够与结构用辅助掩模200配合。

对于作为全尺寸掩模组件10的又一构成的结构用辅助掩模200说明进行。

图5是示出了根据本发明的一个实施例的结构用辅助掩模200的结构的示意图，图6是示出了根据本发明的一个实施例的固定于框架100的结构用辅助掩模200的结构的立体图，图13是示出了根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件10中的结构用辅助掩模200的示意图。

参照图3和图5、图6、图13，根据本发明的一个实施例的结构用辅助掩模200能够保持单元单位掩模300的制作公差即总间距(total pitch)一定，且能够支撑将在下面叙述的单元单位掩模300。就结构用辅助掩模200而言，能够在中央形成多个结构用辅助掩模开口部210且能够包括形成各个格子的多个栅条220。这种结构用辅助掩模200能够介入于框架100与多个单元单位掩模300之间。

就结构用辅助掩模200而言，多个结构用辅助掩模开口部210能够在中央形成格子形态，且形成各个格子的各栅条220能够在第一方向和第二方向上对称地排列。就这种结构用辅助掩模开口部210而言，为了制造和加工的便利性而具有格子形态，但如大小互不相同或不规则的情况那样，未必排列成格子状。

就结构用辅助掩模200而言，各个栅条220的大小和形态以及宽度等可以相互对称，以能够对框架100和单元单位掩模300施加均匀的拉力。结构用辅助掩模200可以是热膨胀系数高且不会产生下垂等变形的材质，以防止由于在工艺过程中产生的热所引起的温度变化而产生扭曲。另外，结构用辅助掩模200能够具有板状的形状，且能够具有100μm至200μm的厚度。

重新参照图5和图6、图8、图13，结构用辅助掩模开口部210能够具有大致四边形形状。结构用辅助掩模开口部210能够具有与栅条220之间的间隔距离相应的格子区域，以便在竖直方向上暴露将在下面叙述的单元单位掩模300的沉积图案部310。另外，结构用辅助掩模开口部210能够以与沉积图案部310对应的大小和形状形成。一个结构用辅助掩模开口部210能够与一个单元单位掩模300对应。因此，通过利用了一个全尺寸掩模组件10的单一工艺就能够将与多个有机发光显示器件(OLED)相应的各图案同时沉积。

图8和图9是用于说明根据本发明的一个实施例的在固定于框架100的结构用辅助掩模200上单元单位掩模300所第一位置对准的方式的示意图，图10是示出了根据本发明的一个实施例的单元单位掩模300已第一位置对准的状态的示意图，图13是示出了根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件10中的结构用辅助掩模200的示意图。

参照图5和图8至图10，栅条220能够与将在下面叙述的单元单位掩模300的单元单位支撑部面接触而支撑各个单元单位掩模300。这种栅条220整体上设置成在第一方向和第二方向上彼此平行，且多个栅条220能够在各个方向上具有相同的宽度和长度。栅条220配置成格子形态，从而能够在结构用辅助掩模开口部210提供间隔区域。

参照图13，栅条220包括第一单元单位支撑部221和第二单元单位支撑部222以及单元单位间隔部223，且能够进一步包括端部的突出部224。

第一单元单位支撑部221能够在第一方向上支撑单元单位掩模300。第一单元单位支撑部221在第二方向上具有一定宽度，且能够与单元单位掩模300面接触。

第二单元单位支撑部222能够在第二方向上支撑单元单位掩模300。第二单元单位支撑部222在第一方向上具有一定宽度，且能够与单元单位掩模300面接触。在该情况下，第二单元单位支撑部222能够以与第一单元单位支撑部221互不相同的宽度来支撑单元单位掩模300。

单元单位间隔部223是第一单元单位支撑部221与第二单元单位支撑部222之间的区域，多个单元单位间隔部223能够设置成彼此隔开并具有规定间距以形成格子形状。单元单位间隔部223能够具有在栅条220中除了第一单元单位支撑部221和第二单元单位支撑部222之外的区域。即、各个单元单位掩模300能够与单元单位间隔部223相应地被隔开一定距离。不同于条形掩模，单元单位间隔部223对于第二方向也能够具有并不与各个单元单位掩模300接触的区域。即、单元单位间隔部223是指各个单元单位掩模300彼此对于第一方向和第二方向并不接触而被隔开的区域。

突出部224可以是从栅条220的边缘突出延伸的区域。突出部224是由夹子装置(未图示)所夹紧以便对结构用辅助掩模200施加拉力的区域，其与框架100面接触而能够支撑于框架100。第一方向和第二方向各自的一对突出部224在两个方向上被拉伸，从而在框架100能够拉伸结构用辅助掩模200。

在该情况下，在各个突出部224能够设置夹子装置(未图示)以便拉伸结构用辅助掩模200。夹子装置(未图示)在突出部224两端施加拉力，从而结构用辅助掩模200能够在被绷紧张拉的状态下固定于框架100。此时，突出部224能够由与框架100接合的区域(以下称为‘框架配合部’)和并不与框架100接合的区域构成。其结果，能够配置成框架100的内侧与结构用辅助掩模200的栅条220之间在空间上被间隔开。

框架配合部是突出部224的端部，是具有一定长度的区域。框架配合部是与支撑部110面接触且通过焊接等方法与框架100配合而被固定的区域。框架配合部通过焊接方法而将在第一方向和第二方向上拉伸的结构用辅助掩模200焊接到框架100上，从而能够使框架100和结构用辅助掩模200一体化。然而，结构用辅助掩模200能够通过焊接方法以外的方法固定于框架100。

这种框架配合部使与框架100接触的区域最小化，其结果，能够使框架100的热应力传递至结构用辅助掩模200的现象最小化，进而，还能够使传递至由结构用辅助掩模200所支撑的各单元单位掩模300的热应力最小化。

将这样构成的全尺寸掩模组件10中的框架100和结构用辅助掩模200的配合结构说明如下。

如图8和图9中所图示，全尺寸掩模组件10将在构成结构用辅助掩模200的各个栅条220的两端相对的突出部224朝向彼此相反的方向拉伸。此时，框架100和结构用辅助掩模200能够以各种方式配合，而图示于图8的全尺寸掩模组件10示出了在拉伸的状态下使结构用辅助掩模200的框架配合部与框架100的支撑部110面接触而焊接的状态。

对于全尺寸掩模组件10的又一构成即单元单位掩模300进行说明。

图7a至图7c是示出了根据本发明的一个实施例的单元单位掩模300的结构的示意图，图13是示出了根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件10中的单元单位掩模300的示意图。

参照图3和图7a至图13，就单元单位掩模300而言，沉积物质在沉积工艺步骤通过沉积图案部310而沉积于基板(未图示)上，从而形成所期望的形状的薄膜(金属层或有机发光层等)。这种单元单位掩模300包括沉积图案部310，进而，能够进一步包括单元单位配合部320。单元单位掩模300呈板状的形状且具有10μm至30μm的厚度，从而一个面直接与结构用辅助掩模200面接触而能够被支撑。

单元单位掩模300在第一方向和第二方向上能够具有比结构用辅助掩模开口部210大的区域。并且，将在下面叙述的沉积图案部310在第一方向和第二方向上能够具有比结构用辅助掩模开口部210小的区域。即、结构用辅助掩模开口部210能够形成为大于沉积图案部310但小于单元单位掩模300的区域。

图10是示出了根据本发明的一个实施例的单元单位掩模300已第一位置对准的状态的示意图，图11是示出了根据本发明的一个实施例的单元单位掩模300已第二位置对准的状态的示意图。

参照图10至图11，沉积图案部310用来将单元单位掩模300对固定于框架100的结构用辅助掩模200进行位置对准，或者，能够利用于沉积工艺中用于使沉积物质通过的有机发光显示器件(OLED)的R、G、B像素中某一像素。这种沉积图案部310能够包括第一位置对准孔311和第二位置对准孔312。进而，沉积图案部310能够设置于与结构用辅助掩模开口部210相对的位置，沉积图案部310虽然提示为多个孔的排列，但除此之外还能够形成为多个狭缝。

第一位置对准孔311能够用来将各个单元单位掩模300对结构用辅助掩模200进行第一位置对准。此时，第一位置对准孔311能够位于沉积图案部310的某一侧棱边。为了进行第一位置对准，能够利用结构用辅助掩模开口部210和第一位置对准孔311的位置。即、由于结构用辅助掩模开口部210的内侧长度比沉积图案部310的长度长，因此在进行第二位置对准之前使单元单位掩模300的第一位置对准孔311位于与结构用辅助掩模开口部210的内侧对应的位置，以使单元单位掩模300能够大致地对准位置。

第二位置对准孔312能够用来将各个单元单位掩模300对TFT玻璃的TFT位置进行第二位置对准。此时，第二位置对准孔312可以是从由多个孔构成的沉积图案部310中挑选而提供的多个基准孔。利用第二位置对准孔312的中心就能够进行第二位置对准。在沉积工艺步骤，由于单元单位掩模300的沉积图案部310与TFT玻璃的TFT位置对应，因此基于相应TFT位置的绝对坐标值就能够对各个单元单位掩模300的位置进行对准。

单元单位支撑部可以是从单元单位掩模300中除了沉积图案部310相应区域之外的区域。单元单位支撑部是与栅条220面接触的区域，其一部分可以是与单元单位配合部320重叠的区域。单元单位支撑部能够在与第一单元单位支撑部221在第一方向上面接触且与第二单元单位支撑部222在第二方向上面接触的状态下支撑于结构用辅助掩模200。

图12是示出了根据本发明的一个实施例的通过焊接而将单元单位掩模300与结构用辅助掩模200配合时的焊接方向的示意图。

重新参照图7a至图7c、图13，单元单位配合部320能够设置于单元单位掩模300的一个面即作为沉积方向面的单元单位掩模300的下表面。单元单位配合部320是单元单位支撑部中通过焊接等方法与结构用辅助掩模200配合而固定的区域。单元单位配合部320在通过焊接等而固定于结构用辅助掩模200的情况下，能够沿着单元单位掩模300的外围面以一定间距配设多个焊接点321。单元单位掩模300下表面的焊接点321和结构用辅助掩模200的上表面能够以相对且不会浮动的方式配合。然而，单元单位掩模300能够通过焊接方法以外的方法固定于结构用辅助掩模200。

单元单位配合部320能够包括在第一方向上沿着单元单位掩模300的外围面形成的第一单元单位配合部322和/或在第二方向上沿着单元单位掩模300的外围面形成的第二单元单位配合部323。

根据一个实施例，单元单位配合部320可以是第一单元单位配合部322和第二单元单位配合部323两者。根据另一实施例，单元单位配合部320可以是第一单元单位配合部322或第二单元单位配合部323中的一个单元单位配合部。

单元单位配合部320与沉积图案部310的大小成比例。即、在沉积图案部310的大小相对大的情况下，为了提高与结构用辅助掩模200的配合力而能够对于第一单元单位配合部322和第二单元单位配合部323均实施焊接。与此相反，在沉积图案部310的大小相对小的情况下，由于利用小的配合区域也能够容易地支撑单元单位掩模300，因此能够选择性地焊接第一单元单位配合部322或第二单元单位配合部323中一个单元单位配合部。即、在单元单位掩模300的单元单位支撑部支撑于结构用辅助掩模200的第一单元单位支撑部221和第二单元单位支撑部222的状态下，通过位于全尺寸掩模组件10下部的激光器(未图示)所发出的激光而在单元单位掩模300的下表面能够焊接单元单位掩模300的第一单元单位配合部322和/或第二单元单位配合部323。

如图12中所图示，利用位于全尺寸掩模组件10的与TFT玻璃接触的面的背面即单元单位掩模的下表面即位于全尺寸掩模组件10的下部的激光器(未图示)所发出的激光焊接到沉积面上，从而即使在焊接时产生毛刺(bur)，沉积时基板也能够附着于全尺寸掩模组件而不会浮动。

进而，就构成全尺寸掩模组件10的各个单元单位掩模300而言，在由结构用辅助掩模200所支撑的状态下能够在第一方向和第二方向上彼此断续地设置多个单元单位掩模300。即、各个单元单位掩模300彼此能够对于第一方向和第二方向以与单元单位间隔部223相应地隔开的状态固定配合于结构用辅助掩模200。

将这样构成的全尺寸掩模组件10中的结构用辅助掩模200和单元单位掩模300的配合结构说明如下。

如图10和图11中所图示，全尺寸掩模组件10通过对单元单位掩模300实施一连串过程即第一位置对准和第二位置对准就能够使单元单位掩模300与结构用辅助掩模200配合。

单元掩模夹具(gripper，未图示)在支撑单元单位掩模300的状态下在第一方向和第二方向上对单元单位掩模300施加拉力而使单元单位掩模300中第一位置对准孔311进入结构用辅助掩模200的结构用辅助掩模开口部210内，由此能够对单元单位掩模300进行第一位置对准。此后，使单元单位掩模300中第二位置对准孔312的中心在竖直方向上与TFT玻璃的TFT位置相互一致，从而能够进行第二位置对准。

单元掩模夹具(未图示)通过真空方式或静电感应方式等而能够控制单元单位掩模300的位置。这种单元掩模夹具(未图示)无论是在第一方向、第二方向上还是在竖直方向上都能够控制单元单位掩模300的位置值，且能够控制水平方向的平坦度。

此时，结构用辅助掩模200和各个单元单位掩模300能够以各种方式配合，而图示于图13和图14中的全尺寸掩模组件10能够顺着设置于单元单位掩模300的边缘的单元单位配合部320的各个焊接点321焊接。

以下，参照图12、图15和图16对于根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件制造方法进行说明。

图15是示出了根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件制造方法的框图，图16是示出了图15中的单元单位掩模300对准方法的框图。

如图15中所图示，全尺寸掩模组件制造方法能够包括结构用辅助掩模对准步骤S10、结构用辅助掩模拉伸步骤S20、结构用辅助掩模固定步骤S30、单元单位掩模对准步骤S40以及单元单位掩模固定步骤S50。

在结构用辅助掩模对准步骤S10，能够使结构用辅助掩模200与框架100的框架开口部120相对而进行对准。

在结构用辅助掩模拉伸步骤S20，能够利用夹子装置(未图示)而在第一方向和第二方向上拉伸结构用辅助掩模200。将结构用辅助掩模200中的在各个栅条220的两端相对的各个突出部224在由夹子装置(未图示)所夹紧的状态下朝向彼此相反的方向拉伸，从而能够对结构用辅助掩模200施加拉力。

在结构用辅助掩模固定步骤S30，将框架100和结构用辅助掩模200通过焊接而接合，从而能够在框架100固定结构用辅助掩模200。能够在结构用辅助掩模200的框架配合部与框架100的支撑部110面接触的状态下进行焊接。

在单元单位掩模对准步骤S40，能够使单元单位掩模300与结构用辅助掩模200的结构用辅助掩模开口部210相对而进行对准。单元单位掩模对准步骤S40能够细分为如下各步骤。

如图16中所图示，单元单位掩模对准步骤S40能够进一步包括单元单位掩模拉伸步骤S41、单元单位掩模第一位置对准步骤S42、单元单位掩模第二位置对准步骤S43以及单元单位掩模安装步骤S44。

在单元单位掩模拉伸步骤S41，单元掩模夹具(未图示)能够以各个单元单位掩模300为单位在第一方向和第二方向上施加拉力。即、能够对单元单位掩模300施加拉力的单元掩模夹具(未图示)在将单元单位掩模300的一个面在竖直方向上支撑的状态下，能够在第一方向和第二方向上拉伸单元单位掩模300。

在单元单位掩模第一位置对准步骤S42，单元掩模夹具(未图示)能够使单元单位掩模300单独地向各个结构用辅助掩模开口部210移动。即、单元掩模夹具(未图示)能够在施加拉力而支撑单元单位掩模300的状态下对单元单位掩模300进行第一位置对准，使得单元单位掩模300的第一位置对准孔311进入结构用辅助掩模开口部210内。

在单元单位掩模第二位置对准步骤S43，能够利用相机(未图示)而对各个单元单位掩模300的位置进行对准。通过位于全尺寸掩模组件10的下部的相机(未图示)而确认第二位置对准孔312的中心与TFT玻璃的TFT位置的中心在第一方向和第二方向上是否一致到1um以内，并在第一方向或第二方向上微调单元掩模夹具(未图示)的位置而能够对单元单位掩模300进行第二位置对准。

在单元单位掩模安装步骤S44，能够在结构用辅助掩模开口部210安装单元单位掩模300。使单元掩模夹具(未图示)沿着竖直方向移动而能够在结构用辅助掩模开口部210安装单元单位掩模300。

即、在单元单位掩模第一位置对准步骤S42和单元单位掩模第二位置对准步骤S43在第一方向和第二方向上对准单元单位掩模300的位置，并在单元单位掩模安装步骤S44在竖直方向上对准单元单位掩模300的位置，从而能够在全尺寸掩模组件10内对各个单元单位掩模300进行位置对准。

在单元单位掩模固定步骤S50，由于在结构用辅助掩模200与单元单位掩模300之间形成单元单位配合部320，因而能够在结构用辅助掩模200固定单元单位掩模300。在该情况下，能够利用焊接等方法而进行固定。

观察在各种实施例中利用了焊接的单元单位掩模固定步骤S50，在利用单元掩模夹具(未图示)安装单元单位掩模300之后，在使单元单位掩模300支撑于结构用辅助掩模200的状态下，能够使沿着单元单位掩模300的边缘设置的第一单元单位配合部322和/或第二单元单位配合部323与结构用辅助掩模200接合。

更具体地、利用设置于全尺寸掩模组件10的下方的激光器(未图示)所发出的激光，并通过形成于第一单元单位配合部322和/或第二单元单位配合部323的各个焊接点321而能够焊接单元单位掩模300。

另一方面，根据另一实施例的全尺寸掩模组件制造方法能够包括使单元单位掩模300与固定于框架100的结构用辅助掩模200的结构用辅助掩模开口部210相对而进行对准的单元单位掩模对准步骤。

单元单位掩模对准步骤能够进一步包括：单元掩模夹具(未图示)在第一方向和第二方向上对单元单位掩模300施加拉力的单元单位掩模拉伸步骤；使位于沉积物质所通过的沉积图案部310中某一侧棱边的第一位置对准孔311在竖直方向上对准结构用辅助掩模开口部210内的单元单位掩模第一位置对准步骤；使沉积图案部310中的多个第二位置对准孔312在竖直方向上对准TFT玻璃的TFT位置的单元单位掩模第二位置对准步骤；以及在结构用辅助掩模开口部210安装单元单位掩模300的单元单位掩模安装步骤。

以上虽然使用优选实施例对本发明进行了详细说明，但本发明的范围并不限定于特定实施例，应当基于所附的权利要求解释本发明的范围。另外，本领域普通技术人员应当理解在不逸出本发明的范围的情况下能够进行各种修改和变形。