光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质

技术领域

本发明实施例涉及半导体制造领域，尤其涉及一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质。

背景技术

为实现将图形从掩膜版中转移到硅片表面，通常需要经过曝光步骤、曝光步骤之后进行的显影步骤和显影步骤之后的刻蚀步骤。然而随着器件的尺寸日益缩小，芯片表面的图案与原始光罩图案之间的差异也随之增大。为了避免光学邻近效应造成芯片上的图案与掩膜版图案不一致，目前解决的方法通常是对掩膜版图案进行光学邻近修正(opticalproximity correction，OPC)，然后再依据修正过的掩膜版图案进行图案转移。在OPC修正程序中，通常需要进行掩膜尺寸检查(Mask Manufacturing Rule Check)，以保证最终图形收敛性及掩膜版制作精度。

然而，由于版图的面积往往非常巨大，导致难以将整个版图同时进行OPC修正处理，从而需要将版图切分成多个子区域，并对每个子区域单独进行OPC修正处理，再将处理后的子区域拼接为版图。

但是，切分版图往往会引起一些影响OPC修正结果的问题。

发明内容

本发明实施例解决的问题是提供一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，提高光学邻近修正的修正精准率。

为解决上述问题，本发明实施例提供一种光学邻近修正方法，包括：获取设计版图，所述设计版图包括多个设计图形，所述设计版图被划分为多个子区域，所述多个子区域呈矩阵分布；分别对各个所述子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得位于各个所述子区域中的目标修正后图形，其中，对相邻两个所述子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理包括：在相邻两个所述子区域中，以任一子区域作为第一区域，另一子区域作为第二区域，在所述第一区域和第二区域交界处形成位于所述第二区域中的缓冲区，所述第二区域中除所述缓冲区之外的剩余区域作为固定区域；对所述第一区域和缓冲区中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得所述第一区域和缓冲区的第一修正结果；对所述第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得第二修正结果；结合所述第一修正结果和第二修正结果，获得所述缓冲区所对应的第三修正结果。

相应的，本发明实施例还提供一种光学邻近修正系统，包括：版图获取模块，用于获取设计版图，所述设计版图包括多个设计图形所述设计版图被划分为多个子区域，所述多个子区域呈矩阵分布；修正模块，用于分别对各个所述子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得位于各个所述子区域中的目标修正后图形，其中，对相邻两个所述子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理包括：设定区域单元，用于在相邻两个所述子区域中，以任一子区域作为第一区域，另一子区域作为第二区域，在所述第一区域和第二区域交界处形成位于所述第二区域中的缓冲区，所述第二区域中除所述缓冲区之外的剩余区域作为固定区域；第一修正单元，用于对所述第一区域和缓冲区中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得所述第一区域和缓冲区的第一修正结果；第二修正单元，用于对所述第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得第二修正结果；第三修正单元，用于结合所述第一修正结果和第二修正结果，获得所述缓冲区所对应的第三修正结果。

相应的，本发明实施例还提供一种掩膜版，包括利用本发明实施例提供的光学邻近修正方法获得的图形。

相应的，本发明实施例还提供一种设备，包括至少一个存储器和至少一个处理器，所述存储器存储有一条或多条计算机指令，其中，所述一条或多条计算机指令被所述处理器执行以实现本发明实施例提供的光学邻近修正方法。

相应的，本发明实施例还提供一种存储介质，所述存储介质存储有一条或多条计算机指令，所述一条或多条计算机指令用于实现本发明实施例提供的光学邻近修正方法。

与现有技术相比，本发明实施例的技术方案具有以下优点：

本发明实施例提供的光学邻近修正方法中，对相邻两个子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理的步骤中，结合所述第一修正结果和第二修正结果，获得所述缓冲区所对应的第三修正结果；本发明实施例中，在第一区域和第二区域交界处形成缓冲区，并在缓冲区中形成的第二修正后图形综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，相比于在缓冲区中将基于第二修正结果形成的第一修正后图形直接作为目标修正后图形的方案，本方案综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，使得在第一区域和第二区域交界处，第一区域的目标修正后图形和第二区域中固定区域的目标修正后图形之间有过渡的第二修正后图形，尽可能避免因第一区域和第二区域各自进行光学邻近修正处理，而产生因修正环境差异而导致第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大的情况，从而在后续将各个子区域拼接之后，尽可能避免了因第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大，而导致第一区域和第二区域交界处的目标修正后图形的边缘放置误差过大的情况，进而有利于使得对所述设计图形的光学邻近修正处理更为精准。

附图说明

图1是一种光学邻近修正方法的流程图；

图2至图3是一种光学邻近修正方法中各步骤对应的示意图；

图4是本发明光学邻近修正方法一实施例的流程图；

图5是本发明光学邻近修正方法步骤S2中，对相邻两个所述子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理的一实施例的流程图；

图6至图11是本发明光学邻近修正方法一实施例中各步骤对应的示意图；

图12是本发明光学邻近修正系统一实施例的功能框图；

图13是本发明光学邻近修正系统一实施例中修正模块的功能框图；

图14是本发明提供的设备一实施例的硬件结构图。

具体实施方式

目前光学邻近修正的修正精准度有待提高。现结合一种光学邻近修正方法分析光学邻近修正的修正精准度有待提高的原因。

图1是一种光学邻近修正方法的流程图。结合参考图2至图3，示出了所述光学邻近修正方法中各步骤对应的示意图。

参考图2，执行步骤s1：获取设计版图10，设计版图10包括多个设计图形11，设计版图10被划分为多个子区域21，多个子区域21呈矩阵分布。

结合参考图2和参考图3，图3为图2中虚线框的局部放大图，执行步骤s2：分别对各个子区域21中的设计图形11进行光学邻近修正处理。

继续结合参考图2和图3，执行步骤s3：分别对各个子区域21中的设计图形11进行光学邻近修正处理后，将各个子区域21拼接。

分别对各个子区域21中的设计图形11进行光学邻近修正处理的步骤中，因相邻两个子区域21各自进行光学邻近修正处理，则在相邻两个子区域21交界处附近，分别位于两个子区域21中的设计图形11，容易产生因修正环境差异而导致修正结果差异过大的情况，例如，如图3所示，在相邻两个子区域21的交界处附近，以右侧的子区域21中的设计图形11为例，根据左侧的子区域21的修正环境，设计图形11的修正结果为第一修正后图形12(第一修正后图形12的轮廓以点划线表示)，根据右侧的子区域21自身的修正环境，设计图形11的修正结果为第二修正后图形13(第二修正后图形13的轮廓以实线表示)，第一修正后图形12和第二修正后图形13相差较大，从而在后续将各个子区域21拼接之后，因相邻两个子区域21交界处修正结果差异过大，而容易导致相邻两个子区域21交界处的修正后图形的边缘放置误差过大的情况，进而导致对设计图形11的光学邻近修正处理的精准度较差。

为了解决所述技术问题，本发明实施例提供一种光学邻近修正方法。参考图4，示出了本发明光学邻近修正方法一实施例的流程图，参考图5，示出了本发明光学邻近修正方法步骤S2中，对相邻两个所述子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理的一实施例的流程图。

本实施例中，所述光学邻近修正方法包括以下基本步骤：

步骤S1：获取设计版图，设计版图包括多个设计图形，设计版图被划分为多个子区域，多个子区域呈矩阵分布；

步骤S2：分别对各个子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得位于各个子区域中的目标修正后图形；

其中，对相邻两个子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理包括：步骤S21：在相邻两个子区域中，以任一子区域作为第一区域，另一子区域作为第二区域，在第一区域和第二区域交界处形成位于第二区域中的缓冲区，第二区域中除缓冲区之外的剩余区域作为固定区域；

步骤S22：对第一区域和缓冲区中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得第一区域和缓冲区的第一修正结果；

步骤S23：对第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得第二修正结果；

步骤S24：结合第一修正结果和第二修正结果，获得缓冲区所对应的第三修正结果。

本发明实施例中，在第一区域和第二区域交界处形成缓冲区，并在缓冲区中形成的第二修正后图形综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，相比于在缓冲区中将基于第二修正结果形成的第一修正后图形直接作为目标修正后图形的方案，本方案综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，使得在第一区域和第二区域交界处，第一区域的目标修正后图形和第二区域中固定区域的目标修正后图形之间有过渡的第二修正后图形，尽可能避免因第一区域和第二区域各自进行光学邻近修正处理，而产生因修正环境差异而导致第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大的情况，从而在后续将各个子区域拼接之后，尽可能避免了因第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大，而导致第一区域和第二区域交界处的目标修正后图形的边缘放置误差过大的情况，进而有利于使得对设计图形的光学邻近修正处理更为精准。

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

图6至图11是本发明光学邻近修正方法一实施例中各步骤对应的示意图。

结合参考图6和图7，执行步骤S1：获取设计版图100，设计版图100包括多个设计图形110，设计版图100被划分为多个子区域210，多个子区域210呈矩阵分布。

设计图形110为转移至晶圆上的目标图形，在对设计图形110进行光学邻近修正后，所获得的图形用于制作掩膜版，从而利用掩膜版进行光刻工艺，以在晶圆上形成对应的掩膜图形。

由于设计版图100的面积通常较大，从而将设计版图100划分为多个子区域210，通过对每个子区域210单独进行光学邻近修正处理，再将处理后的子区域210拼接，实现对设计版图100的光学邻近修正处理，有利于避免对较大面积的区域进行光学邻近修正处理而耗时过长，从而节省了所述光学邻近修正处理的处理时间。

参考图7，本实施例中，对每个子区域210设置各自相对应的修正优先级。

对每个子区域210设置各自相对应的修正优先级，从而在后续分别对各个子区域210中的设计图形110进行光学邻近修正处理的步骤中，每个子区域210根据各自对应的修正优先级依次修正，有利于避免因所有子区域210同时修正，而导致相邻子区域210交界处因受到相邻子区域210的共同影响，而产生修正振荡，从而难以获得确定的修正结果的情况，从而有利于减小在相邻子区域210的交界处修正结果紊乱的概率，进而有利于获得较为精确的光学邻近修正结果。

作为一种示例，参考图7，本实施例将子区域210的修正优先级设置为四级，分别标识为0、1、2和3，由0至3修正优先级递减，其中，相交于同一点的四个子区域210的修正优先级分别设置为0、1、2和3。

本实施例中，后续分别对各个子区域210中的设计图形110进行光学邻近修正处理之前，还包括：对各个子区域210中的设计图形110的边进行分割，沿设计图形110的轮廓形成多个首尾相连的线段(未示出)。

在后续对设计图形110进行光学邻近修正的过程中，为了减少边缘移动的任意性，通过调整线段的位置(例如，平移线段)来减小边缘放置误差。本实施例中，沿设计图形110的轮廓形成多个首尾相连的线段，后续调整线段的位置进行光学邻近修正。

结合参考图8至图11，执行步骤S2，分别对各个子区域210中的设计图形110进行光学邻近修正处理，获得位于各个子区域210中的目标修正后图形。

在对设计图形110进行光学邻近修正后，所获得的修正后图形用于制作掩膜版，从而利用掩膜版进行光刻工艺，以在晶圆上形成对应的掩膜图形。

具体地，对相邻两个子区域210中的设计图形110进行光学邻近修正处理包括：参考图8，执行步骤S21：在相邻两个子区域210中，以任一子区域210作为第一区域211，另一子区域210作为第二区域212，在第一区域211和第二区域212交界处形成位于第二区域212中的缓冲区220，第二区域212中除缓冲区220之外的剩余区域作为固定区域240。

需要说明的是，为了便于图示，图8为图7中虚线框中的设计图形110所在相邻两个子区域210的局部放大图。

缓冲区220为后续需要调整修正结果的区域，位于缓冲区220中的设计图形110的目标修正后图形，经结合相邻两个子区域210中对应的修正结果获得，有利于在缓冲区220中获得较为精准的目标修正后图形，而且，缓冲区220位于相邻两个子区域210的交界处，有利于使得在相邻两个子区域210的交界处，最终的目标修正后图形能够较为平滑的过渡。

第二区域212中除缓冲区220之外的剩余区域中的设计图形110距离第一区域211和第二区域212的交界线较远，受到第一区域211的影响较小，因此，第二区域212中除缓冲区220之外的剩余区域作为固定区域240，后续固定区域240中的修正结果不做调整。

本实施例中，缓冲区220沿垂直于第一区域211和第二区域212交界处的宽度L2不宜过大，也不宜过小。如果缓冲区220沿垂直于第一区域211和第二区域212交界处的宽度L2过大，则后续需要调整的修正结果的范围过大，容易增加修正处理的运算量，从而容易造成不必要的成本浪费；如果缓冲区220沿垂直于第一区域211和第二区域212交界处的宽度L2过小，则在第一区域211和第二区域212交界处进行修正结果调整的范围过小，在固定区240中存在目标修正后图形的精准度较差的情况，从而容易导致第二区域212中的光学邻近修正结果较差的问题。为此，本实施例中，缓冲区220沿垂直于第一区域211和第二区域212交界处的宽度L2为50nm至2000nm。

需要说明的是，在实际光学邻近修正处理过程中，在保障目标修正后图形的精准度的同时，尽量不增加过多的修正处理的运算量，设定缓冲区220沿垂直于第一区域211和第二区域212交界处的宽度L2为100nm至1000nm。

本实施例中，形成缓冲区220的步骤包括：将第一区域211的各边界线向第一区域211外侧平移，构成封闭的第一扩张区域250，第一扩张区域250中围绕并邻接第一区域211的区域作为缓冲区220。

通过将第一区域211的各边界线向第一区域211外侧平移，构成封闭的第一扩张区域250，则通过对第一扩张区域250进行光学邻近修正处理，获得第一区域211的目标修正后图形，有利于将第一区域211四周的区域对第一区域211的修正影响均考虑在内，从而有利于在第一区域211中获得较为精准的目标修正后图形，而且，第一扩张区域250中围绕并邻接第一区域211的区域均作为缓冲区220，则缓冲区220将第一区域211与相邻的四个子区域210之间的交界处均包括在内，从而能够为第一区域211后续与相邻的每个子区域210进行交界处的修正结果调整做准备，有利于提高调整修正结果的效率。

具体地，本实施例中，构成封闭的第一扩张区域250的步骤中，将第一区域211的各边界线向第一区域211外侧等距平移。

将第一区域211的各边界线向第一区域211外侧等距平移，获得的缓冲区220，能够使得位于第一区域211四周的缓冲区220分布均匀，有利于后续对每个第一区域211周围的修正结果的调整较为均匀。

本实施例中，在相邻两个子区域210中，以修正优先级更高的子区域210作为第一区域211。

相邻两个子区域210中，修正优先级更高的子区域210，在实际光学邻近修正处理的过程中，按照修正优先级的顺序进行光学邻近修正处理，为了避免修正过程混乱，已经完成修正的子区域210中的目标修正后图形不会再进行改动，因此，本实施例以修正优先级更高的子区域210作为第一区域211，缓冲区220位于第二区域212中，便于后续对位于缓冲区220中的修正结果进行调整。

继续参考图8，分别对各个子区域210中的设计图形110进行光学邻近修正处理的步骤还包括：形成缓冲区220之前，将子区域210的边界线向子区域210外侧平移，构成封闭的第二扩张区域230；在第一区域211和第二区域212交界处形成位于第二区域212中的缓冲区220的步骤中，第二扩张区域230覆盖缓冲区220。

后续通过对第二扩张区域230进行光学邻近修正处理，获得第一区域211和缓冲区220的修正结果，有利于将第一区域211和缓冲区220四周的区域对第一区域211和缓冲区220的修正影响均考虑在内，从而有利于在第一区域211和缓冲区220中获得较为精准的修正结果，进而有利于在第一区域211和缓冲区220中获得较为精准的目标修正后图形。

本实施例中，将子区域210的边界线向子区域210外侧平移的距离L3，大于缓冲区220沿垂直于第一区域211和第二区域212交界处的宽度L2，从而第二扩张区域230能够覆盖缓冲区220。

参考图9，执行步骤S22，对第一区域211和缓冲区220中的设计图形110进行光学邻近修正处理，获得第一修正结果。

本实施例中，基于第一修正结果形成位于第一区域211的目标修正后图形120。

需要说明的是，图9中采用虚线表示第二区域212中，基于第一修正结果得到的轮廓310。

还需要说明的是，为了图示清晰，图9为图8中虚线圈中的设计图形110的局部放大图。

基于第一修正结果形成位于第一区域211的目标修正后图形120，能够将第一区域211四周的区域对第一区域211的修正影响均考虑在内，从而有利于在第一区域211中获得较为精准的修正结果，进而有利于在第一区域211中获得较为精准的目标修正后图形120，而且，后续还通过结合第一修正结果，获得缓冲区220的修正结果。

本实施例中，对第二扩张区域230中的设计图形110进行光学邻近修正处理，并保留位于第一区域211和缓冲区220中的修正结果作为第一修正结果。

通过对第二扩张区域230进行光学邻近修正处理，获得第一区域211和缓冲区220的修正结果，有利于将第一区域211和缓冲区220四周的区域对第一区域211和缓冲区220的修正影响均考虑在内，从而有利于在第一区域211和缓冲区220中获得较为精准的第一修正结果，进而有利于在第一区域211和缓冲区220中获得较为精准的目标修正后图形。

本实施例中，第一修正结310果包括各个线段沿垂线方向的第一平移量c1，垂线方向垂直于线段的延伸方向。

本实施例中，设计图形110的轮廓分为多个首尾相连的线段，通过调整线段的位置(例如，平移线段)来减小边缘放置误差，则对第一区域211和缓冲区220进行光学邻近修正处理，即为沿垂线方向平移所述线段，因此，第一修正结果包括各个线段沿垂线方向的第一平移量c1。

参考图10，执行步骤S23：对第二区域212中的设计图形110进行光学邻近修正处理，获得第二修正结果。

本实施例中，基于第二修正结果形成位于固定区域240的第一修正后图形。

需要说明的是，图10中采用点划线表示第二区域212中，基于第二修正结果得到的轮廓320。

还需要说明的是，为了图示清晰，位于固定区域240的第一修正后图形未示出。

固定区域240中的设计图形110距离第一区域211和第二区域212的交界线较远，受到第一区域211的影响较小，因此，可以直接基于第二修正结果形成位于固定区域240的第一修正后图形。

本实施例中，对第二扩张区域230中的设计图形110进行光学邻近修正处理，并保留位于第二区域212中的修正结果作为第二修正结果。

为了使得每个子区域210均获得较为精准的修正结果，对每个子区域210进行光学邻近修正处理的步骤中，每个子区域210均形成有相对应的第二扩张区域230，本实施例中，为了图示清晰，图7中仅示出对应第一区域211形成第二扩张区域230的情况，未将第二区域212对应的第二扩张区域230示出。

通过对第二扩张区域230进行光学邻近修正处理，获得第二区域212中的修正结果，有利于将第二区域212四周的区域对第二区域212的修正影响均考虑在内，从而有利于在第二区域212中获得较为精准的第二修正结果，进而有利于在第二区域212中获得较为精准的第一修正后图形。

本实施例中，第二修正结果包括各个线段沿垂线方向的第二平移量c2。

本实施例中，设计图形110的轮廓分为多个首尾相连的线段，通过调整线段的位置(例如，平移线段)来减小边缘放置误差，则对第二区域212进行光学邻近修正处理，即为沿垂线方向平移所述线段，因此，第二修正结果包括各个线段沿垂线方向的第二平移量c2。

本实施例中，第一平移量c1和第二平移量c2均作为后续获得缓冲区220的第三修正结果的参考量。

结合参考图10和图11，执行步骤S24：结合第一修正结果和第二修正结果，获得缓冲区220所对应的第三修正结果。

本实施例中，基于第三修正结果形成位于缓冲区220的第二修正后图形130，第二修正后图形130和位于第二区域212中的第一修正后图形构成第二区域212的目标修正后图形。

需要说明的是，本实施例中，在相邻两个子区域210中，结合第一修正结果和第二修正结果，获得位于缓冲区220的第三修正结果，相邻两个子区域210还包括沿斜线方向，具有相同顶点的斜线方向相邻两个子区域210，斜线方向相邻两个子区域210的光学邻近修正处理也会互相影响，在斜线方向相邻的两个子区域210中，缓冲区220中的第三修正结果也应结合斜线方向相邻的两个子区域210中的第一修正结果和第二修正结果获得，然而，在实际进行光学邻近修正处理的过程中，斜线方向相邻的两个子区域210因仅顶点重合，因此，斜线方向相邻两个子区域210之间的修正结果的相互影响较小，从而本实施例中，以横向相邻或纵向相邻的具有重合边的相邻子区域210为例进行说明。

还需要说明的是，本实施例中，对所述第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理的步骤中，对第二区域212中的设计图形110进行光学邻近修正处理，直至获得的第二修正结果的边缘放置误差收敛，再结合所述第一修正结果和第二修正结果，获得所述缓冲区220所对应的第三修正结果。在其他实施例中，还可以，对第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理后，结合第一修正结果和第二修正结果，获得所述缓冲区所对应的第三修正结果，再返回执行对第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，从而将第一修正结果和第二修正结果进行迭代处理，获得缓冲区所对应的第三修正结果，在进行迭代处理后，获得的第二修正结果的边缘放置误差收敛。

本实施例中，在第一区域211和第二区域212交界处形成缓冲区220，并在缓冲区220中形成的第二修正后图形130综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，相比于在缓冲区中将基于第二修正结果形成的第一修正后图形直接作为目标修正后图形的方案，本方案综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，使得在第一区域211和第二区域212交界处，第一区域211的目标修正后图形和第二区域212中固定区域240的目标修正后图形之间有过渡的第二修正后图形130，尽可能避免因第一区域211和第二区域212各自进行光学邻近修正处理，而产生因修正环境差异而导致第一区域211和第二区域212交界处修正结果差异过大的情况，从而在后续将各个子区域210拼接之后，尽可能避免了因第一区域211和第二区域212交界处修正结果差异过大，而导致第一区域211和第二区域212交界处的目标修正后图形的边缘放置误差过大的情况，进而有利于使得对设计图形110的光学邻近修正处理更为精准。

本实施例中，结合第一修正结果和第二修正结果，获得缓冲区220所对应的第三修正结果的步骤包括：在缓冲区220中，对第一修正结果和第二修正结果进行加权处理，获得第三修正结果。

本实施例对第一修正结果和第二修正结果进行加权处理，获得第三修正结果，有利于使得综合考虑了第一修正结果和第二修正结果获得第三修正结果的同时，还根据第一修正结果和第二修正结果对第三修正结果的不同影响，为第一修正结果和第二修正结果分配权重，再进行加权处理，有利于获得权衡第一修正结果和第二修正结果之后，更为精准的第三修正结果。

本实施例中，对第一修正结果和第二修正结果进行加权处理的步骤包括：对每个线段的第一平移量c1和第二平移量c2进行加权处理，获得缓冲区220中的相对应的线段沿垂线方向的第三平移量c0。

具体的，利用表达式ΔC

本实施例中，设计图形110的轮廓分为多个首尾相连的线段，通过调整线段的位置(例如，平移线段)来减小边缘放置误差，则第三修正结果即为各个线段沿垂线方向的第三平移量c0，同时，第一修正结310果包括各个线段沿垂线方向的第一平移量c1，第二修正结果包括各个线段沿垂线方向的第二平移量c2，因此，本实施例通过对每个线段的第一平移量c1和第二平移量c2进行加权处理，获得缓冲区220中的相对应的线段沿垂线方向的第三平移量c0。

相应的，本实施例中，将根据第三平移量c0获得的第三修正结果中，各个线段首尾相连，即为位于缓冲区220的第二修正后图形130。

本实施例中，对每个线段的第一平移量c1和第二平移量c2进行加权处理的步骤包括：在每个线段上设置与任一同侧端点相同距离的参考点30；根据基于第一修正结果和第二修正结果各自对应的边缘放置误差、以及参考点30与第一区域211和第二区域212的交界处的垂直距离L1，获得每个线段的第一平移c1量和第二平移量c2对应的权重。

本实施例中，参考点30用于作为衡量每个线段与第一区域211和第二区域212的交界处的垂直距离L1的参考基准，为了使得每个线段的参考基准相同，每个线段上的参考点30均与同侧端点距离相同，作为一种示例，本实施例以每个线段的中点作为参考点30，在其他实施例中，还可以以每个线段的同侧端点作为参考点。

在修正处理过程中，使用光学模型和光刻胶光化学反应模型计算出设计图形110相应曝光后的模拟图形，基于模型的光学邻近修正处理将设计图形110的轮廓对应的边识别出来，曝光后的模拟图形与识别出的目标图形110轮廓进行对比，之间的差别称为边缘放置误差(edge placement error，EPE)。边缘放置误差是用来衡量修正质量的指标，边缘放置误差越小，就意味着曝光后的图形与设计图形110越接近。

相应的，本实施例中，第一修正结果对应有第一模拟图形，第二修正结果对应有第二模拟图形，第一模拟图形和第二模拟图形的边缘放置误差，即为对应第一修正结果和第二修正结果的边缘放置误差。

本实施例中，第一修正结果和第二修正结果中，线段与第一区域211和第二区域212的交界处的垂直距离L1的不同、以及各自对应的边缘放置误差的不同，均对第三修正结果具有不同的影响，因此，本实施例根据基于第一修正结果和第二修正结果各自对应的边缘放置误差、以及参考点30与第一区域211和第二区域212的交界处的垂直距离L1，获得每个线段的第一平移c1量和第二平移量c2对应的权重。

本实施例中，获得每个线段的第一平移量c1和第二平移量c2对应的权重的步骤包括：构建以边缘放置误差为变量的第一函数；构建以参考点30与第一区域211和第二区域212的交界处的垂直距离L1为变量的第二函数；对第一函数和第二函数进行加权处理，获得每个第一平移量c1和第二平移量c2对应的权重。

通过构建第一函数和第二函数，将边缘放置误差、以及参考点30与第一区域211和第二区域212的交界处的垂直距离L1的影响以函数表示，通过量化第一修正结果和第二修正结果的影响因素，有利于精准获得第一修正结果和第二修正结果分别对于获得第三修正结果的影响程度，再对第一函数和第二函数进行加权处理，获得每个第一平移量c1和第二平移量c2对应的权重，相应有利于精准地获得第一平移量c1和第二平移量c2对应的权重，并且，采用函数的方式使得获得第一平移量c1和第二平移量c2对应的权重，简便易操作，且具有广泛应用性。

具体地，本实施例中，第一函数为

本实施例中，对于第一修正结果和第二修正结果，当第一修正结果较好时，第一修正结果的边缘放置误差较小，而第二修正结果的边缘放置误差较大，则对第一修正结果和第二修正结果进行加权处理的步骤中，应当使得第一修正结果的权重较大，而第二修正结果的权重较小，从而使得第三修正结果更接近于第一修正结果。

同理，对于第一修正结果和第二修正结果，当第二修正结果较好时，应当使得第一修正结果的权重较小，而第二修正结果的权重较大，从而使得第三修正结果更接近于第二修正结果。

相应的，本实施例的第一函数f(s)中，当第一修正结果较好时，S

同理，当第二修正结果较好时，第一函数f(s)也满足使得第三修正结果更接近于第二修正结果的需求。

本实施例中，第二函数为

本实施例中，对于第一修正结果和第二修正结果，参考点30与第一区域211和第二区域212的交界处的垂直距离L

相应的，本实施例的第二函数f(L

同理，参考点30与第一区域211和第二区域212的交界处的垂直距离L

本实施例中，利用表达式W

相应的，1-W

本实施例中，第一平移量c1的权重W

需要说明的是，本实施例中，根据光学邻近修正处理的过程中，第一函数和第二函数的实际影响，设定第一函数的权重α，第一函数的权重α不宜过大，也不宜过小。如果第一函数的权重α过大，则计算第一平移量c1的权重W

本实施例中，分别对各个子区域210中的设计图形110进行光学邻近修正处理后，光学邻近修正方法还包括：将各个子区域210拼接。

本实施例中，尽可能避免因第一区域211和第二区域212各自进行光学邻近修正处理，而产生因修正环境差异而导致第一区域211和第二区域212交界处修正结果差异过大的情况，从而有利于更精准地将子区域210拼接，并且，在将各个子区域210拼接之后，尽可能避免了因第一区域211和第二区域212交界处修正结果差异过大，而导致第一区域211和第二区域212交界处的目标修正后图形的边缘放置误差过大的情况，进而有利于使得对设计图形110的光学邻近修正处理更为精准。

相应的，本发明还提供一种光学邻近修正系统。图12是本发明光学邻近修正系统一实施例的功能框图，图13是本发明光学邻近修正系统一实施例中修正模块的功能框图。

本实施例中，光学邻近修正系统50包括：版图获取模块501，用于获取设计版图，设计版图包括多个设计图形设计版图被划分为多个子区域，多个子区域呈矩阵分布；修正模块502，用于分别对各个子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得位于各个子区域中的目标修正后图形。

其中，修正模块502中，对相邻两个子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理包括：设定区域单元5021，用于在相邻两个子区域中，以任一子区域作为第一区域，另一子区域作为第二区域，在第一区域和第二区域交界处形成位于第二区域中的缓冲区，第二区域中除缓冲区之外的剩余区域作为固定区域；第一修正单元5022，用于对第一区域和缓冲区中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得第一区域和缓冲区的第一修正结果；第二修正单元5023，对第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得第二修正结果；第三修正单元5024，用于结合第一修正结果和第二修正结果，获得缓冲区所对应的第三修正结果。

图形提供模块501，用于获取设计版图，设计版图包括多个设计图形设计版图被划分为多个子区域，多个子区域呈矩阵分布。

设计图形为转移至晶圆上的目标图形，在对设计图形进行光学邻近修正后，所获得的图形用于制作掩膜版，从而利用掩膜版进行光刻工艺，以在晶圆上形成对应的掩膜图形。

由于设计版图的面积通常较大，从而将设计版图划分为多个子区域，通过对每个子区域单独进行光学邻近修正处理，再将处理后的子区域拼接，实现对设计版图的光学邻近修正处理，有利于避免对较大面积的区域进行光学邻近修正处理而耗时过长，从而节省了所述光学邻近修正处理的处理时间。

本实施例中，对每个子区域设置各自相对应的修正优先级。

对每个子区域设置各自相对应的修正优先级，从而在后续分别对各个子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理的步骤中，每个子区域根据各自对应的修正优先级依次修正，有利于避免因所有子区域同时修正，而导致相邻子区域交界处因受到相邻子区域的共同影响，而产生修正振荡，从而难以获得确定的修正结果的情况，从而有利于减小在相邻子区域的交界处修正结果紊乱的概率，进而有利于获得较为精确的光学邻近修正结果。

作为一种示例，本实施例将子区域的修正优先级设置为四级，分别标识为0、1、2和3，由0至3修正优先级递减，其中，相交于同一点的四个子区域的修正优先级分别设置为0、1、2和3。

本实施例中，后续分别对各个子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理之前，还包括：对各个子区域中的设计图形的边进行分割，沿设计图形的轮廓形成多个首尾相连的线段。

在后续对设计图形进行光学邻近修正的过程中，为了减少边缘移动的任意性，通过调整线段的位置(例如，平移线段)来减小边缘放置误差。本实施例中，沿设计图形的轮廓形成多个首尾相连的线段，后续调整线段的位置进行光学邻近修正。

修正模块502用于分别对各个子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得位于各个子区域中的目标修正后图形。

在对设计图形进行光学邻近修正后，所获得的图形用于制作掩膜版，从而利用掩膜版进行光刻工艺，以在晶圆上形成对应的掩膜图形。

具体地，修正模块502中，对相邻两个子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理包括：设定区域单元5021，用于在相邻两个子区域中，以任一子区域作为第一区域，另一子区域作为第二区域，在第一区域和第二区域交界处形成位于第二区域中的缓冲区，第二区域中除缓冲区之外的剩余区域作为固定区域。

缓冲区为后续需要调整修正结果的区域，位于缓冲区中的设计图形的目标修正后图形，经结合相邻两个子区域中对应的修正结果获得，有利于在缓冲区中获得较为精准的目标修正后图形，而且，缓冲区位于相邻两个子区域的交界处，有利于使得在相邻两个子区域的交界处，最终的目标修正后图形能够较为平滑的过渡。

第二区域中除缓冲区之外的剩余区域中的设计图形距离第一区域和第二区域的交界线较远，受到第一区域的影响较小，因此，第二区域中除缓冲区之外的剩余区域作为固定区域，后续固定区域中的修正结果不做调整。

本实施例中，缓冲区沿垂直于第一区域和第二区域交界处的宽度L2不宜过大，也不宜过小。如果缓冲区沿垂直于第一区域和第二区域交界处的宽度L2过大，则后续需要调整的修正结果的范围过大，容易增加修正处理的运算量，从而在保障第一区域和第二区域交界处的目标修正后图形的精准度的同时，容易造成不必要的成本浪费；如果缓冲区沿垂直于第一区域和第二区域交界处的宽度L2过小，则在第一区域和第二区域交界处进行修正结果调整的范围过小，在固定区中存在目标修正后图形的精准度较差的情况，从而容易导致第二区域中的光学邻近修正结果较差的问题。为此，本实施例中，缓冲区沿垂直于第一区域和第二区域交界处的宽度L2为50nm至2000nm。

需要说明的是，在实际光学邻近修正处理过程中，在保障目标修正后图形的精准度的同时，尽量不增加过多的修正处理的运算量，设定缓冲区220沿垂直于第一区域和第二区域交界处的宽度L2为100nm至1000nm。

本实施例中，将第一区域的各边界线向第一区域外侧平移，构成封闭的第一扩张区域，第一扩张区域中围绕并邻接第一区域的区域作为缓冲区。

通过将第一区域的各边界线向第一区域外侧平移，构成封闭的第一扩张区域，则通过对第一扩张区域进行光学邻近修正处理，获得第一区域的目标修正后图形，有利于将第一区域四周的区域对第一区域的修正影响均考虑在内，从而有利于在第一区域中获得较为精准的目标修正后图形，而且，第一扩张区域中围绕并邻接第一区域的区域均作为缓冲区，则缓冲区将第一区域与相邻的四个子区域之间的交界处均包括在内，从而能够为第一区域后续与相邻的每个子区域进行交界处的修正结果调整做准备，有利于提高修正结果的调整的效率。

具体地，本实施例中，构成封闭的第一扩张区域的步骤中，将第一区域的各边界线向第一区域外侧等距平移。

将第一区域的各边界线向第一区域外侧等距平移，获得的缓冲区，能够使得位于第一区域四周的缓冲区分布均匀，有利于后续对每个第一区域周围的修正结果的调整较为均匀。

本实施例中，在相邻两个子区域中，以修正优先级更高的子区域作为第一区域。

相邻两个子区域中，修正优先级更高的子区域，在实际光学邻近修正处理的过程中，按照修正优先级的顺序进行光学邻近修正处理，为了避免修正过程混乱，已经完成修正的子区域中的目标修正后图形不会再进行改动，因此，本实施例以修正优先级更高的子区域作为第一区域，缓冲区位于第二区域中，便于后续对位于缓冲区中的修正结果进行调整。

本实施例中，形成缓冲区之前，将子区域的边界线向子区域外侧平移，构成封闭的第二扩张区域，第二扩张区域覆盖缓冲区。

后续通过对第二扩张区域进行光学邻近修正处理，获得第一区域和缓冲区的修正结果，有利于将第一区域和缓冲区四周的区域对第一区域和缓冲区的修正影响均考虑在内，从而有利于在第一区域和缓冲区中获得较为精准的修正结果，进而有利于在第一区域和缓冲区中获得较为精准的目标修正后图形。

本实施例中，将子区域的边界线向子区域外侧平移的距离L3，大于缓冲区沿垂直于第一区域和第二区域交界处的宽度L2，从而第二扩张区域能够覆盖缓冲区。

修正模块502还包括：第一修正单元5022，用于对第一区域和缓冲区中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得第一修正结果，并基于第一修正结果形成位于第一区域的目标修正后图形。

基于第一修正结果形成位于第一区域的目标修正后图形，能够将第一区域四周的区域对第一区域的修正影响均考虑在内，从而有利于在第一区域中获得较为精准的修正结果，进而有利于在第一区域中获得较为精准的目标修正后图形，而且，后续还通过结合第一修正结果，获得缓冲区的修正结果。

本实施例中，对第二扩张区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，并保留位于第一区域和缓冲区中的修正结果作为第一修正结果。

通过对第二扩张区域进行光学邻近修正处理，获得第一区域和缓冲区的修正结果，有利于将第一区域和缓冲区四周的区域对第一区域和缓冲区的修正影响均考虑在内，从而有利于在第一区域和缓冲区中获得较为精准的第一修正结果，进而有利于在第一区域和缓冲区中获得较为精准的目标修正后图形。

本实施例中，第一修正结果包括各个线段沿垂线方向的第一平移量c1，垂线方向垂直于线段的延伸方向。

本实施例中，设计图形的轮廓分为多个首尾相连的线段，通过调整线段的位置(例如，平移线段)来减小边缘放置误差，则对第一区域和缓冲区进行光学邻近修正处理，即为沿垂线方向平移所述线段，因此，第一修正结果包括各个线段沿垂线方向的第一平移量c1。

修正模块502还包括：第二修正单元5023，用于对第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，获得第二修正结果，并基于第二修正结果形成位于固定区域的第一修正后图形。

固定区域中的设计图形距离第一区域和第二区域的交界线较远，受到第一区域的影响较小，因此，可以直接基于第二修正结果形成位于固定区域的第一修正后图形。

本实施例中，对第二扩张区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，并保留位于第二区域中的修正结果作为第二修正结果。

为了使得每个子区域均获得较为精准的修正结果，对每个子区域进行光学邻近修正处理的步骤中，每个子区域均形成有相对应的第二扩张区域。

通过对第二扩张区域进行光学邻近修正处理，获得第二区域中的修正结果，有利于将第二区域四周的区域对第二区域的修正影响均考虑在内，从而有利于在第二区域中获得较为精准的第二修正结果，进而有利于在第二区域中获得较为精准的第一修正后图形。

本实施例中，第二修正结果包括各个线段沿垂线方向的第二平移量c2。

本实施例中，设计图形的轮廓分为多个首尾相连的线段，通过调整线段的位置(例如，平移线段)来减小边缘放置误差，则对第二区域进行光学邻近修正处理，即为沿垂线方向平移所述线段，因此，第二修正结果包括各个线段沿垂线方向的第二平移量c2。

本实施例中，第一平移量c1和第二平移量c2均作为后续获得缓冲区的第三修正结果的参考量。

修正模块502还包括：第三修正单元5024，用于结合第一修正结果和第二修正结果，获得缓冲区所对应的第三修正结果，并基于第三修正结果形成位于缓冲区的第二修正后图形，第二修正后图形和位于第二区域中的第一修正后图形构成第二区域的目标修正后图形。

需要说明的是，本实施例中，在相邻两个子区域中，结合第一修正结果和第二修正结果，获得位于缓冲区的第三修正结果，相邻两个子区域还包括沿斜线方向，具有相同顶点的斜线方向相邻两个子区域，斜线方向相邻两个子区域的光学邻近修正处理也会互相影响，在斜线方向相邻的两个子区域中，缓冲区中的第三修正结果也应结合斜线方向相邻的两个子区域中的第一修正结果和第二修正结果获得，然而，在实际进行光学邻近修正处理的过程中，斜线方向相邻的两个子区域因仅顶点重合，因此，斜线方向相邻两个子区域之间的修正结果的相互影响较小，从而本实施例中，以横向相邻或纵向相邻的具有重合边的相邻子区域为例进行说明。

还需要说明的是，本实施例中，对第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理的步骤中，对第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，直至获得的第二修正结果的边缘放置误差收敛，再结合第一修正结果和第二修正结果，获得缓冲区所对应的第三修正结果。在其他实施例中，还可以，对第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理后，结合第一修正结果和第二修正结果，获得所述缓冲区所对应的第三修正结果，再返回执行对第二区域中的设计图形进行光学邻近修正处理，从而将第一修正结果和第二修正结果进行迭代处理，获得缓冲区所对应的第三修正结果，在进行迭代处理后，获得的第二修正结果的边缘放置误差收敛。

本实施例中，在第一区域和第二区域交界处形成缓冲区，并在缓冲区中形成的第二修正后图形综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，相比于在缓冲区中将基于第二修正结果形成的第一修正后图形直接作为目标修正后图形的方案，本方案综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，使得在第一区域和第二区域交界处，第一区域的目标修正后图形和第二区域中固定区域的目标修正后图形之间有过渡的第二修正后图形，尽可能避免因第一区域和第二区域各自进行光学邻近修正处理，而产生因修正环境差异而导致第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大的情况，从而在后续将各个子区域拼接之后，尽可能避免了因第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大，而导致第一区域和第二区域交界处的目标修正后图形的边缘放置误差过大的情况，进而有利于使得对设计图形的光学邻近修正处理更为精准。

本实施例中，在缓冲区中，对第一修正结果和第二修正结果进行加权处理，获得第三修正结果。

本实施例对第一修正结果和第二修正结果进行加权处理，获得第三修正结果，有利于使得综合考虑了第一修正结果和第二修正结果获得第三修正结果的同时，还根据第一修正结果和第二修正结果对第三修正结果的不同影响，为第一修正结果和第二修正结果分配权重，再进行加权处理，有利于获得权衡第一修正结果和第二修正结果之后，更为精准的第三修正结果。

本实施例中，对每个线段的第一平移量c1和第二平移量c2进行加权处理，获得缓冲区中的相对应的线段沿垂线方向的第三平移量c0。

具体的，利用表达式ΔC

本实施例中，设计图形的轮廓分为多个首尾相连的线段，通过调整线段的位置(例如，平移线段)来减小边缘放置误差，则第三修正结果即为各个线段沿垂线方向的第三平移量c0，同时，第一修正结果包括各个线段沿垂线方向的第一平移量c1，第二修正结果包括各个线段沿垂线方向的第二平移量c2，因此，本实施例通过对每个线段的第一平移量c1和第二平移量c2进行加权处理，获得缓冲区中的相对应的线段沿垂线方向的第三平移量c0。

相应的，本实施例中，将根据第三平移量c0获得的第三修正结果中，各个线段首尾相连，即为位于缓冲区的第二修正后图形。

本实施例中，在每个线段上设置与任一同侧端点相同距离的参考点；根据基于第一修正结果和第二修正结果各自对应的边缘放置误差、以及参考点与第一区域和第二区域的交界处的垂直距离L1，获得每个线段的第一平移c1量和第二平移量c2对应的权重。

本实施例中，参考点用于作为衡量每个线段与第一区域和第二区域的交界处的垂直距离L1的参考基准，为了使得每个线段的参考基准相同，每个线段上的参考点均与同侧端点距离相同，作为一种示例，本实施例以每个线段的中点作为参考点，在其他实施例中，还可以以每个线段的同侧端点作为参考点。

在修正处理过程中，使用光学模型和光刻胶光化学反应模型计算出设计图形相应曝光后的模拟图形，基于模型的光学邻近修正处理将设计图形的轮廓对应的边识别出来，曝光后的模拟图形与识别出的目标图形轮廓进行对比，之间的差别称为边缘放置误差。边缘放置误差是用来衡量修正质量的指标，边缘放置误差越小，就意味着曝光后的图形与设计图形越接近。

相应的，本实施例中，第一修正结果对应有第一模拟图形，第二修正结果对应有第二模拟图形，第一模拟图形和第二模拟图形的边缘放置误差，即为对应第一修正结果和第二修正结果的边缘放置误差。

本实施例中，第一修正结果和第二修正结果中，线段与第一区域和第二区域的交界处的垂直距离L1的不同、以及各自对应的边缘放置误差的不同，均对第三修正结果具有不同的影响，因此，本实施例根据基于第一修正结果和第二修正结果各自对应的边缘放置误差、以及参考点与第一区域和第二区域的交界处的垂直距离L1，获得每个线段的第一平移c1量和第二平移量c2对应的权重。

本实施例中，构建以边缘放置误差为变量的第一函数；构建以参考点与第一区域和第二区域的交界处的垂直距离L1为变量的第二函数；对第一函数和第二函数进行加权处理，获得每个第一平移量c1和第二平移量c2对应的权重。

通过构建第一函数和第二函数，将边缘放置误差、以及参考点与第一区域和第二区域的交界处的垂直距离L1的影响以函数表示，通过量化第一修正结果和第二修正结果的影响因素，有利于精准获得第一修正结果和第二修正结果分别对于获得第三修正结果的影响程度，再对第一函数和第二函数进行加权处理，获得每个第一平移量c1和第二平移量c2对应的权重，相应有利于精准地获得第一平移量c1和第二平移量c2对应的权重，并且，采用函数的方式使得获得第一平移量c1和第二平移量c2对应的权重，简便易操作，且具有广泛应用性。

具体地，本实施例中，第一函数为

本实施例中，对于第一修正结果和第二修正结果，当第一修正结果较好时，第一修正结果的边缘放置误差较小，而第二修正结果的边缘放置误差较大，则对第一修正结果和第二修正结果进行加权处理中，应当使得第一修正结果的权重较大，而第二修正结果的权重较小，从而使得第三修正结果更接近于第一修正结果。

同理，对于第一修正结果和第二修正结果，当第二修正结果较好时，应当使得第一修正结果的权重较小，而第二修正结果的权重较大，从而使得第三修正结果更接近于第二修正结果。

相应的，本实施例的第一函数f(s)中，当第一修正结果较好时，S

同理，当第二修正结果较好时，第一函数f(s)也满足使得第三修正结果更接近于第二修正结果的需求。

本实施例中，第二函数为

本实施例中，对于第一修正结果和第二修正结果，参考点与第一区域和第二区域的交界处的垂直距离L

相应的，本实施例的第二函数f(L

同理，参考点与第一区域和第二区域的交界处的垂直距离L

本实施例中，利用表达式W

相应的，1-W

本实施例中，第一平移量c1的权重W

需要说明的是，本实施例中，根据光学邻近修正处理的过程中，第一函数和第二函数的实际影响，设定第一函数的权重α，第一函数的权重α不宜过大，也不宜过小。如果第一函数的权重α过大，则计算第一平移量c1的权重W

本实施例中，分别对各个子区域中的设计图形进行光学邻近修正处理后，光学邻近修正方法还包括：将各个子区域拼接。

本实施例中，尽可能避免因第一区域和第二区域各自进行光学邻近修正处理，而产生因修正环境差异而导致第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大的情况，从而有利于更精准地将子区域拼接，并且，在将各个子区域拼接之后，尽可能避免了因第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大，而导致第一区域和第二区域交界处的目标修正后图形的边缘放置误差过大的情况，进而有利于使得对设计图形的光学邻近修正处理更为精准。

相应地，本发明还提供一种掩膜版，包括：利用本发明实施例提供的光学邻近修正方法获得的图形。

由前述的实施例可知，本发明实施例中，在第一区域和第二区域交界处形成缓冲区，并在缓冲区中形成的第二修正后图形综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，相比于在缓冲区中将基于第二修正结果形成的第一修正后图形直接作为目标修正后图形的方案，本方案综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，使得在第一区域和第二区域交界处，第一区域的目标修正后图形和第二区域中固定区域的目标修正后图形之间有过渡的第二修正后图形，尽可能避免因第一区域和第二区域各自进行光学邻近修正处理，而产生因修正环境差异而导致第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大的情况，从而在后续将各个子区域拼接之后，尽可能避免了因第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大，而导致第一区域和第二区域交界处的目标修正后图形的边缘放置误差过大的情况，进而有利于使得对设计图形的光学邻近修正处理更为精准。

本发明实施例还提供一种设备，该设备可以通过装载程序形式的上述光学邻近修正方法，以实现本发明实施例提供的光学邻近修正方法。本发明实施例提供的终端设备的一种可选硬件结构可以如图14所示，包括：至少一个处理器01，至少一个通信接口02，至少一个存储器03和至少一个通信总线04。

本实施例中，处理器01、通信接口02、存储器03、通信总线04的数量为至少一个，且处理器01、通信接口02、存储器03通过通信总线04完成相互间的通信。通信接口02可以为用于进行网络通信的通信模块的接口，如GSM模块的接口。处理器01可能是中央处理器CPU，或者是特定集成电路(Application Specific Integrated Circuit，ASIC)，或者是被配置成实施本发明实施例的一个或多个集成电路。存储器03可能包含高速RAM存储器，也可能还包括非易失性存储器(non-volatile memory，NVM)，例如至少一个磁盘存储器。其中，存储器03存储有一条或多条计算机指令，所述一条或多条计算机指令被处理器01执行以实现本发明实施例提供的光学邻近修正方法。

需要说明的是，上述的实现终端设备还可以包括与本发明实施例公开内容可能并不是必需的其他器件(未示出)；鉴于这些其他器件对于理解本发明实施例公开内容可能并不是必需，本发明实施例对此不进行逐一介绍。

本发明实施例还提供一种存储介质，所述存储介质存储有一条或多条计算机指令，所述一条或多条计算机指令用于实现本发明实施例提供的光学邻近修正方法。

本发明实施例中，在第一区域和第二区域交界处形成缓冲区，并在缓冲区中形成的第二修正后图形综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，相比于在缓冲区中将基于第二修正结果形成的第一修正后图形直接作为目标修正后图形的方案，本方案综合考虑了第一修正结果和第二修正结果，使得在第一区域和第二区域交界处，第一区域的目标修正后图形和第二区域中固定区域的目标修正后图形之间有过渡的第二修正后图形，尽可能避免因第一区域和第二区域各自进行光学邻近修正处理，而产生因修正环境差异而导致第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大的情况，从而在后续将各个子区域拼接之后，尽可能避免了因第一区域和第二区域交界处修正结果差异过大，而导致第一区域和第二区域交界处的目标修正后图形的边缘放置误差过大的情况，进而有利于使得对设计图形的光学邻近修正处理更为精准。

上述本发明的实施方式是本发明的元件和特征的组合。除非另外提及，否则所述元件或特征可被视为选择性的。各个元件或特征可在不与其它元件或特征组合的情况下实践。另外，本发明的实施方式可通过组合部分元件和/或特征来构造。本发明的实施方式中所描述的操作顺序可重新排列。任一实施方式的一些构造可被包括在另一实施方式中，并且可用另一实施方式的对应构造代替。对于本领域技术人员而言明显的是，所附权利要求中彼此没有明确引用关系的权利要求可组合成本发明的实施方式，或者可在提交本申请之后的修改中作为新的权利要求包括。

本发明的实施方式可通过例如硬件、固件、软件或其组合的各种手段来实现。在硬件配置方式中，根据本发明示例性实施方式的方法可通过一个或更多个专用集成电路(ASIC)、数字信号处理器(DSP)、数字信号处理器件(DSPD)、可编程逻辑器件(PLD)、现场可编程门阵列(FPGA)、处理器、控制器、微控制器、微处理器等来实现。在固件或软件配置方式中，本发明的实施方式可以模块、过程、功能等形式实现。软件代码可存储在存储器单元中并由处理器执行。存储器单元位于处理器的内部或外部，并可经由各种己知手段向处理器发送数据以及从处理器接收数据。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其他实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。