用于制备半导体芯片的高纯铝的真空提纯炉

技术领域

本发明涉及真空提纯炉技术领域，具体为用于制备半导体芯片的高纯铝的真空提纯炉。

背景技术

在铝提纯过程中，提纯炉作为必要的设备，用户将原料精铝由固体加入提纯炉内，且提纯炉在加热的环境下，原料精铝熔化为液体，由此，从而能够后续进行液体中铝的提纯；

现有真空提纯炉在使用过程中，会出现以下不便之处：1、现有真空提纯炉其内部结构较为单一，多数只能实现对铝材的高温融化提纯工作，该种操作方式需花费操作人员较多工作时长，从而降低了其使用效率，且现有真空提纯炉在使用前还需操作人员手动的对密封盖进行打开工作，该种操作方式较为繁琐槽，降低了其使用的实用性；2、现有真空提纯炉内部密封效果较差，工作时容易引起真空泄漏，影响后续的提纯品质，从而增加了该真空提纯炉使用的不便。

发明内容

本发明的目的在于提供用于制备半导体芯片的高纯铝的真空提纯炉，以解决上述背景技术中提出现有真空提纯炉在使用过程中，会出现以下不便之处：1、现有真空提纯炉其内部结构较为单一，多数只能实现对铝材的高温融化提纯工作，该种操作方式需花费操作人员较多工作时长，从而降低了其使用效率，且现有真空提纯炉在使用前还需操作人员手动的对密封盖进行打开工作，该种操作方式较为繁琐槽，降低了其使用的实用性；2、现有真空提纯炉内部密封效果较差，工作时容易引起真空泄漏，影响后续的提纯品质，从而增加了该真空提纯炉使用的不便的相关问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：包括真空提纯炉，所述真空提纯炉外侧的底部设有四组支撑杆，同侧一组所述支撑杆远离真空提纯炉一侧的底部设有放置板，所述放置板的顶部设有与真空提纯炉内部相配合的真空泵，所述真空提纯炉的内部设有与其相配合的提纯内炉，所述提纯内炉内底部的中间位置处设有延伸至真空提纯炉外部的排料阀，所述提纯内炉内顶部的中间位置处设有固定杆，所述固定杆的内部贯穿设有与提纯内炉相配合的搅拌杆，所述搅拌杆一侧的顶部设有第一限位抵制杆，所述真空提纯炉外侧的顶部固定套设有矩形固定块，所述矩形固定块的内部设有四组密封组件，所述矩形固定块顶部两侧和两端边缘处的中间位置处皆设有限位杆，四组所述限位杆的外侧共同套设有套块，四组所述套块相靠近的一侧共同设有与真空提纯炉相配合的密封盖，四组所述限位杆的顶部共同设有安装板，所述安装板顶部的中间位置处设有延伸至密封盖内部的抬升搅拌组件。

优选的，所述密封组件包括铰接板、抵制杆、按压块、密封块、凹槽、铰接杆、安装槽和卷簧，所述安装槽设有四组，四组所述安装槽位于矩形固定块内部两侧和两端的内侧，四组所述安装槽内部的中间位置处皆铰接设有铰接板，且铰接板两端的中间位置处皆设有与安装槽相连接的卷簧，四组所述铰接板顶部相靠近的一侧皆铰接设有铰接杆，四组所述铰接杆的顶部皆铰接设有延伸至矩形固定块外部的密封块，四组所述安装槽内顶部相远离的一侧皆贯穿设有与铰接板相配合的抵制杆，所述凹槽设有八组，八组所述凹槽位于真空提纯炉外部两侧和两端的顶部与密封盖内部两侧和两端的底部并与密封块相互配合，所述按压块设有四组，四组所述按压块位于密封盖外部两侧和两端底部的中间位置处并与抵制杆相互配合。

优选的，所述抬升搅拌组件包括U型安装板、伺服电机、螺纹、转动杆、内螺纹套筒、第二限位抵制杆、限位滑槽、内螺纹套块、限位螺栓、环形滑槽和L型滑杆，所述U型安装板位于安装板顶部的中间位置处，所述U型安装板内底部的中间位置处设有伺服电机，所述伺服电机的输出端设有通过安装板延伸至密封盖内部的转动杆，所述转动杆底部的一侧设有与第一限位抵制杆相配合的第二限位抵制杆，所述转动杆外侧的顶部设有螺纹，所述转动杆外侧的中间位置处设有与螺纹相配合的内螺纹套筒，所述内螺纹套筒的一侧设有限位滑槽，所述内螺纹套块位于安装板顶部靠近限位滑槽一侧的中间位置处，所述内螺纹套块的内部螺纹贯穿设有与限位滑槽相配合的限位螺栓，所述环形滑槽位于密封盖顶部的中间位置处，所述环形滑槽的内部设有四组与内螺纹套筒底部相连接的L型滑杆。

优选的，所述密封盖内部的中间位置处设有与转动杆相配合的通孔，所述转动杆外侧的底部设有与通孔相配合的梯形密封圈，且梯形密封圈的底部设有与转动杆相连接的隔热板。

优选的，四组所述支撑杆相靠近一侧的顶部皆设有L型固定杆，且L型固定杆与真空提纯炉的底部相互连接。

优选的，所述搅拌杆、固定杆、第一限位抵制杆、第二限位抵制杆和转动杆皆由高铬镍奥氏体不锈钢制成。

优选的，四组所述安装槽内顶部两侧的中间位置处皆设有限位通槽和限位通孔，且限位通槽和限位通孔分别与密封块和抵制杆相互配合。

优选的，四组所述铰接板内部的中间位置处皆设有转轴，且转轴的两端皆连接设有与安装槽相连接的卷簧。

优选的，所述环形滑槽和L型滑杆相靠近的一侧皆由T型结构制成。

优选的，所述限位螺栓远离限位滑槽的一侧设有转盘，且转盘的外侧均匀设有防滑块。

与现有技术相比，本发明提供了用于制备半导体芯片的高纯铝的真空提纯炉，具备以下有益效果：

1、本发明通过限位螺栓、内螺纹套块、限位滑槽、内螺纹套筒、伺服电机、转动杆、螺纹、L型滑杆、环形滑槽、密封盖、真空提纯炉、套块、限位杆、第二限位抵制杆、第一限位抵制杆和搅拌杆的相互配合，即可实现对密封盖的打开盖合工作，还可实现搅拌杆的转动搅拌工作，以便实现自动打开盖合功能，减少操作人员开合步骤，同时还可提高该真空提纯炉的融化效率，降低操作人员等待时长，从而可提高该真空提纯炉使用的便捷性和实用性。

2、本发明利用密封盖、按压块、抵制杆、铰接板、卷簧、铰接杆、密封块和凹槽的相互配合，可方便密封盖在盖合过程中实现对真空提纯炉的密封工作，有效的防止了真空泄漏现象，以提高后续提纯品质，且该结构设计简单合理，适于推广。

附图说明

图1为本发明的主视剖视图；

图2为本发明的主视图；

图3为本发明的主视剖视打开图；

图4为本发明的真空提纯炉的俯视图；

图5为本发明的密封盖的主视剖视图；

图6为本发明的U型安装板的立体结构示意图；

图7为本发明图1的A处结构放大示意图；

图8为本发明图1的B处结构放大示意图；

图9为本发明图1的C处结构放大示意图。

图中：1、真空提纯炉；2、搅拌杆；3、套块；4、安装板；5、U型安装板；6、伺服电机；7、螺纹；8、限位杆；9、密封盖；10、固定杆；11、矩形固定块；12、提纯内炉；13、真空泵；14、放置板；15、支撑杆；16、排料阀；17、铰接板；18、抵制杆；19、按压块；20、密封块；21、凹槽；22、铰接杆；23、安装槽；24、卷簧；25、第一限位抵制杆；26、第二限位抵制杆；27、限位滑槽；28、内螺纹套块；29、限位螺栓；30、转动杆；31、环形滑槽；32、内螺纹套筒；33、L型滑杆。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-9，本发明提供技术方案：用于制备半导体芯片的高纯铝的真空提纯炉，包括真空提纯炉1，真空提纯炉1外侧的底部设有四组支撑杆15，同侧一组支撑杆15远离真空提纯炉1一侧的底部设有放置板14，放置板14的顶部设有与真空提纯炉1内部相配合的真空泵13，真空提纯炉1的内部设有与其相配合的提纯内炉12，提纯内炉12内底部的中间位置处设有延伸至真空提纯炉1外部的排料阀16，提纯内炉12内顶部的中间位置处设有固定杆10，固定杆10的内部贯穿设有与提纯内炉12相配合的搅拌杆2，搅拌杆2一侧的顶部设有第一限位抵制杆25，真空提纯炉1外侧的顶部固定套设有矩形固定块11，矩形固定块11的内部设有四组密封组件，便于实现该真空提纯炉使用的密封性能防止真空泄漏，矩形固定块11顶部两侧和两端边缘处的中间位置处皆设有限位杆8，四组限位杆8的外侧共同套设有套块3，四组套块3相靠近的一侧共同设有与真空提纯炉1相配合的密封盖9，四组限位杆8的顶部共同设有安装板4，安装板4顶部的中间位置处设有延伸至密封盖9内部的抬升搅拌组件，便于实现自动盖合功能和搅拌功能以便提高该真空提纯炉使用的便捷性和实用性。

作为本实施例的优选方案：密封组件包括铰接板17、抵制杆18、按压块19、密封块20、凹槽21、铰接杆22、安装槽23和卷簧24，安装槽23设有四组，四组安装槽23位于矩形固定块11内部两侧和两端的内侧，四组安装槽23内部的中间位置处皆铰接设有铰接板17，且铰接板17两端的中间位置处皆设有与安装槽23相连接的卷簧24，四组铰接板17顶部相靠近的一侧皆铰接设有铰接杆22，四组铰接杆22的顶部皆铰接设有延伸至矩形固定块11外部的密封块20，四组安装槽23内顶部相远离的一侧皆贯穿设有与铰接板17相配合的抵制杆18，凹槽21设有八组，八组凹槽21位于真空提纯炉1外部两侧和两端的顶部与密封盖9内部两侧和两端的底部并与密封块20相互配合，按压块19设有四组，四组按压块19位于密封盖9外部两侧和两端底部的中间位置处并与抵制杆18相互配合，便于实现该真空提纯炉使用的密封性能防止真空泄漏。

作为本实施例的优选方案：抬升搅拌组件包括U型安装板5、伺服电机6、螺纹7、转动杆30、内螺纹套筒32、第二限位抵制杆26、限位滑槽27、内螺纹套块28、限位螺栓29、环形滑槽31和L型滑杆33，U型安装板5位于安装板4顶部的中间位置处，U型安装板5内底部的中间位置处设有伺服电机6，伺服电机6的输出端设有通过安装板4延伸至密封盖9内部的转动杆30，转动杆30底部的一侧设有与第一限位抵制杆25相配合的第二限位抵制杆26，转动杆30外侧的顶部设有螺纹7，转动杆30外侧的中间位置处设有与螺纹7相配合的内螺纹套筒32，内螺纹套筒32的一侧设有限位滑槽27，内螺纹套块28位于安装板4顶部靠近限位滑槽27一侧的中间位置处，内螺纹套块28的内部螺纹贯穿设有与限位滑槽27相配合的限位螺栓29，环形滑槽31位于密封盖9顶部的中间位置处，环形滑槽31的内部设有四组与内螺纹套筒32底部相连接的L型滑杆33，便于实现自动盖合功能和搅拌功能以便提高该真空提纯炉使用的便捷性和实用性。

作为本实施例的优选方案：密封盖9内部的中间位置处设有与转动杆30相配合的通孔，转动杆30外侧的底部设有与通孔相配合的梯形密封圈，且梯形密封圈的底部设有与转动杆30相连接的隔热板，便于实现通孔与转动杆30的密封工作防止真空泄漏。

作为本实施例的优选方案：四组支撑杆15相靠近一侧的顶部皆设有L型固定杆，且L型固定杆与真空提纯炉1的底部相互连接，便于进一步提高真空提纯炉1安装的稳定性。

作为本实施例的优选方案：搅拌杆2、固定杆10、第一限位抵制杆25、第二限位抵制杆26和转动杆30皆由高铬镍奥氏体不锈钢制成，防止高温熔化搅拌杆2、固定杆10、第一限位抵制杆25、第二限位抵制杆26和转动杆30。

作为本实施例的优选方案：四组安装槽23内顶部两侧的中间位置处皆设有限位通槽和限位通孔，且限位通槽和限位通孔分别与密封块20和抵制杆18相互配合，便于实现密封块20和抵制杆18的顶出工作。

作为本实施例的优选方案：四组铰接板17内部的中间位置处皆设有转轴，且转轴的两端皆连接设有与安装槽23相连接的卷簧24，便于实现铰接板17转动连接工作。

作为本实施例的优选方案：环形滑槽31和L型滑杆33相靠近的一侧皆由T型结构制成，便于L型滑杆33转动的同时便于对密封盖9及其以上部件进行抬升工作。

作为本实施例的优选方案：限位螺栓29远离限位滑槽27的一侧设有转盘，且转盘的外侧均匀设有防滑块，防止转动时传输滑动。

实施例1，如图1-6、8、9所示在工作时，可先转动限位螺栓29使其在内螺纹套块28内部进行转动移动插入至限位滑槽27的内部，以实现对内螺纹套筒32的限位工作，而后可通过伺服电机6带动转动杆30和螺纹7同时进行转动，使得内螺纹套筒32在螺纹7的外部进行转动，此时通过L型滑杆33与环形滑槽31的配合连接，可使得内螺纹套筒32在上移时可带动密封盖9上移打开对真空提纯炉1的密封盖合，使得密封盖9可带动套块3在限位杆8的外侧滑动上移，当密封盖9与真空提纯炉1完全打开后可将物料放置于提纯内炉12的内部，而后伺服电机6在带动转动杆30和螺纹7同时进行反向转动，从而可实现对密封盖9和真空提纯炉1的盖合密封工作，当盖合完成后再反向转动限位螺栓29使其脱离至限位滑槽27的内部解除对内螺纹套筒32的限位，而后可通过转动杆30带动内螺纹套筒32同时进行转动，使得内螺纹套筒32可带动L型滑杆33在环形滑槽31的内部进行转动滑动，同时转动杆30在转动过程中可带动第二限位抵制杆26抵制在第一限位抵制杆25的外侧，以实现搅拌杆2的转动搅拌工作，通过该部件的配合即可实现对密封盖9的打开盖合工作，还可实现搅拌杆2的转动搅拌工作，以便实现自动打开盖合功能，减少操作人员开合步骤，同时还可提高该真空提纯炉的融化效率，降低操作人员等待时长，从而可提高该真空提纯炉使用的便捷性和实用性。

实施例2，如图1、3、7所示当密封盖9与真空提纯炉1在进行盖合工作时，通过密封盖9可带动按压块19下移对抵制杆18进行按压工作，通过抵制杆18的按压下移可抵制在铰接板17的外侧，使得其带动铰接板17进行铰接转动对卷簧24进行拉伸工作，通过铰接板17的铰接转动可对铰接杆22进行铰接顶出工作，使得铰接杆22带动密封块20上移抵制在凹槽21的内部，以实现对密封盖9和真空提纯炉1的盖合密封工作，而当密封盖9在上移解除对真空提纯炉1的盖合时，可解除对抵制杆18的按压，而后在通过卷簧24的弹性恢复力带动密封块20和抵制杆18进行复原工作，以便实现下一操作的盖合密封工作，通过该部件的配合可方便密封盖9在盖合过程中实现对真空提纯炉1的密封工作，有效的防止了真空泄漏现象，以提高后续提纯品质，且该结构设计简单合理，适于推广。

工作原理：使用前将装置接通电源，在使用时可先通过抬升搅拌组件打开密封盖9对真空提纯炉1的密封盖合工作，而后可将物料投放至提纯内炉12的内部，当投放完成后再通过抬升搅拌组件的反向移动实现对密封盖9和真空提纯炉1的盖合密封，最后再通过抬升搅拌组件抵制在第一限位抵制杆25的外侧带动搅拌杆2在提纯内炉12的内部转动，以便实现对提纯内炉12内部物料的搅拌工作，以提升其内部物料的熔化效率，同时通过真空提纯炉1和提纯内炉12的工作可对物料进行高温熔化，以便实现对物料的提纯除杂工作，当物料提纯完成后在通过排料阀16排除；

同时在密封盖9和真空提纯炉1完成盖合工作时，可带动密封组件进行移出工作，以实现对真空提纯炉1和密封盖9盖合的密封工作，而后可再通过真空泵13的工作将真空提纯炉1和提纯内炉12内部多余空气抽出，以便提升物料的提纯质量。

最后应当说明的是，以上内容仅用以说明本发明的技术方案，而非对本发明保护范围的限制，本领域的普通技术人员对本发明的技术方案进行的简单修改或者等同替换，均不脱离本发明技术方案的实质和范围。