显示面板和显示设备

技术领域

本发明涉及显示技术，尤其涉及一种显示面板和显示设备。

背景技术

已经开发了各种类型的触控面板。触控面板的示例包括单片玻璃方案(one-glass-solution，OGS)触控面板、盒上(on-cell)触控面板和盒内(in-cell)触控面板。盒上触控面板提供了高触控精度。盒上触控面板可分为盒上单层(SLOC)触控面板和盒上多层(MLOC)触控面板。特别地，在具有优越的触控精度和消隐效果的MLOC触控面板中可以实现多点触控。

发明内容

一方面，本公开提供一种显示面板，包括触控结构；其中，所述触控结构包括多个第一网格电极与多个第二网格电极；其中，所述多个第一网格电极中的各个第一网格电极包括沿第一方向依次电连接的多个第一网格块；所述多个第二网格电极中的各个第二网格电极包括沿第二方向依次电连接的多个第二网格块；所述多个第一网格块中的相邻的两个第一网格块通过相应的第一导电桥彼此电连接；以及所述相应的第一导电桥包括多个第一单条网格线，所述多个第一单条网格线彼此间隔开并且位于与所述多个第一网格块和所述多个第二网格块不同的层中。

可选地，所述多个第一单条网格线中的各个第一单条网格线是单一结构；以及所述单一结构作为整体跨越所述多个第二网格电极中的相应一个第二网格电极的仅一个第二单条网格线。

可选地，所述多个第一单条网格线的总数为四个，每个第一单条网格线为单一结构。

可选地，所述多个第二网格块中的相邻的两个第二网格块通过相应的第二导电桥彼此电连接；以及所述相应的第二导电桥包括多个第二单条网格线，所述多个第二单条网格线彼此间隔开并且与所述多个第一网格块和所述多个第二网格块位于同一层中。

可选地，所述多个第二网格电极中的各个第二网格电极的跨越所述多个第一网格电极中的相应一个第一网格电极的部分仅是所述多个第二单条网格线；以及所述多个第二单条网格线中的各个第二单条网格线仅跨越所述多个第一单条网格线中的两个单条网格线。

可选地，所述多个第一单条网格线的总数为两个。

可选地，所述多个第一单条网格线中的各个第一单条网格线的至少一段的延伸方向与所述多个第二单条网格线中的相应的第二单条网格线的至少一段的延伸方向相同。

可选地，所述各个第一单条网格线的所述至少一段在衬底基板上的正投影与所述相应的第二单条网格线的所述至少一段在所述衬底基板上的正投影实质上重叠。

可选地，所述多个第一网格电极中的各个第一网格电极还包括多个连接网格块，所述多个连接网格块与所述多个第一网格块和所述多个第二网格块位于同一层中；以及所述多个第一网格块中的相邻的两个第一网格块通过相应的第一导电桥和多个连接网格块中的相应的连接网格块彼此电连接。

可选地，所述相应的连接网格块通过所述多个第一单条网格线中的位于第一侧的至少一个第一单条网格线电连接到所述相邻的两个第一网格块中的第一相邻第一网格块，并且通过所述多个第一单条网格线中的位于第二侧的至少一个第一单条网格线电连接到所述相邻的两个第一网格块中的第二相邻第一网格块。

可选地，位于所述第一侧的所述至少一个第一单条网格线与位于所述第二侧的所述至少一个第一单条网格线间隔开至少三个子像素区域。

可选地，所述多个第二网格块中的相邻的两个第二网格块和将所述相邻的两个第二网格块连接在一起的两个第二单条网格线围绕所述相应的连接网格块。

可选地，围绕所述相应的连接网格块的所述两个第二单条网格线彼此间隔开五个子像素区域。

可选地，所述相应的连接网格块具有与所述多个第一网格块和所述多个第二网格块的网格线图案一致的网格线图案。

可选地，所述相应的连接网格块包括至少三个连续的网格环结构和远离所述三个连续的网格环结构延伸的多个分支。

可选地，所述多个第一单条网格线中的各个第一单条网格线是包括第一段和第二段的曲线；以及所述第一段和所述第二段沿着不超过两个的子像素区域的边设置。

可选地，所述多个第一网格块、所述多个第二网格块、多个连接网格块、所述多个第一单条网格线和多个第二单条网格线的网格线在衬底基板上的正投影具有近似重复图案。

可选地，所述近似重复图案的最小重复单元包括同一像素区域中的四个子像素区域。

可选地，所述近似重复图案的最小重复单元具有六边形形状；所述六边形形状包括三个连续的环结构；所述六边形形状包括沿所述第二方向延伸的两个边、沿第三方向延伸的两个边和沿第四方向延伸的两个边；沿所述第二方向延伸的两个边中的每个边沿着子像素区域的仅一个边设置；沿所述第三方向延伸的两个边中的每个边沿着分别来自两个子像素区域的两个边设置；以及沿所述第四方向延伸的两个边沿着分别来自两个子像素区域的两个边设置。

另一方面，本公开提供一种显示设备，其包括本公开所述或通过本公开所述的方法制造的显示面板，以及连接到所述显示面板的一个或多个集成电路。

附图说明

根据各种公开的实施例，以下附图仅是用于说明目的的示例，并且不旨在限制本发明的范围。

图1是示出根据本公开的一些实施例中的显示面板的结构示意图。

图2A示出了图1中的交叉点IS的结构。

图2B示出了图2A中的第一网格线层的结构。

图2C示出了图2A中的触控绝缘层的结构。

图2D示出了图2A中的第二网格线层的结构。

图2E示出了图2A中的相应的第二导电桥和相邻的两个第二网格块的结构。

图2F示出了图2A中的相应的连接网格块的结构。

图3是沿图2A中的A-A’线的截面图。

图4示出了根据本公开的一些实施例中的包括触控结构的显示面板中的触控结构相对于多个子像素的布置。

图5示出了根据本公开的一些实施例中的触控结构的网格线在衬底基板上的正投影。

图6A示出了根据本公开的一些实施例中的显示设备中的显示区域中的详细结构。

图6B示出了根据本公开的一些实施例中的显示设备中的显示区域中的详细结构。

具体实施例

现在将参照以下实施例更具体地描述本公开。应当注意，本文中呈现的一些实施例的以下描述仅用于说明和描述的目的。其不是穷举的或限于所公开的精确形式。

本公开尤其提供了一种显示面板和显示设备，其基本上消除了由于现有技术的限制和缺点而导致的一个或多个问题。一方面，本公开提供一种包括触控结构的显示面板。在一些实施例中，触控结构包括多个第一网格电极与多个第二网格电极。可选地，多个第一网格电极中的各个第一网格电极包括沿着第一方向依次电连接的多个第一网格块。可选地，多个第二网格电极中的各个第二网格电极包括沿着第二方向依次电连接的多个第二网格块。可选地，多个第一网格块中的相邻的两个第一网格块通过相应的第一导电桥彼此电连接。可选地，各个第一导电桥包括彼此间隔开且位于与多个第一网格块和多个第二网格块不同的层中的多个第一单条网格线。

图1是示出根据本公开的一些实施例中的显示面板的结构的示意图。参照图1，在一些实施例中，触控结构包括布置成多个行的多个第一网格电极TE1和布置成多个列的多个第二网格电极TE2。多个第一网格电极TE1布置成多个行，多个行中的每一行是多个第一网格电极TE1中的相应一个第一网格电极。多个第二网格电极TE2布置成多个列，多个列中的每一列是多个第二网格电极TE2中的相应一个第二网格电极。可选地，触控结构为互电容式触控结构。可选地，多个第一网格电极TE1为多个触控感测电极，且多个第二网格电极TE2为多个触控扫描电极。可选地，多个第一网格电极TE1为多个触控扫描电极，多个第二网格电极TE2为多个触控感测电极。

如图1所示，多个第一网格电极TE1中的各个第一网格电极包括在相应的行中沿第一方向DR1依次电连接的多个第一网格块MB1，多个第二网格电极TE2中的各个第二网格电极包括在相应的列中沿第二方向DR2依次电连接的多个第二网格块MB2。在图1中，多个第一网格块MB1中的相应一个第一网格块和多个第二网格块MB2中的相应一个第二网格块被绘示为分别由虚线包围的块。

图2A示出了图1中的交叉点IS的结构。图2B示出了图2A中的第一网格线层的结构。图2C示出了图2A中的触控绝缘层的结构。图2D示出了图2A中的第二网格线层的结构。图2A示出了图1中的交叉点IS，在该交叉点IS处，多个第一网格电极TE1中的各个第一网格电极的多个第一网格块MB1中的相邻的两个第一网格块彼此电连接，且多个第二网格电极TE2中的各个第二网格电极的多个第二网格块MB2中的相邻的两个第二网格块彼此电连接。

在一些实施例中，多个第一网格块中的相邻的两个第一网格块通过相应的第一导电桥彼此电连接。图2B示出了根据本公开的一些实施例中的各个第一导电桥RCB1的结构。各个第一导电桥RCB1包括多个第一单条网格线，该多个第一单条网格线彼此间隔开且位于与多个第一网格块和多个第二网格块不同的层中。参照图2B，在一个示例中，各个第一导电桥RCB1包括第一-第一单条网格线SML1-1、第二-第一单条网格线SML1-2、第三-第一单条网格线SML1-3和第四-第一单条网格线SML1-4。多个第一单条网格线位于第一网格线层中，而多个第一网格块和多个第二网格块位于第二网格线层中。如本公开中所使用的，术语“单条网格线”是指具有单一结构并且没有任何环结构的网格线。

图2C示出了贯穿触控绝缘层TI延伸的多个过孔v。第二网格线层分别通过多个过孔v连接到多个单条网格线。

参照图2D，在交叉点处，第二网格线层包括多个第一网格块中的相邻的两个第一网格块以及多个第二网格块中的相邻的两个第二网格块。在一个示例中，相邻的两个第一网格块包括第一相邻第一网格块AMB1-1和第二相邻第一网格块AMB1-2；相邻的两个第二网格块包括第一相邻第二网格块AMB2-1和第二相邻第二网格块AMB2-2。

参照图2A至图2D，在交叉点处，多个第一网格电极TE1中的各个第一网格电极中的跨越多个第二网格电极TE2中的相应一个第二网格电极的部分仅仅是多个第一单条网格线。多个第一单条网格线中的各个第一单条网格线仅跨越多个第二网格电极中的相应的第二网格电极的第二单条网格线。

如上所述，多个第一单条网格线中的各个第一单条网格线是单一结构。参照图2A至图2D，各个第一单条网格线的单一结构仅跨越多个第二网格电极中的相应的第二网格电极的网格线一次。在一个示例中，如图2A至图2D所示，单一结构作为整体跨越多个第二网格电极中的相应一个第二网格电极的仅一个第二单条网格线。

在相关的触控结构中，连接相邻的触控电极的导电桥接通常会产生一些问题，其中之一为由于存在导电桥所造成的黑点。导电桥位于与触控电极不同的层中，这本身导致两层之间不同的视觉效果。因为它们在不同的层中，所以在导电桥连接到相邻触控电极的位置处存在断差。相邻触控电极的导电材料通过斜面与导电桥连接，进一步促使视觉上可检测的黑点出现。本公开的发明人发现，本公开的交叉点处的网格线的精细结构有效地消除了与相关技术相关联的若干问题。

图2E示出了图2A中的一个第二导电桥和相邻的两个第二网格块的结构。在一些实施例中，该第二导电桥和相邻的两个第二网格块都位于第二网格线层中。参照图2E，多个第二网格块中的相邻的两个第二网格块(AMB2-1和AMB2-2)通过相应的第二导电桥RCB2彼此电连接。各个第二导电桥RCB2包括多个第二单条网格线，该多个第二单条网格线彼此间隔开并且与多个第一网格块和多个第二网格块位于同一层中。在一个示例中，各个第二导电桥RCB2包括第一-第二单条网格线SML2-1和第二-第二单条网格线SML2-2。第一-第二单条网格线SML2-1、第二-第二单条网格线SML2-2、第一相邻第二网格块AMB2-1和第二相邻第二网格块AMB2-2形成环结构。第一-第二单条网格线SML2-1、第二-第二单条网格线SML2-2、第一相邻第二网格块AMB2-1和第二相邻第二网格块AMB2-2是单一结构的一部分。

参照图2A至图2E，单个第一单条网格线的单一结构跨越仅一个第二单条网格线。在一个示例中，第一-第一单条网格线SML1-1的整个单一结构仅跨越第一-第二单条网格线SML2-1；第二-第一单条网格线SML1-2的整个单一结构仅跨越第一-第二单条网格线SML2-1；第三-第一单条网格线SML1-3的整个单一结构仅跨越第二-第二单条网格线SML2-2；第四-第一单条网格线SML1-4的整个单一结构仅跨越第二-第二单条网格线SML2-2。本公开的触控结构使第一网格线层中网格线的总面积最小化，并且使第二网格线层中的网格块连接到第一网格线层中的导电桥所在的斜面的总数和面积最小化。本公开的发明人发现，本公开的交叉点处的网格线的精细结构有效地消除了与相关技术相关联的若干问题，同时维持了优异的触控功能。

在一些实施例中，多个第二网格电极中的各个第二网格电极的跨越多个第一网格电极中的相应一个第一网格电极的部分仅仅是多个第二单条网格线。在一个示例中，多个第二网格电极中的各个第二网格电极的跨越多个第一网格电极中的相应一个第一网格电极的部分仅仅是第一-第二单条网格线SML2-1和第二-第二单条网格线SML2-2。在图2A绘示的一个示例中，多个第二单条网格线中的各个第二单条网格线仅跨越多个第一单条网格线中的两个单条网格线。例如，第一-第二单条网格线SML2-1仅跨越第一-第一单条网格线SML1-1和第二-第一单条网格线SML1-2；第二-第二单条网格线SML2-2仅跨越第三-第一单条网格线SML1-3和第四-第一单条网格线SML1-4。

在一些实施例中，多个第二单条网格线中的各个第二单条网格线跨越来自多个第一单条网格线的两个单一结构。例如，第一-第二单条网格线SML2-1跨越第一-第一单条网格线SML1-1和第二-第一单条网格线SML1-2两个单一结构；第二-第二单条网格线SML2-2跨越第三-第一单条网格线SML1-3和第四-第一单条网格线SML1-4两个单一结构。

在一些实施例中，多个第一单条网格线中的各个第一单条网格线的至少一段的延伸方向与多个第二单条网格线中的相应的第二单条网格线的至少一段的延伸方向相同。参照图2B，第一-第一单条网格线SML1-1的至少一段的延伸方向ED1-1与第一-第二单条网格线SML2-1的至少一段的延伸方向ED2-1相同。

在一些实施例中，参照图2A至图2E，多个第一网格电极中的各个第一网格电极还包括与多个第一网格块和多个第二网格块位于同一层中的多个连接网格块。图2F示出了图2A中的相应的连接网格块的结构。多个第一网格块中的相邻的两个第一网格块(例如，第一相邻第一网格块AMB1-1和第二相邻第一网格块AMB1-2)通过相应的第一导电桥RCB1和多个连接网格块中的相应的连接网格块RCMB彼此电连接。

在一些实施例中，参照图2A至图2F，多个第二网格块中的相邻的两个第二网格块和将相邻的两个第二网格块连接在一起的两条第二单条网格线围绕相应的连接网格块RCMB。例如，第一-第二单条网格线SML2-1、第二-第二单条网格线SML2-2、第一相邻第二网格块AMB2-1和第二相邻第二网格块AMB2-2一起围绕相应的连接网格块RCMB。

图3是沿图2A中的A-A’线的截面图。参照图3，在一些实施例中，显示面板还包括第二无机封装子层CVD2、位于第二无机封装子层CVD2上的缓冲层BUF、位于缓冲层BUF的远离第二无机封装子层CVD2一侧的第一网格线层ML1、位于第一网格线层ML1的远离缓冲层BUF一侧的触控绝缘层TI、位于触控绝缘层TI的远离第一网格线层ML1一侧的第二网格线层ML2、以及位于第二网格线层ML2远离触控绝缘层TI一侧的保护层OC。如图3所示，第一-第一单条网格线SML1-1通过贯穿触控绝缘层TI延伸的第一过孔v1连接到第一相邻第一网格块AMB1-1，跨越第一-第二单条网格线SML2-1，并且通过贯穿触控绝缘层TI延伸的第二过孔v2连接到相应的连接网格块RCMB。

在一些实施例中，缓冲层BUF、触控绝缘层TI或保护层OC中的至少一个由有机绝缘材料制成，以增加显示面板的柔性。在一个示例中，缓冲层BUF、触控绝缘层TI和保护层OC由有机绝缘材料制成。

类似地，参照图2A至图2E以及图3，第二-第一单条网格线SML1-2通过贯穿触控绝缘层TI延伸的过孔连接到第一相邻第一网格块AMB1-1，跨越第一-第二单条网格线SML2-1，并且通过贯穿触控绝缘层TI延伸的过孔连接到相应的连接网格块RCMB。第三-第一单条网格线SML1-3通过贯穿触控绝缘层TI延伸的过孔连接到第二相邻第一网格块AMB1-2，跨越第二-第二单条网格线SML2-2，并且通过贯穿触控绝缘层TI延伸的过孔连接到相应的连接网格块RCMB。第四-第一单条网格线SML1-4通过贯穿触控绝缘层TI延伸的过孔连接到第二相邻第一网格块AMB1-2，跨越第二-第二单条网格线SML2-2，并且通过贯穿触控绝缘层TI延伸的过孔连接到相应的连接网格块RCMB。

在一些实施例中，各个第一单条网格线的至少一段在衬底基板上的正投影与相应的第二单条网格线的至少一段在衬底基板上的正投影基本上重叠。参照图2A至图2E以及图3，第一-第一单条网格线SML1-1的至少一段在第二无机封装子层CVD2上的正投影与第一-第二单条网格线SML2-1的至少一段在第二无机封装子层CVD2上的正投影基本上重叠。第二-第一单条网格线SML1-2的至少一段在第二无机封装子层CVD2上的正投影与第一-第二单条网格线SML2-1的至少一段在第二无机封装子层CVD2上的正投影基本上重叠。第三-第一单条网格线SML1-3的至少一段在第二无机封装子层CVD2上的正投影与第二-第二单条网格线SML2-2的至少一段在第二无机封装子层CVD2上的正投影基本上重叠。第四-第一单条网格线SML1-4的至少一段在第二无机封装子层CVD2上的正投影与第二-第二单条网格线SML2-2的至少一段在第二无机封装子层CVD2上的正投影基本上重叠。如本公开中所使用的，术语“基本上重叠”是指至少50％(例如，至少60％、至少70％、至少80％、至少90％、至少95％、至少99％或100％)重叠。

在一些实施例中，多个第一单条网格线中的各个第一单条网格线在衬底基板上的正投影基本上被多个第二单条网格线中的相应的第二单条网格线在衬底基板上的正投影、相邻的两个第一网格块中的一个第一网格块在衬底基板上的正投影、以及相应的连接网格块RCMB在衬底基板上的正投影的组合所覆盖。如本公开中所使用的，术语“基本上覆盖”是指覆盖至少50％(例如，至少60％、至少70％、至少80％、至少90％、至少95％、至少99％或100％)。

在一些实施例中，各个连接网格块RCMB通过多个第一单条网格线中的位于第一侧的至少一个第一单条网格线电连接到相邻的两个第一网格块中的第一相邻第一网格块AMB1-1，并且通过多个第一单条网格线中的位于第二侧的至少一个第一单条网格线电连接到相邻的两个第一网格块中的第二相邻第一网格块AMB1-2。例如，各个连接网格块RCMB分别通过位于第一侧的第一-第一单条网格线SML1-1和第二-第一单条网格线SML1-2电连接到第一相邻第一网格块AMB1-1，并且分别通过位于第二侧S2的第三-第一单条网格线SML1-3和第四-第一单条网格线SML1-4电连接到第二相邻第一网格块AMB1-2。

图4示出了根据本公开的一些实施例中的包括触控结构的显示面板中的触控结构相对于多个子像素的布置。参照图4，在一个示例中，多个子像素包括各个第一子像素sp1、各个第二子像素sp2、各个第三子像素sp3和各个第四子像素sp4。可选地，显示面板的各个像素包括各个第一子像素sp1、各个第二子像素sp2、各个第三子像素sp3和各个第四子像素sp4。显示面板中的多个子像素布置成阵列。在一个示例中，多个子像素的阵列包括S1-S2-S3-S4格式重复阵列，其中S1代表各个第一子像素sp1，S2代表各个第二子像素sp2，S3代表各个第三子像素sp3，以及S4代表各个第四子像素sp4。在另一个示例中，S1-S2-S3-S4格式为C1-C2-C3-C4格式，其中C1代表第一颜色的各个第一子像素sp1，C2代表第二颜色的各个第二子像素sp2，C3代表第三颜色的各个第三子像素sp3，C4代表第四颜色的各个第四子像素sp4。在另一个示例中，S1-S2-S3-S4格式为C1-C2-C3-C2’格式，其中C1代表第一颜色的各个第一子像素sp1，C2代表第二颜色的各个第二子像素sp2，C3代表第三颜色的各个第三子像素sp3，C2’代表第二颜色的各个第四子像素sp4。在另一示例中，C1-C2-C3-C2’格式为R-G-B-G格式，其中各个第一子像素sp1为红色子像素，各个第二子像素sp2为绿色子像素，各个第三子像素sp3为绿色子像素，以及各个第四子像素sp4为蓝色子像素。图4中的虚线表示由像素限定层限定的子像素开口。

参照图4及图2A，在一些实施例中，触控结构的网格线被限制在显示面板的子像素间区域中。例如，多个第一网格块、多个第二网格块、多个连接网格块、多个第一单条网格线和多个第二单条网格线的所有网格线被限制在子像素间区域中。触控结构的网格线包括沿第二方向DR2延伸的网格线、沿第三方向DR3延伸的网格线以及沿第四方向DR4延伸的网格线。

在一些实施例中，沿第二方向DR2延伸的相邻的两个网格线间隔开一个子像素区域。

在一些实施例中，沿第三方向DR3延伸的网格线中的至少一个网格线沿着第一相邻子像素区域的一个边和第二相邻子像素区域的一个边，第一相邻子像素区域和第二相邻子像素区域彼此相邻。在一些实施例中，沿着第四方向DR4延伸的网格线中的至少一个网格线沿着第三相邻子像素区域的一个边和第四相邻子像素区域的一个边，第三相邻子像素区域和第四相邻子像素区域彼此相邻。

图5示出了根据本公开的一些实施例中的触控结构的网格线在衬底基板上的正投影。图5中所绘示的正投影为如下网格线的正投影：该网格线包括多个第一网格块、多个第二网格块、多个连接网格块、多个第一单条网格线以及多个第二单条网格线的网格线。参照图5，在一些实施例中，触控结构的网格线的正投影具有近似重复图案。在图5中示出了近似重复图案的最小重复单元MRU。如本公开中所使用的，术语“近似重复图案”是指在对一个近似重复单元进行平移操作以与另一个近似重复单元叠加时，任何两个近似重复单元彼此叠加至少85％，例如至少90％、至少95％、至少98％或至少99％。例如，在平移操作时，两个近似重复单元在一个近似重复单元在网格线中具有中断的位置处不彼此叠加。

参照图4和图5，在一些实施例中，最小重复单元MRU包括四个子像素区域。在一个示例中，最小重复单元MRU包括属于同一像素的四个子像素区域。在一个示例中，最小重复单元MRU具有六边形形状。在另一个示例中，最小重复单元MRU包括三个连续的环结构。如本公开中所使用的，术语“环”包括闭环和开环。六边形形状具有沿第二方向DR2延伸的两个边、沿第三方向DR3延伸的两个边和沿第四方向DR4延伸的两个边。沿第二方向DR2延伸的两个边中的每个边仅沿着子像素区域的一个边。沿第三方向DR3延伸的两个边中的每个边沿着分别来自两个子像素区域的两个边。沿第四方向DR4延伸的两个边中的每个边沿着分别来自两个子像素区域的两个边。

再次参照图2A至图2E以及图4，在一些实施例中，位于第一侧S1的至少一个第一单条网格线与位于第二侧S2的至少一个第一单条网格线间隔开至少三个子像素区域。例如，第一-第一单条网格线SML1-1与第三-第一单条网格线SML1-3间隔开至少三个子像素区域，例如3个、4个或5个子像素区域。在另一个示例中，第二-第一单条网格线SML1-2与第四-第一单条网格线SML1-4间隔开至少三个子像素区域，例如3个、4个或5个子像素区域。通过充分地间隔开第一导电桥的第一单条网格线，可以进一步减少或消除相关技术中的黑点问题。本公开的发明人发现，本公开的交叉点处的网格线的精细结构有效地消除了与相关技术相关联的若干问题，同时维持了优异的触控功能。

在一些实施例中，围绕各个连接网格块的两个第二单条网格线彼此间隔开五个子像素区域。例如，第一-第二单条网格线SML2-1和第二-第二单条网格线SML2-2彼此间隔开五个子像素区域。通过充分地间隔开第二导电桥的第二单条网格线，可以进一步减少或消除相关技术中的黑点问题。本公开的发明人发现，本公开的交叉点处的网格线的精细结构有效地消除了与相关技术相关联的若干问题，同时维持了优异的触控功能。

在一些实施例中，各个连接网格块RCMB具有与多个第一网格块和多个第二网格块的网格线图案一致的网格线图案。如本公开中所使用的，术语“一致”是指多个连接网格块、多个第一网格块和多个第二网格块的组合具有近似重复图案，使得在对一个近似重复单元进行平移操作以与另一个近似重复单元叠加时，近似重复图案的任何两个近似重复单元彼此叠加至少85％，例如至少90％、至少95％、至少98％或至少99％。

参照图2F，在一个示例中，各个连接网格块RCMB包括至少三个连续的网格环结构和远离这三个连续的网格环结构延伸的多个分支。

参照图2B，在一个示例中，多个第一单条网格线中的各个第一单条网格线是包括第一段sg1和第二段sg2的曲线。参照图2A到图2E和图4，第一段sg1和第二段sg2沿着不超过两个子像素区域的边。

另一方面，本公开提供了一种显示设备，该显示设备包括本公开所述的或通过本公开所述的方法制造的显示面板以及连接到显示面板的一个或多个集成电路。适当的显示设备的示例包括但不限于电子纸、移动电话、平板计算机、电视、监视器、笔记本计算机、数字相册、GPS等。可选地，所述显示设备是有机发光二极管显示设备。可选地，所述显示设备是液晶显示设备。

图6A示出了根据本公开的一些实施例中的显示设备中的显示区域中的详细结构。参照图6A，在一些实施例中，显示设备在显示区域中包括：衬底基板BS(例如，柔性衬底基板)；多个薄膜晶体管TFT中的相应一个薄膜晶体管位于衬底基板BS上的有源层ACT；位于有源层ACT的远离衬底基板BS的一侧的栅极绝缘层GI；位于栅极绝缘层GI的远离衬底基板BS的一侧的栅极G和第一电容器电极Ce1(都是第一栅金属层的一部分)；位于栅极G和第一电容器电极Ce1的远离栅极绝缘层GI的一侧的绝缘层IN；位于绝缘层IN的远离栅极绝缘层GI的一侧的第二电容器电极Ce2(第二栅金属层的一部分)；位于第二电容器电极Ce2的远离栅极绝缘层GI的一侧的层间介质层ILD；位于层间介质层ILD的远离栅极绝缘层GI的一侧的源极S和漏极D(第一SD金属层的一部分)；位于源极S和漏极D的远离层间介质层ILD的一侧的平坦化层PLN；限定子像素开口并且位于平坦化层PLN的远离衬底基板BS的一侧的像素限定层PDL；以及位于子像素开口中的发光元件LE。发光元件LE包括：阳极AD，其位于平坦化层PLN的远离层间介质层ILD的一侧；发光层EL，其位于阳极AD的远离平坦化层PLN的一侧；以及阴极层CD，其位于发光层EL的远离阳极AD的一侧。显示设备在显示区域中还包括封装层EN，其封装虚拟发光元件DLE，并且位于阴极层CD的远离衬底基板BS的一侧。在一些实施例中，封装层EN包括位于阴极层CD的远离衬底基板BS的一侧的第一无机封装子层CVD1、位于第一无机封装子层CVD1的远离衬底基板BS的一侧的有机封装子层IJP、以及位于有机封装子层IJP的远离第一无机封装子层CVD1的一侧的第二无机封装子层CVD2。显示设备在显示区域中还包括：缓冲层BUF，其位于封装层EN的远离衬底基板BS的一侧；多个第二电极桥BR2，其位于缓冲层BUF的远离封装层EN的一侧；触控绝缘层TI，其位于多个第二电极桥BR2的远离缓冲层BUF的一侧；多个第一触控电极TE1，其位于触控绝缘层TI的远离缓冲层BUF的一侧；以及保护层OC，其位于多个第一触控电极TE1的远离触控绝缘层TI的一侧。

图6B示出了根据本公开的一些实施例中的显示设备中的显示区域中的详细结构。参照图6B，在一些实施例中，显示设备在显示区域中包括：衬底基板BS(例如，柔性衬底基板)；多个薄膜晶体管TFT中的相应一个薄膜晶体管的位于衬底基板BS上的有源层ACT；位于有源层ACT的远离衬底基板BS的一侧的栅极绝缘层GI；位于栅极绝缘层GI的远离衬底基板BS的一侧的栅极G和第一电容器电极Ce1(都是第一栅金属层的一部分)；位于栅极G和第一电容器电极Ce1的远离栅极绝缘层GI的一侧的绝缘层IN；位于绝缘层IN的远离栅极绝缘层GI的一侧的第二电容器电极Ce2(第二栅金属层的一部分)；位于第二电容器电极Ce2的远离栅极绝缘层GI的一侧的层间介质层ILD；位于层间介质层ILD的远离栅极绝缘层GI的一侧的源极S和漏极D(第一SD金属层的一部分)；位于源极S和漏极D远离层间介质层ILD的一侧的钝化层PVX；位于钝化层PVX的远离层间介质层ILD的一侧的第一平坦化层PLN1；位于第一平坦化层PLN1的远离钝化层PVX的一侧的中继电极RE(第二SD金属层的一部分)；位于中继电极RE的远离第一平坦化层PLN1的一侧的第二平坦化层PLN2；限定子像素开口并且位于第二平坦化层PLN2的远离衬底基板BS的一侧的像素限定层PDL；以及位于子像素开口中的发光元件LE。发光元件LE包括：阳极AD，其位于第二平坦化层PLN2的远离第一平坦化层PLN1的一侧；发光层EL，其位于阳极AD的远离第二平坦化层PLN2的一侧；以及阴极层CD，其位于发光层EL的远离阳极AD的一侧。显示设备在显示区域中还包括封装层EN，其封装虚拟发光元件DLE，并且位于阴极层CD的远离衬底基板BS的一侧。在一些实施例中，封装层EN包括位于阴极层CD的远离衬底基板BS的一侧的第一无机封装子层CVD1、位于第一无机封装子层CVD1的远离衬底基板BS的一侧的有机封装子层IJP、以及位于有机封装子层IJP的远离第一无机封装子层CVD1的一侧的第二无机封装子层CVD2。显示设备在显示区域中还包括：缓冲层BUF，其位于封装层EN的远离衬底基板BS的一侧；多个第二电极桥BR2，其位于缓冲层BUF的远离封装层EN的一侧；触控绝缘层TI，其位于多个第二电极桥BR2的远离缓冲层BUF的一侧；多个第一触控电极TE1，其位于触控绝缘层TI的远离缓冲层BUF的一侧；以及保护层OC，其位于多个第一触控电极TE1的远离触控绝缘层TI的一侧。可选地，显示设备在显示区域中不包括钝化层PVX，例如，层间介质层ILD与第一平坦化层PLN1直接接触。

参照图6A与图6B，显示设备包括半导体材料层SML、第一栅金属层Gate1、第二栅金属层Gate2、第一信号线层SLL1与第二信号线层SLL2。显示设备还包括：位于第一栅金属层Gate1和第二栅金属层Gate2之间的绝缘层IN；位于第二栅金属层Gate2与第一信号线层SLL1之间的层间介质层ILD；以及其位于第一信号线层SLL1与第二信号线层SLL2之间的至少钝化层PVX或平坦化层PLN。

为了说明和描述的目的，已经给出了本发明的实施例的上述描述。其不是穷举的，也不是要将本发明限制为所公开的精确形式或示例性实施例。因此，前面的描述应当被认为是说明性的而不是限制性的。显然，许多修改和变化对于本领域技术人员将是显而易见的。选择和描述实施例是为了解释本发明的原理及其最佳模式实际应用，从而使得本领域技术人员能够理解本发明的各种实施例以及适合于所考虑的特定使用或实现的各种修改。本发明的范围旨在由所附权利要求及其等价物来限定，其中除非另有说明，否则所有术语都意味着其最广泛的合理意义。因此，术语“本发明(the invention、the presentinvention)”等不一定将权利要求范围限制为特定实施例，并且对本发明的示例性实施例的引用不意味着对本发明的限制，并且不应推断出这样的限制。本发明仅由所附权利要求的精神和范围来限定。此外，这些权利要求可能涉及使用“第一”、“第二”等，随后是名词或元素。这些术语应当被理解为命名法，并且不应当被解释为对由这些命名法所修改的元件的数量进行限制，除非已经给出了特定的数量。所描述的任何优点和益处可能不适用于本发明的所有实施例。应当理解的是，在不脱离由所附权利要求限定的本发明的范围的情况下，本领域技术人员可以对所描述的实施例进行改变。此外，本公开中的元件和组件都不是要贡献给公众，无论该元件或组件是否在所附权利要求中明确叙述。