掌桥专利:专业的专利平台
掌桥专利
首页

一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层及其制备方法

文献发布时间:2024-04-18 19:44:28



技术领域

本发明属于刀具涂层和表面防护涂层技术领域,尤其涉及一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层及其制备方法。

背景技术

随着高强钢、冷硬铸铁、高温合金、钛合金、碳纤维复合材料等难加工材料的广泛应用,以及高速切削、强力切削和干切削等现代切削技术的迅速发展,作为切削加工过程中的核心部件——刀具的工作环境日益苛刻。其切削刃需承受高温(300 ~ 1200 ℃)、高压(100 ~ 10000 N/mm

随着机械加工速度和加工精度的不断提升,传统的TiAlN、AlTiN和CrAlN涂层在高速加工各种难切削材料时,常发生明显氧化和烧蚀,且硬度也无法满足需要。中国发明专利ZL202110097546.3公开了一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层及其制备方法,该涂层可以在航空润滑油环境中大大提高钢基体的耐磨损性能。中国专利CN202210431786.7公开了一种纳米复合高熵氮化物涂层及其复合沉积方法,TiAlCrNbVSiN高熵氮化物具有优秀的热稳定性、高温抗氧化和高温耐磨减摩性能,可用于金属零件的高速切削加工。然而,上述高熵氮化物涂层的韧性较差,且涂层与基体之间的结合力低,易在压应力载荷作用下失效。为了解决上述问题,本发明提出一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层,既能保证涂层的高硬度、高耐磨、高抗氧化性能,又能提升涂层的韧性和膜基结合强度。

发明内容

鉴于现有单层高熵氮化物涂层韧性和膜基结合强度不足的问题,本发明提出一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层,既能保证涂层的高硬度、高耐磨、高抗氧化性能,又能提升涂层的韧性和膜基结合强度,可以满足现代高速高精加工对刀具的需求。

本发明所要解决的另一个技术问题是提供该纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层的制备方法。

为解决现有技术问题,本发明所述的一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层,其特征在于:该涂层由下到上包括衬底基体、Ti轰击植入层、TiN过渡层以及纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层;纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层是由调制比为2:1:1的TiAlCrZrNbSiN中间层、TiAlSiN中间层与TiN中间层交替沉积而成,调制周期为8~15nm;TiAlCrZrNbSiN的原子百分比含量:Ti 15~20 at.%,Al 15~20 at.%,Cr 15~20at.%,Zr 6~10 at.%,Nb 6~10 at.%,Si 8~10 at.%,N 10~35 at.%;TiAlSiN的原子百分比含量:Ti 25~30 at.%,Al 25~30 at.%,Si 14~16 at.%,N 24~36 at.%;TiN的原子百分比含量:Ti 45~55 at.%,N 45~55 at.%。

所述衬底基体为高速钢或硬质合金刀具基体。

所述TiN过渡层的厚度为50~100nm,纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层的厚度为2~4μm。

一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层的制备方法,其特征在于包括如下步骤:

S1 预处理:将刀具基体材料研磨抛光,依次放入无水乙醇和丙酮中超声清洗10~20min,去除表面油污,采用真空干燥箱干燥10小时后迅速放入镀膜机真空室内的工件转架上,预抽本底真空至5~7×10

S2 溅射清洗:充入氩气,调整气压至3~5Pa,开启直流偏压电源,调节基体偏压至-400V,对腔体进行辉光溅射清洗20~30min;

S3 Ti离子轰击:调整氩气气压至0.5~1Pa,打开Ti靶,调节靶材功率至200~300W,轰击基体5~10min,得到Ti轰击植入层;

S4 TiN过渡层沉积:关闭氩气,充入氮气调节气压至0.5~1Pa,沉积10~15min,得到TiN过渡层;

S5 纳米多层沉积:同时打开Ar、N

S6 后处理:关闭TiAlCrZrNbSi靶、TiAlSi靶和Ti靶,关闭气体和偏压电源,保温30~60min后结束镀膜。

本发明具有的有益效果:

(1)本发明采用直流磁控溅射制备了TiAlCrZrNbSiN高熵氮化物,其中Cr元素能够提高氮化物的高温性能,Zr元素能够提高氮化物的硬度和刚度,Si、Nb元素则对氮化物的韧性有益。

(2)该纳米多层涂层具有共格关系,层界面处发生共格畸变,产生较大的拉压交变应力场,阻碍位错移动,使涂层具有超高硬度和优异的耐磨性。

(3)该纳米多层涂层中包含TiAlCrZrNbSiN高熵氮化物层,纳米结构的高熵氮化物可以保证涂层的高硬度、高耐磨性能以及优异的热稳定性和高温抗氧化性。

(4)该纳米多层涂层中TiN和TiAlSiN中间层具有较好的韧性,与TiAlCrZrNbSiN高熵氮化物层形成共格关系,可以保证涂层具有较好的韧性和膜基结合强度,延长刀具在高载荷作用下的使用寿命。

(5)本发明的涂层刀具既具有高硬度、良好的热稳定性和抗氧化性,又具有较好的韧性和膜基结合强度。干切削时,刀具涂层能够承受较大载荷,因而可显著提升刀具的切削性能和使用寿命。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。

实施例一

本发明所述的一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层,其特征在于:该涂层由下到上包括衬底基体、Ti轰击植入层、TiN过渡层以及纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层;纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层是由调制比为2:1:1的TiAlCrZrNbSiN中间层、TiAlSiN中间层与TiN中间层交替沉积而成,调制周期为8nm;TiAlCrZrNbSiN的原子百分比含量:Ti 15 at.%,Al 15 at.%,Cr 15 at.%,Zr 6 at.%,Nb 6at.%,Si 8 at.%,N 35 at.%;TiAlSiN的原子百分比含量:Ti 25 at.%,Al 25 at.%,Si 14at.%,N 36 at.%;TiN的原子百分比含量:Ti 45 at.%,N 55 at.%。

所述衬底基体为高速钢或硬质合金刀具基体。

所述TiN过渡层的厚度为50nm,纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层的厚度为2μm。

一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层的制备方法,其特征在于包括如下步骤:

S1 预处理:将刀具基体材料研磨抛光,依次放入无水乙醇和丙酮中超声清洗10~20min,去除表面油污,采用真空干燥箱干燥10小时后迅速放入镀膜机真空室内的工件转架上,预抽本底真空至5×10

S2 溅射清洗:充入氩气,调整气压至3Pa,开启直流偏压电源,调节基体偏压至-400V,对腔体进行辉光溅射清洗20min;

S3 Ti离子轰击:调整氩气气压至0.5Pa,打开Ti靶,调节靶材功率至200W,轰击基体10min,得到Ti轰击植入层;

S4 TiN过渡层沉积:关闭氩气,充入氮气调节气压至0.5Pa,沉积15min,得到TiN过渡层;

S5 纳米多层沉积:同时打开Ar、N

S6 后处理:关闭TiAlCrZrNbSi靶、TiAlSi靶和Ti靶,关闭气体和偏压电源,保温30min后结束镀膜。

实施例二

本发明所述的一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层,其特征在于:该涂层由下到上包括衬底基体、Ti轰击植入层、TiN过渡层以及纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层;纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层是由调制比为2:1:1的TiAlCrZrNbSiN中间层、TiAlSiN中间层与TiN中间层交替沉积而成,调制周期为15nm;TiAlCrZrNbSiN的原子百分比含量:Ti 20 at.%,Al 20 at.%,Cr 20 at.%,Zr 10 at.%,Nb10 at.%,Si 10 at.%,N 10 at.%;TiAlSiN的原子百分比含量:Ti 30 at.%,Al 30 at.%,Si16 at.%,N 24 at.%;TiN的原子百分比含量:Ti 55 at.%,N 45 at.%。

所述衬底基体为高速钢或硬质合金刀具基体。

所述TiN过渡层的厚度为100nm,纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层的厚度为4μm。

一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层的制备方法,其特征在于包括如下步骤:

S1 预处理:将刀具基体材料研磨抛光,依次放入无水乙醇和丙酮中超声清洗20min,去除表面油污,采用真空干燥箱干燥10小时后迅速放入镀膜机真空室内的工件转架上,预抽本底真空至7×10

S2 溅射清洗:充入氩气,调整气压至5Pa,开启直流偏压电源,调节基体偏压至-400V,对腔体进行辉光溅射清洗30min;

S3 Ti离子轰击:调整氩气气压至1Pa,打开Ti靶,调节靶材功率至300W,轰击基体5min,得到Ti轰击植入层;

S4 TiN过渡层沉积:关闭氩气,充入氮气调节气压至1Pa,沉积15min,得到TiN过渡层;

S5 纳米多层沉积:同时打开Ar、N

S6 后处理:关闭TiAlCrZrNbSi靶、TiAlSi靶和Ti靶,关闭气体和偏压电源,保温60min后结束镀膜。

实施例三

本发明所述的一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层,其特征在于:该涂层由下到上包括衬底基体、Ti轰击植入层、TiN过渡层以及纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层;纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层是由调制比为2:1:1的TiAlCrZrNbSiN中间层、TiAlSiN中间层与TiN中间层交替沉积而成,调制周期为10nm;TiAlCrZrNbSiN的原子百分比含量:Ti 18 at.%,Al 18 at.%,Cr 18 at.%,Zr 8 at.%,Nb 8at.%,Si 9 at.%,N 21 at.%;TiAlSiN的原子百分比含量:Ti 28 at.%,Al 28 at.%,Si 15at.%,N 29 at.%;TiN的原子百分比含量:Ti 50 at.%,N 50 at.%。

所述衬底基体为高速钢或硬质合金刀具基体。

所述TiN过渡层的厚度为80nm,纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层的厚度为3μm。

一种纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层的制备方法,其特征在于包括如下步骤:

S1 预处理:将刀具基体材料研磨抛光,依次放入无水乙醇和丙酮中超声清洗15min,去除表面油污,采用真空干燥箱干燥10小时后迅速放入镀膜机真空室内的工件转架上,预抽本底真空至6×10

S2 溅射清洗:充入氩气,调整气压至4Pa,开启直流偏压电源,调节基体偏压至-400V,对腔体进行辉光溅射清洗25min;

S3 Ti离子轰击:调整氩气气压至0.8Pa,打开Ti靶,调节靶材功率至250W,轰击基体8min,得到Ti轰击植入层;

S4 TiN过渡层沉积:关闭氩气,充入氮气调节气压至0.8Pa,沉积12min,得到TiN过渡层;

S5 纳米多层沉积:同时打开Ar、N

S6 后处理:关闭TiAlCrZrNbSi靶、TiAlSi靶和Ti靶,关闭气体和偏压电源,保温50min后结束镀膜。

上述实施例制备所得纳米多层TiAlCrZrNbSiN/TiAlSiN/TiN涂层的性能如下:

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变形,这些改进和变形也应视为本发明的保护范围。

技术分类

06120116298021