一种防眩光盖板的制造方法

技术领域

本申请涉及防眩光技术领域，特别涉及一种防眩光盖板的制造方法。

背景技术

人眼视野观察到的范围内，当存在空间或时间上的极端亮度对比时，容易引起视觉的不舒适和人眼观察能力的降低，也即常说的眩光。高强度或者长时间持续的眩光可能引发心理上的厌恶感、生理上的不舒适感，甚至视力的暂时性或者永久性下降，正因如此，对于灯具和显示屏等能够发光或者能够反射光线的设备，往往配置有防眩光的结构或者程序。

对于显示屏采用的防眩光盖板，传统方案公开了一种对防眩光盖板的表面进行处理，使得原有的平面变为哑光的漫反射表面，进而起到防眩光的作用的方案。传统的显示屏防眩光盖板虽然能够减弱眩光效应，但是用户长时间目视后，仍然会产生严重的视觉疲劳。

发明内容

本申请的目的在于提供一种防眩光盖板的制造方法，旨在解决的传统方法获得的防眩光盖板的防眩光效果差，用户长时间目视后容易产生视觉疲劳技术问题。

本申请是这样实现的，一种防眩光盖板的制造方法，依次包括以下步骤：

开料步骤：根据预设空间形态切割基板；

预处理步骤：采用第一预设质量浓度的氢氟酸溶液清洗所述基板，然后采用冲洗液冲洗所述基板；

蒙砂蚀刻步骤：将所述基板浸入蒙砂蚀刻液，浸泡第一预设时间后取出，然后采用冲洗液冲洗所述基板；

酸洗步骤：将所述基板浸入第二预设质量浓度的酸洗液，浸泡第二预设时间后取出；

抛光步骤：采用第三预设质量浓度的氢氟酸抛光液喷淋所述基板，喷淋第三预设时间；然后采用冲洗液冲洗所述基板。

在本申请的一个实施例中，在所述预处理步骤中，所述第一预设质量浓度的范围为2％-3％。

在本申请的一个实施例中，在所述蒙砂蚀刻步骤前，还包括蒙砂蚀刻液制备步骤：将质量份的氟化氢铵10-15份、氟化钙1-3份、硫酸钾4-7份、氢氧化钠5-8份，以及水6-9份搅拌直至充分混合，然后加入氟化钠溶液3-5份，搅拌直至充分混合后熟化24-48小时。

在本申请的一个实施例中，在所述蒙砂蚀刻步骤中，所述第一预设时间的范围为60-90秒。

在本申请的一个实施例中，在所述蒙砂蚀刻液制备步骤后，在所述蒙砂蚀刻步骤前，还包括蒙砂效果验证步骤：将验证材料投入所述蒙砂蚀刻液，浸泡所述第一预设时间后取出，然后采用冲洗液冲洗所述基板验证材料，测量所述验证材料的表征，根据所述验证材料的表征判断所述蒙砂蚀刻液的有效性。

在本申请的一个实施例中，在所述酸洗步骤中，所述第二预设质量浓度的范围为5％-8％，所述第二预设时间的范围为15-30分钟。

在本申请的一个实施例中，在所述抛光步骤中，所述第三预设质量浓度的范围为10％-20％，所述第三预设时间的范围为5-8分钟。

在本申请的一个实施例中，所述冲洗液采用水，或者，所述冲洗液采用水和酒精的混合物。

在本申请的一个实施例中，在所述开料步骤之后，所述蒙砂蚀刻步骤之前，还包括覆膜步骤：在所述基板的无需蚀刻的表面区域涂覆为保护层；

所述抛光步骤具体包括：移除所述保护层，采用第三预设质量浓度的氢氟酸抛光液喷淋所述基板，喷淋第三预设时间；然后采用冲洗液冲洗所述基板。

在本申请的一个实施例中，在所述覆膜步骤中，所述无需蚀刻的表面区域包括：所述基板的用于供终端设备的光线传感器采集信息的区域。

实施本申请任一实施例提供的一种防眩光盖板的制造方法，至少具有以下有益效果：

本实施例提供的防眩光盖板的制造方法中，在蒙砂蚀刻步骤前，通过预处理步骤清洗基板表面的油污并轻度腐蚀基板的表面，可以使得基板的蒙砂蚀刻效果均匀；在抛光步骤中，采用喷淋抛光的方式进行抛光，可以有效防止蒙砂蚀刻步骤中形成的磨砂表面在抛光过程中被损坏，确保了防眩光效果；进一步的，在抛光步骤中，通过控制抛光液的冲洗位置与液体流量，可以方便地控制对基板表面的抛光深度，对于蒙砂蚀刻过程中基板表面的部分贴设保护膜的方案，这将能够使得抛光后的基板表面更加平整，能够减少或者消除用户在触摸蒙砂蚀刻区域与被保护区域的边界时的凹凸感。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请的一个实施例提供的防眩光盖板的结构示意图；

图2是本申请的一个实施例提供的防眩光盖板的制造方法的流程示意图；

图3是本申请的另一实施例提供的防眩光盖板的制造方法的流程示意图；

图4是本申请的一个实施例提供的防眩光盖板的蒙砂蚀刻区域的微观形貌图；

图5是本申请的一个实施例提供的防眩光盖板的蒙砂蚀刻区域的正面微观形貌图；

图6是本申请的一个实施例提供的防眩光盖板的蒙砂蚀刻区域的更大放大比例的正面微观形貌图。

上述附图所涉及的标号明细如下：

1-基板；11-被保护区域；12-蒙砂蚀刻区域。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

需说明的是，当部件被称为“固定于”或“设置于”另一个部件，它可以直接或者间接位于该另一个部件上。当一个部件被称为“连接于”另一个部件，它可以是直接或者间接连接至该另一个部件上。术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置为基于附图所示的方位或位置，仅是为了便于描述，不能理解为对本技术方案的限制。术语“第一”、“第二”仅用于便于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明技术特征的数量。“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

为了说明本申请所述的技术方案，以下结合具体附图及实施例进行详细说明。

请参阅图1和图2，本申请的一个实施例提供了一种防眩光盖板的制造方法，依次包括以下步骤：

S10：开料步骤：根据预设空间形态切割基板1；

S20：预处理步骤：采用第一预设质量浓度的氢氟酸溶液清洗基板1，然后采用冲洗液冲洗基板1；

S30：蒙砂蚀刻步骤：将基板1浸入蒙砂蚀刻液，浸泡第一预设时间后取出，然后采用冲洗液冲洗基板1；

S40：酸洗步骤：将基板1浸入第二预设质量浓度的酸洗液，浸泡第二预设时间后取出；

S50：抛光步骤：采用第三预设质量浓度的氢氟酸抛光液喷淋基板1，喷淋第三预设时间；然后采用冲洗液冲洗基板1。

具体而言，本实施例提供的防眩光盖板的制造方法中，基板1经过一系列工艺后，形成能够用于显示设备或者照明设备的防眩光盖板，其预设空间形态应当是与相应的显示设备或者照明设备相匹配的；例如，对于应用于手机、个人计算机，以及平板电脑等设备的基板1，其预设空间形态可以是长方形的，对于应用于照明灯具、智能手表，或者智能手环等设备的基板1，其预设空间形态可以是长方形、圆形，或者正方形等；而且，优选的，切割为预设空间形态的基板1留有冗余尺寸，以避免经过蒙砂蚀刻步骤S30和抛光步骤S50之后的基板1小于预设尺寸，无法与相应的显示设备或者照明设备匹配。

实施本实施例提供的防眩光盖板的制造方法，至少具有以下有益技术效果：

请参阅图4至图6，本实施例提供的防眩光盖板的制造方法中，在蒙砂蚀刻步骤S30前，通过预处理步骤S20清洗基板1表面的油污并轻度腐蚀基板1的表面，可以使得基板1的蒙砂蚀刻效果均匀；在抛光步骤S50中，采用喷淋抛光的方式进行抛光，可以有效防止蒙砂蚀刻步骤S30中形成的磨砂表面在抛光过程中被损坏，确保了防眩光效果；进一步的，在抛光步骤S50中，通过控制抛光液的冲洗位置与液体流量，可以方便地控制对基板1表面的抛光深度，对于蒙砂蚀刻过程中基板1表面的部分贴设保护膜的方案，这将能够使得抛光后的基板1表面更加平整，能够减少或者消除用户在触摸蒙砂蚀刻区域12与被保护区域11的边界时的凹凸感。

可选的，在抛光步骤S50中，采用冲洗液冲洗基板1之后，包括烘干基板的步骤，即抛光步骤S50具体包括：采用第三预设质量浓度的氢氟酸抛光液喷淋基板1，喷淋第三预设时间；然后采用冲洗液冲洗基板1，最后烘干基板1。

请参阅图1和图3，在本申请的一个实施例中，在预处理步骤S20中，第一预设质量浓度的范围为2％-3％。也即，预处理步骤S20具体包括：采用质量浓度的范围为2％-3％的氢氟酸溶液清洗基板1，然后采用冲洗液冲洗基板1。

在蒙砂蚀刻之前，采用质量浓度的范围为2％-3％的氢氟酸清洗基板1，能够清除基板1表面的油污，并对基板1表面进行预腐蚀，使得基板1表面蒙砂蚀刻区域12接触到蒙砂蚀刻液后，均能够立刻与蒙砂蚀刻液发生反应，提高基板1表面的磨砂效果的均一性。氢氟酸的质量浓度过低，氢氟酸溶液对玻璃的腐蚀效果差，预腐蚀效果差；氢氟酸的质量浓度过高，会使得预处理过程中，基板1表面不同位置的预先腐蚀程度难以控制，最终获得的基板1表面的磨砂效果的均一性差。

作为本实施例的一个具体方案，第一预设质量浓度的范围为2.14％-2.97％，以获得更优的清除油污和预腐蚀的效果。也即，预处理步骤S20具体包括：采用质量浓度的范围为2.14％-2.97％的氢氟酸溶液清洗基板1，然后采用冲洗液冲洗基板1。

请参阅图1和图3，在本申请的一个实施例中，在蒙砂蚀刻步骤S30前，还包括蒙砂蚀刻液制备步骤S31：将质量份的氟化氢铵10-15份、氟化钙1-3份、硫酸钾4-7份、氢氧化钠5-8份，以及水6-9份搅拌直至充分混合，然后加入氟化钠溶液3-5份，搅拌直至充分混合后熟化24-48小时。

本实施例提供的蒙砂蚀刻液中，各组分的分束应当理解为质量份；氟化钠溶液的份数应当理解为常温常压下，饱和氟化钠溶液中含有的氟化钠的质量份。本实施例提供的蒙砂蚀刻液十分适配于玻璃材质的基板1，如钢化玻璃基板1等。将基板1投入本实施例提供的蒙砂蚀刻液后，在氟离子的作用下，基板1的表面能够被腐蚀、磨砂，并形成凹凸不平的表面形貌，以使得显示设备或者照明设备发出的光线在基板1表面能够被打散，起到类似漫反射的效果；而且，经过本实施例提供的蒙砂蚀刻液腐蚀的基板1产生的磨砂表面具有适中的深度范围与宽度范围，具有类似纸张的视觉效果，能够降低甚至消除用户在长时间目视基板1后的视觉疲劳。

请参阅图1和图3，与上述实施例提供的蒙砂蚀刻液相对应的，在本申请的一个实施例中，在蒙砂蚀刻步骤S30中，第一预设时间的范围为60-90秒。也即，蒙砂蚀刻步骤S30具体包括：将基板1浸入蒙砂蚀刻液，浸泡60-90秒后取出，然后采用冲洗液冲洗基板1。

在蒙砂蚀刻步骤S30中，采用上述本实施例提供的蒙砂蚀刻液，则应当将玻璃基板1浸泡在蒙砂蚀刻液中的时间控制在60-90秒的范围内。浸泡时间不足，容易导致玻璃基板1的表面的深度范围与宽度范围等磨砂参数无法达到预设值，进而影响基板1的防眩光效果与类纸效果；浸泡时间过长，容易导致玻璃基板1被过度腐蚀，导致玻璃基板1厚度过低，且玻璃基板1的表面各处腐蚀程度的均匀性下降，玻璃基板1表面不平整。

作为本实施例的一个优选方案，第一预设时间的范围为69-83秒，以确保基板1表面的磨砂参数落在理想的范围内，且不至于导致玻璃基板1被过度腐蚀。也即，蒙砂蚀刻步骤S30具体包括：将基板1浸入蒙砂蚀刻液，浸泡69-83秒后取出，然后采用冲洗液冲洗基板1。

采用上述蒙砂蚀刻液，并按照上述第一预设时间腐蚀玻璃基板1表面获得的具有防眩光功能的基板1，其表面能够形成蒙砂蚀刻区域12，在本申请的一个实施例中，蒙砂蚀刻区域12的表面形貌能够满足：蒙砂蚀刻区域12由多个微观凹球面拼接形成，各微观凹球面的宽度范围为2μm～25μm，各微观凹球面的深度范围为0.2μm～2.5μm。

以蒙砂蚀刻区域12的平均高度为原点所在平面，以垂直于蒙砂蚀刻区域12所在平面的方向为纵坐标所在的方向，微观凹球面的宽度指的是随机取样的若干微观凹球面中，将各微观凹球面近似为球冠面后，球冠面最大开口部分圆的直径的平均值；微观凹球面的深度指的是随机取样的若干微观凹球面中，各微观凹球面的深度的平均值。微观凹球面的宽度和深度，均属于蒙砂蚀刻区域12表面的不平整度与粗糙度的决定因素。

本实施例提供的蒙砂蚀刻液获得的玻璃基板，通过在其蒙砂蚀刻区域12形成多个凹陷的微观凹球面组成的蒙砂蚀刻区域12，并将各微观凹球面的宽度和深度设置在预设范围内，能够使得玻璃基板1具有适中的磨砂效果，从而在不影响人眼透过玻璃基板1观看屏幕的基础上，更高效地打散照射到蒙砂蚀刻区域12的光线，进而具有更好的漫反射能力，起到接近于纸张的视觉效果，很大程度上减少、甚至完全消除眩光效应和闪点效应；而且，通过按照预设参数配置蒙砂蚀刻区域12，还能够使得蒙砂蚀刻区域12的视觉效果和纸张类似，符合一般情况下人眼的观看习惯，进一步减少了用户长时间目视玻璃基板1后的视觉疲劳，使之尤其适用于各类电子终端的屏幕或者盖板；此外，本实施例提供的玻璃基板1，虽然其表面具有多个微观凹球面，但是没有对玻璃基板1的结构强度产生明显负面效应。

需要说明的是，闪点效应指的是一个像素点发出的光线经过蒙砂蚀刻区域12时，在蒙砂蚀刻区域12的表面发生折射，不同微观凹球面折射的光线之间发生干涉，进而在人眼观看时产生彩点或者明暗点的效应。本实施例提供的玻璃基板1，参数配置合理，微观凹球面具有足够小的宽度，能够很大程度上减少、甚至完全消除闪点效应。

还应说明的是，微观凹球面的宽度过小，则容易导致磨砂效果不明显，影响蒙砂蚀刻区域12对眩光效应的消除能力；微观凹球面的宽度过大，则容易导致蒙砂蚀刻区域12过于粗糙且毛刺感强，影响玻璃基板1给予用户的视觉体验和触觉体验。微观凹球面的深度过大则意味着微观凹陷的深度过浅，容易导致磨砂效果不明显，影响蒙砂蚀刻区域12对眩光效应的消除能力；微观凹球面的深度过小，则容易导致蒙砂蚀刻区域12过于粗糙且毛刺感强，影响玻璃基板1给予用户的视觉体验和触觉体验。微观凹球面的宽度和深度的任一一个超出预设数值范围，均会影响本实施例提供的玻璃基板1的类纸效果。

微观凹球面是密集地排布在蒙砂蚀刻区域12的表面的，微观凹球面均为凹陷球面，相邻的微观凹球面的连接处形成若干长条形的鞍形面，鞍形面的两端形成有顶点。此时，顶点与微观凹球面的最低点之间的高度差，即为微观凹球面的深度，其算术值即为微观凹球面的深度；将鞍形面围合形成的各微观凹球面等效为球冠面，球冠面的最大开口部分圆的直径即为微观凹球面的宽度，其算术值即为微观凹球面的宽度。从微观凹球面的不同位置照射到蒙砂蚀刻区域12的光线，会被反射或者折射至不同的方向，进而将光线打散，起到消除眩光的效果；进一步的，微观凹球面的尺寸在微米级别，小于采用本实施例提供的玻璃基板1的显示器的像素点的尺寸，同一像素点发出的光线不会在从蒙砂蚀刻区域12的不同位置折射后发生干涉，在消除眩光的同时，还能够消除防眩光板的闪点效应。

作为本实施例的一个优选方案，蒙砂蚀刻区域12在60°角下的光泽度的范围为10～40SGU。光泽度的单位SGU应当被理解为Standrad Gloss Unit，也即标准光泽度单位，该单位无量纲，与微观凹球面的宽度、深度，以及材料本身的性质有关。蒙砂蚀刻区域12的光泽度能够反映蒙砂蚀刻区域12表面的微观平整度。

应当理解，本申请各实施例所述的微观凹球面的深度范围和宽度范围，均指的是蒙砂蚀刻区域12上的绝大多数的微观凹球面的深度范围和宽度范围。这是因为，在蒙砂蚀刻区域12上的微观凹球面的形成往往是通过宏观方法实现的，这也就意味着存在宽度和深度落在上述范围以外的微观凹球面是必然事件。比如在一些玻璃表面的非晶组织较为松散的区域的微观凹球面，其深度和宽度往往是大于上述深度和宽度范围的；比如蒙砂蚀刻区域12的边界处的微观凹球面，其深度和宽度有时是小于上述宽度和深度范围的。由于上述原因，本申请各实施例所述的微观凹球面的深度范围和宽度范围，均能够被理解为，只要超过预设比例的微观凹球面的宽度和深度落在上述范围中，即可称之为微观凹球面的深度和宽度范围分别处于上述深度和宽度范围内。根据对工艺水平的要求不同，上述的预设比例可以是88％、90％、93％、95％，以及98％中的一个。当然，从统计的角度来看，也可以认为上述范围指的是微观凹球面的平均深度范围和平均深度范围。

请参阅图1和图3，在本申请的一个实施例中，在蒙砂蚀刻液制备步骤S31后，在蒙砂蚀刻步骤S30前，还包括蒙砂效果验证步骤S32：将验证材料投入蒙砂蚀刻液，浸泡第一预设时间后取出，然后采用冲洗液冲洗基板1验证材料，测量验证材料的表征，根据验证材料的表征判断蒙砂蚀刻液的有效性。

在本实施例中，在蒙砂蚀刻液制备步骤S31后，在蒙砂蚀刻步骤S30前，采用蒙砂效果验证步骤S32对蒙砂蚀刻液的蒙砂蚀刻效果进行验证，根据验证材料的表征判断蒙砂蚀刻液的有效性，确保蒙砂蚀刻液在投入使用时，具有足够的蚀刻能力。

作为本实施例的一个具体方案，验证材料可以是开料步骤中，根据预设空间形态切割基板1后获得的边角料，验证材料在蒙砂蚀刻液中的浸泡时间应当大于60s。以切割基板1产生的边角料作为验证材料，不仅有利于控制变量，确保浸泡蒙砂蚀刻液后的验证材料的表征能够准确反映蒙砂蚀刻液的有效性，而且能够节省原料，更加节能环保。

作为本实施例的一个具体方案，验证材料在在测量验证材料的表征具体包括测量验证材料的雾度和光泽度。雾度和光泽度相较于验证材料表面的微观形貌特征更容易被测量，且能够更加直观地反映蒙砂蚀刻液的蒙砂蚀刻能力是否符合预期。

请参阅图1和图3，在本申请的一个实施例中，在酸洗步骤S40中，第二预设质量浓度的范围为5％-8％，第二预设时间的范围为15-30分钟。也即，酸洗步骤S40具体包括：将基板1浸入质量浓度的范围为5％-8％的酸洗液，浸泡15-30分钟后取出。

在蒙砂蚀刻步骤S30之后，对基板1进行进一步的酸洗，以洗去基板1表面在蒙砂蚀刻步骤S30中产生的微孔内的残余蒙砂蚀刻液成分，避免污染且防止基板1被过度腐蚀。

作为本实施例的一个具体方案，酸洗步骤S40中，酸洗液采用对玻璃不具有腐蚀性的强酸，如硫酸。也即，在一个具体方案中，酸洗步骤S40包括：将基板1浸入质量浓度的范围为5％-8％的硫酸，浸泡15-30分钟后取出。

请参阅图1和图3，在本申请的一个实施例中，在抛光步骤S50中，第三预设质量浓度的范围为10％-20％，第三预设时间的范围为5-8分钟。也即，抛光步骤S50具体包括：采用质量浓度的范围为10％-20％的氢氟酸抛光液喷淋基板1，喷淋5-8分钟；然后采用冲洗液冲洗基板1。

通过采用喷淋抛光的方式，可以使得抛光的位置和强度均能够被精确控制，具体的，向基板1表面喷淋氢氟酸的不同位置选择性地喷淋氢氟酸，并控制各处喷淋的氢氟酸的流量，即可实现喷淋抛光的位置和强度的精确控制。这样一来，可以避免蒙砂蚀刻步骤S30中形成的磨砂表面在抛光过程中被损坏，确保了防眩光效果；同时，对于蒙砂蚀刻过程中基板1表面的部分贴设保护膜的方案，可以通过提高对涂覆有保护层的被保护区域11喷淋氢氟酸的流量，将贴设有保护膜的被保护区域11通过抛光削去更厚的基板1表层结构，进而使得抛光后的基板1表面更加平整，减少或者消除用户在触摸蒙砂蚀刻区域12与被保护区域11的边界时的凹凸感。

在本申请的一个实施例中，冲洗液采用水，或者，冲洗液采用水和酒精的任一比例混合物。

作为本实施例的一个具体方案，预处理步骤S20、蒙砂蚀刻步骤S30和抛光步骤S50中，冲洗液可以采用75％酒精与25％水的混合物，且采用超声波冲洗的方式冲洗基板1，以提高冲洗基板1表面的效率，并减少冲洗液的损耗。

在本申请的一个实施例中，在开料步骤之后，蒙砂蚀刻步骤S30之前，还包括覆膜步骤S11：在基板1的无需蚀刻的表面区域涂覆为保护层；

抛光步骤S50具体包括：移除保护层，采用第三预设质量浓度的氢氟酸抛光液喷淋基板1，喷淋第三预设时间；然后采用冲洗液冲洗基板1。也即，蒙砂蚀刻步骤S30前，在被保护区域11涂覆保护层。

可选的，在覆膜步骤中，被保护区域11，也即无需蚀刻的表面区域包括：基板1的用于供终端设备的光线传感器采集信息的区域。也即，覆膜步骤具体包括：在基板1的用于供终端设备的光线传感器采集信息的区域涂覆为保护层。

这样，通过使用保护层保护基板1表面的无需蚀刻的表面区域，其中包括基板1的用于供终端设备的图像传感器采集信息的区域等，从而将基板1表面分为蒙砂蚀刻区域12和被保护区域11，能够避免基板1的被保护区域11被蒙砂蚀刻液腐蚀，防止影响光线传感器的正常采光；进一步的，在蒙砂蚀刻后，通过去除保护层并采用喷淋抛光的方式对基板1的用于供终端设备的光线传感器采集信息的被保护区域11进行抛光，即可在避免蒙砂蚀刻步骤S30中形成的磨砂表面在抛光过程中被损坏，确保防眩光效果的同时，减少或者消除用户在触摸蒙砂蚀刻区域与基板1的用于供终端设备的光线传感器采集信息的被保护区域11的边界时的凹凸感。

作为本实施例的一个具体方案，保护层采用耐酸油墨层。

以上所述仅为本申请的可选实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。