一种机械碰撞试验装置

技术领域

本发明涉及一种机械碰撞试验装置，属于力学试验设备技术领域。

背景技术

箱式变电站、高压开关柜、JP柜、低压开关柜、电缆分支箱、计量表箱等产品需要进行机械碰撞试验，来验证产品的防护等级以及外壳耐受机械应力是否达标，现有的试验设备较为简单，不能满足客户对试验的要求。

发明内容

针对上述存在的技术问题，本发明的目的是：提出了一种机械碰撞试验装置。

本发明的技术解决方案是这样实现的：一种机械碰撞试验装置，包含机架、摆锤机构和放料机构；所述机架上设置有升降驱动机构，升降驱动机构带动摆锤机构升降；所述放料机构包含放料载台，放料载台上设置有固定挡板、活动挡板和挡板驱动装置，挡板驱动装置带动活动挡板移动，活动挡板和固定挡板配合将工件固定在放料载台上。

优选的，所述摆锤机构包含升降载板、摆动驱动装置、转轴箱、摆臂、摆锤吊杆和摆锤；所述摆动驱动装置和转轴箱均设置在升降载板上，转轴箱上设置有摆动转轴，摆动驱动装置带动摆动转轴转动；所述摆臂的上端与摆动转轴固定连接，摆锤吊杆的上端铰接在摆动转轴上；所述摆锤设置在摆锤吊杆的下端，摆臂的下端设置有电磁铁，电磁铁用于吸附摆锤。

优选的，所述转轴箱上设置有与摆动转轴配合的刻度盘。

优选的，所述摆锤机构还包含止挡组件，止挡组件包含止挡载板、导向座、缓冲座、滑动座和止挡驱动装置；所述止挡载板通过载板吊杆与升降载板固定连接，导向座和缓冲座均设置在止挡载板上，滑动座与导向座和缓冲座配合，止挡驱动装置设置在滑动座上，止挡驱动装置上设置有伸缩档杆。

优选的，所述机架上还设置有控制面板。

优选的，所述放料载台的底部四角上均设置有滚轮。

由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：

本方案设计了可升降的摆锤机构，可以适应不同高度的产品，也可以对产品不同的高度位置分别进行测试；并优化了摆锤机构，使其可以更加高效地进行试验，并能够得到更为准确的试验结果；摆锤机构还具有止挡组件，可以防止摆锤来回摆动，对工件造成多次冲击，影响试验结果，止挡组件的缓冲设计降低了止挡的冲击，提高了机构使用寿命，并降低了冲击噪音。

附图说明

下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明：

附图1为本发明所述的一种机械碰撞试验装置的立体结构示意图；

附图2为本发明所述的摆锤机构的立体结构示意图；

附图3为图2的A处放大图。

具体实施方式

下面结合附图来说明本发明。

如附图1-3所示，本发明所述的一种机械碰撞试验装置，包含机架1、摆锤机构2和放料机构；所述机架1上设置有用于操作的控制面板3，机架1上还设置有升降驱动机构，升降驱动机构可采用常规的电机丝杆机构，升降驱动机构带动摆锤机构2升降；所述放料机构包含放料载台4，放料载台4上设置有固定挡板5、活动挡板6和挡板驱动装置7，挡板驱动装置7带动活动挡板6移动，活动挡板6和固定挡板5配合将工件固定在放料载台4上；所述放料载台4的底部四角上均设置有滚轮，使放料载台4可以旋转，便于冲击工件的各个表面。

所述摆锤机构2包含升降载板11、摆动驱动装置12、转轴箱13、摆臂14、摆锤吊杆15、摆锤16和止挡组件；所述升降载板11上设置有与升降丝杆配合的结构，摆动驱动装置12和转轴箱13均设置在升降载板11上，转轴箱13上设置有摆动转轴，转轴箱13上设置有与摆动转轴配合的刻度盘18，用于显示摆动角度，摆动驱动装置12可为减速电机，通过同步带带动摆动转轴转动；所述摆臂14的上端与摆动转轴固定连接，摆锤吊杆15的上端铰接在摆动转轴上；所述摆锤16设置在摆锤吊杆15的下端，摆臂14的下端设置有电磁铁17，电磁铁17用于吸附摆锤16。

所述止挡组件包含止挡载板21、导向座22、缓冲座23、滑动座24和止挡驱动装置25；所述止挡载板21通过载板吊杆20与升降载板11固定连接，使止挡组件可以随摆锤机构同步升降；所述导向座22和缓冲座23均设置在止挡载板21上，滑动座24的两端各与一个导向座22滑动配合，缓冲座23具有弹簧和导杆部件，滑动座24的中部与弹簧和导杆部件配合；所述止挡驱动装置25设置在滑动座24上，止挡驱动装置25上设置有伸缩档杆，摆锤吊杆15的下端穿过摆锤16，并与止挡驱动装置25的伸缩档杆配合。

试验时，摆动驱动装置12通过转轴箱13带动摆臂14转动一定角度，此时电磁铁17吸附住摆锤16，使摆锤吊杆15与摆臂14同步转动；转动到位后，电磁铁17释放摆锤16，使摆锤16自由向前摆动，经过止挡组件并冲击工件，止挡组件上传感器计次；冲击之后摆锤16返回，再次经过止挡组件，传感器再次感应到摆锤16经过后，控制止挡驱动装置25的伸缩档杆向前伸，挡住摆锤吊杆15的下端，防止摆锤16回摆，再次冲击工件。

上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。