一种显示面板及显示面板的制作方法

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示面板的制作方法。

背景技术

有机电致发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示器具有主动发光、响应速度快以及低驱动电压等优势，常见的OLED显示器的种类包括单色显示及多彩显示等。

硅基OLED微显示器在实现多彩显示的过程中大多依赖于低温滤光片工艺，然而黄光工艺很难保证低于100℃的条件，且滤光片存在固化不牢而容易脱落的问题。因此，亟需提出一种实现硅基OLED微显示器多彩显示的新技术方案，以规避上述问题。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板及显示面板的制作方法，以通过基于光学谐振原理的法布里珀罗共振腔实现硅基OLED微显示器的多彩显示，从而避免实现硅基OLED微显示器多彩显示过程中对低温滤光片工艺的依赖。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括：驱动背板；像素层，位于所述驱动背板一侧，其中所述像素层包括多个子像素；滤光层，位于所述像素层远离所述驱动背板的一侧；其中所述滤光层包括在所述显示面板厚度方向上与所述子像素一一对应的法布里珀罗共振腔结构，其中各所述法布里珀罗共振腔结构的腔体长度不完全相同，自所述像素层发射的光经不同腔长的所述法布里珀罗共振腔结构后出射的光的颜色不同。

可选地，所述法布里珀罗共振腔结构包括在所述像素层远离所述驱动背板一侧层叠设置的第一金属层、介质层以及第二金属层；

所述第一金属层覆盖所述像素层；

所述介质层包括多个介质单元，所述介质单元与所述子像素一一对应，沿所述显示面板的厚度方向上，各所述介质单元的厚度不完全相同；

所述第二金属层包括与所述介质单元一一对应的金属部，其中所述金属部在所述驱动背板上的垂直投影与对应的所述介质单元在所述驱动背板上的垂直投影重叠；

位于所述介质单元两侧的所述第一金属层和所述金属部相对的两个表面之间构成一法布里珀罗共振腔；所述法布里珀罗共振腔的腔长等于所述介质单元的厚度。

可选地，还包括绝缘层，所述绝缘层位于所述像素层和所述滤光层之间；

可选地，还包括封装层，所述封装层包覆所述像素层，所述封装层位于所述像素层和所述滤光层之间，所述封装层作为所述绝缘层。

可选地，所述法布里珀罗共振腔结构包括第一法布里珀罗共振腔结构、第二法布里珀罗共振腔结构、第三法布里珀罗共振腔结构；

所述第一法布里珀罗共振腔结构的腔体长度满足自所述像素层发射的光，经所述第一法布里珀罗共振腔结构后出射的光为蓝光条件；所述第二法布里珀罗共振腔结构的腔体长度满足自所述像素层发射的光，经所述第二法布里珀罗共振腔结构后出射的光为绿光的条件；所述第三法布里珀罗共振腔结构的腔体长度满足自所述像素层发射的光，经所述第三法布里珀罗共振腔结构后出射的光为红光的条件。

可选地，所述第一法布里珀罗共振腔结构的腔长范围为90nm至400nm，所述第二法布里珀罗共振腔结构的腔长范围为115nm至120nm，所述第三法布里珀罗共振腔结构的腔长范围为155nm至160nm。

可选地，在所述显示面板厚度方向上，所述第一金属层和/或所述第二金属层的厚度为25nm至30nm；

可选地，所述第一金属层的材料和/或所述第二金属层的材料为金属银。

可选地，所述介质层的材料为二氧化硅。

可选地，还包括第一金属粘附层、第二金属粘附层以及封装盖板；

所述第一金属粘附层位于所述封装层和所述滤光层之间；

所述第二金属粘附层位于所述滤光层远离所述驱动基板的一侧，所述封装盖板覆盖所述第二金属粘附层。

可选地，所述像素层包括自所述驱动背板至所述滤光层层叠设置的第一电极层、发光层和第二电极层；

所述第一电极层包括多个第一电极，每个所述子像素包括一所述第一电极；

所述子像素对应的所述法布里珀罗共振腔结构在所述驱动背板上的垂直投影与所述子像素的第一电极在所述驱动背板上的垂直投影重叠。

可选地，所述第一法布里珀罗共振腔结构的腔长范围为90nm至400nm，所述第二法布里珀罗共振腔结构的腔长范围为115nm至120nm，所述第三法布里珀罗共振腔结构的腔长范围为155nm至160nm；在所述显示面板厚度方向上，所述第一金属层和/或所述第二金属层的厚度为25nm至30nm；所述第一金属层的材料和/或所述第二金属层的材料为金属银；所述介质层的材料为二氧化硅；优选的，所述第一法布里珀罗共振腔结构的腔长为93nm；所述第二法布里珀罗共振腔结构的腔长为120nm；所述第三法布里珀罗共振腔结构的腔长为158nm。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板的制作方法包括：

提供一驱动基板；

在所述驱动基板的一侧形成像素层；其中所述像素层包括多个子像素；

在所述像素层远离所述驱动背板的一侧形成滤光层；其中所述滤光层包括在所述显示面板厚度方向上与所述子像素一一对应的法布里珀罗共振腔结构，其中各所述法布里珀罗共振腔结构的腔体长度不完全相同，自所述像素层发射的光经不同腔长的所述法布里珀罗共振腔结构后出射的光的颜色不同。

可选地，在所述像素层远离所述驱动背板的一侧形成滤光层之前，还包括：在所述像素层远离所述驱动背板的一侧形成封装层；

在所述像素层远离所述驱动背板的一侧形成滤光层包括：在所述封装层远离所述驱动背板的一侧形成第一金属层；在所述第一金属层远离所述驱动基板的一侧形成介质层，其中所述介质层包括多个介质单元，所述介质单元与所述子像素一一对应，沿所述显示面板的厚度方向上，各所述介质单元的厚度不完全相同；在所述介质层远离所述驱动基板的一侧形成第二金属层，其中所述第二金属层包括与所述介质单元一一对应的金属部，其中所述金属部在所述驱动背板上的垂直投影与对应的所述介质单元在所述驱动背板上的垂直投影重叠，位于所述介质单元两侧的所述第一金属层和所述金属部相对的两个表面之间构成一法布里珀罗共振腔，所述法布里珀罗共振腔的腔长等于所述介质单元的厚度。

本发明实施例提供的显示面板包括驱动背板、像素层以及滤光层，其中像素层包括多个子像素。通过设置滤光层包括在显示面板厚度方向上与子像素一一对应的法布里珀罗共振腔结构，各法布里珀罗共振腔结构的腔体长度不完全相同，使得自像素层发射的光经不同腔长的法布里珀罗共振腔结构后出射的光的颜色不同，从而通过基于光学谐振原理的法布里珀罗共振腔实现了显示面板的多彩显示，硅基OLED微显示器可包括本实施例提供的显示面板，即本实施例提供的技术方案，通过基于光学谐振原理的法布里珀罗共振腔实现了硅基OLED微显示器的多彩显示，从而避免了实现硅基OLED微显示器多彩显示过程中对低温滤光片工艺的依赖，规避了低温滤光片工艺中黄光工艺很难保证低于100℃的条件的问题，以及低温滤光片工艺下滤光片存在固化不牢而容易脱落的问题。

附图说明

图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图4是本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程示意图；

图5至图13是本发明实施例提供的显示面板在各制备步骤中的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，参考图1，所述显示面板包括：驱动背板10；像素层20，位于驱动背板10一侧，其中像素层20包括多个子像素；滤光层004，位于像素层20远离驱动背板10的一侧；其中滤光层004包括在显示面板厚度方向上与子像素一一对应的法布里珀罗共振腔结构40，其中各法布里珀罗共振腔结构40的腔体长度不完全相同，自像素层20发射的光经不同腔长的法布里珀罗共振腔结构40后出射的光的颜色不同。

具体地，驱动背板10可包括硅基板，驱动背板10能够为显示面板提供缓冲、保护和/或支撑等作用。驱动背板10上可设置有驱动电路，驱动电路可包括薄膜晶体管和信号线。信号线通过薄膜晶体管与像素层20连接，并通过过孔11连接显示面板中的驱动芯片。驱动芯片通过信号线为薄膜晶体管及像素层20提供驱动信号及扫描信号，从而驱动像素层20发光。

像素层20包括多个子像素(示例性地如图1中的子像素201、202以及203)，每个子像素中可设置有有机发光材料，各子像素中所设置的有机发光材料对应的发光颜色可以不完全相同，例如各子像素中所设置的有机发光材料对应的发光颜色为红色、蓝色或者绿色。各子像素中所设置的有机发光材料对应的发光颜色也可以完全相同，例如各子像素中所设置的有机发光材料对应的发光颜色均为白色。

滤光层004可以对像素层20发射的光进行滤光。若像素层20各子像素中所设置的有机发光材料对应的发光颜色不完全相同，例如各子像素中所设置的有机发光材料对应的发光颜色为红色、蓝色或者绿色，对应的子像素发射的光为红光、蓝光或者绿光，此时滤光层004能够对子像素发射的红光、蓝光或者绿光进行一定的滤光作用，使得自子像素发射的红光、蓝光或者绿光经滤光层004滤光之后对应出射出更为纯净的红光、蓝光或者绿光，从而在实现显示面板多彩显示的基础上优化显示效果。若像素层20各子像素中所设置的有机发光材料对应的发光颜色完全相同，例如各子像素中所设置的有机发光材料对应的发光颜色均为白色，对应的子像素发射的光均为白光，此时滤光层004还能够对子像素发射的白光进行一定的滤光作用，使得自子像素发射的白光经滤光层004滤光之后出射出纯净的单色光，例如红光、蓝光或者绿光，以此实现显示面板显示效果较好的多彩显示。

本实施例中，在显示面板厚度方向上(即图1中y方向上)，设置滤光层004包括与子像素一一对应的法布里珀罗共振腔结构40(Fabry-Perot resonator)，以通过法布里珀罗共振腔结构40对对应的子像素发射的光进行上述滤光作用。例如法布里珀罗共振腔结构401对子像素201发射的光进行滤光，法布里珀罗共振腔结构402对子像素202发射的光进行滤光，法布里珀罗共振腔结构403对子像素203发射的光进行滤光。

法布里珀罗共振腔结构40的腔长由y方向上法布里珀罗共振腔结构40的高度决定，例如图1中法布里珀罗共振腔结构401、法布里珀罗共振腔结构402以及法布里珀罗共振腔结构403三者的腔长依次增大。

自像素层20发射的光经不同腔长的法布里珀罗共振腔结构40后出射的光的颜色不同，例如子像素201、202以及203均发白光时，由于对应的法布里珀罗共振腔结构401、402以及403的腔长不同，因而自子像素201、202以及203发出的白光经过对应的法布里珀罗共振腔结构401、402以及403后，出射的光的颜色不同，不再全都是白光。当然，通过调节法布里珀罗共振腔结构40的腔长，可以使得经法布里珀罗共振腔结构40出射的光的颜色与对应的子像素发射的光的颜色相同，例如，若子像素201、202以及203发射的光分别为蓝光、绿光以及红光，通过调节对应的法布里珀罗共振腔结构401、402以及403各自的腔长，使得自子像素201、202以及203发出的蓝光、绿光以及红光经过对应的法布里珀罗共振腔结构401、402以及403后，出射的光仍然对应分别为蓝光、绿光以及红光，这种情况下，法布里珀罗共振腔结构40对自子像素发出的光进行滤光，以使得自子像素发出的光经法布里珀罗共振腔结构40后出射光更为纯净。

本实施例通过设置滤光层包括在显示面板厚度方向上与子像素一一对应的法布里珀罗共振腔结构，各法布里珀罗共振腔结构的腔体长度不完全相同，从而能够使得自像素层发射的光经不同腔长的法布里珀罗共振腔结构后出射的光的颜色不同，即本实施例通过基于光学谐振原理的法布里珀罗共振腔实现了显示面板的多彩显示。硅基OLED微显示器可包括本实施例提供的显示面板，即本实施例提供的技术方案通过基于光学谐振原理的法布里珀罗共振腔实现了硅基OLED微显示器的多彩显示，从而避免了实现硅基OLED微显示器多彩显示过程中对低温滤光片工艺的依赖，规避了低温滤光片工艺中黄光工艺很难保证低于100℃的条件的问题，以及低温滤光片工艺下滤光片存在固化不牢而容易脱落的问题。

可选地，显示面板还包括绝缘层，绝缘层位于像素层20和滤光层004之间。

具体地，绝缘层设置于像素层20和滤光层004之间，以防止像素层20中的信号串扰至滤光层004，影响发光效果以及滤光效果。

可选地，继续参考图1，显示面板还包括封装层30，封装层30包覆像素层20，封装层30位于像素层20和滤光层004之间，封装层30作为绝缘层。

具体地，封装层30也可以作为绝缘层。在像素层20制作完成后，制作封装层30将像素层20包覆住，以避免物理擦伤像素层20以及阻挡水汽、氧气、杂质以及污染物等侵蚀像素层20，从而保护像素层20中的有机发光材料。

图2是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，参考图2，可选地，法布里珀罗共振腔结构40包括在像素层20远离驱动背板10一侧层叠设置的第一金属层41、介质层42以及第二金属层43；第一金属层41覆盖像素层20；介质层42包括多个介质单元420，介质单元420与子像素一一对应，沿显示面板的厚度方向上，各介质单元420的厚度不完全相同；第二金属层43包括与介质单元420一一对应的金属部430，其中金属部430在驱动背板10上的垂直投影与对应的介质单元420在驱动背板10上的垂直投影重叠；位于介质单元420两侧的第一金属层41和金属部430相对的两个表面之间构成一法布里珀罗共振腔；法布里珀罗共振腔的腔长等于介质单元420的厚度。

具体地，第一金属层41可以是如图2中的一连续的金属层，此时该连续的金属层被滤光层004中的各法布里珀罗共振腔结构40共用；第一金属层41也可以是一不连续的金属层，不连续时，滤光层004中的各法布里珀罗共振腔结构40各自对应包括一第一金属层41。

介质层42包括多个介质单元420，滤光层004中的各法布里珀罗共振腔结构40与子像素一一对应，从而介质单元420与子像素一一对应，如图2中示例性地示意出了分别与子像素201、202以及203对应的三个介质单元420。沿y方向，法布里珀罗共振腔结构40的腔长与介质单元420的厚度相对应，介质单元420的厚度越大，法布里珀罗共振腔结构40的腔长越长，介质单元420的厚度越小，法布里珀罗共振腔结构40的腔长越短，从而滤光层004中各法布里珀罗共振腔结构40的腔长不同时，滤光层004中对应各法布里珀罗共振腔结构40的介质单元420的厚度不同。

第二金属层43包括与介质单元420一一对应的金属部430。这样，每个法布里珀罗共振腔结构40包括一第一金属层41、一介质单元420以及一金属部430。

对于任意一个法布里珀罗共振腔结构40而言，位于介质单元420两侧的第一金属层41和金属部430相对的两个表面之间构成一法布里珀罗共振腔，该法布里珀罗共振腔的透射的光的频率由第一金属层41、介质单元420和金属部430三者的折射率以及法布里珀罗共振腔的腔长共同决定，其中沿y方向，法布里珀罗共振腔的腔长等于介质单元420的厚度。据此，可以通过调节第一金属层41的折射率、介质单元420的折射率、金属部430的折射率和/或介质单元420的厚度对法布里珀罗共振腔结构40的透射的光的频率进行调节，从而实现法布里珀罗共振腔结构40对子像素发出的光的滤光作用。

其中，法布里珀罗共振腔结构40的工作原理为：自像素层20发出的光束透过第一金属层41入射至金属部430靠近介质单元420的表面，并在法布里珀罗共振腔内部和/或外部发生干涉，发生干涉加强的光束透过金属部430从金属部430远离介质单元420的表面出射，出射光的频率由第一金属层41、介质单元420和金属部430三者的折射率以及法布里珀罗共振腔的腔长共同决定，如果该频率为可见光内红光频率，则出射的光为红光，如果该频率为可见光内蓝光频率，则出射的光为蓝光，如果该频率为可见光内绿光频率，则出射的光为绿光。

可选地，继续参考图2，法布里珀罗共振腔结构40包括第一法布里珀罗共振腔结构401、第二法布里珀罗共振腔结构402、第三法布里珀罗共振腔结构403；

第一法布里珀罗共振腔结构401的腔体长度满足自像素层20发射的光，经第一法布里珀罗共振腔结构401后出射的光为蓝光条件；第二法布里珀罗共振腔结构402的腔体长度满足自像素层20发射的光，经第二法布里珀罗共振腔结构402后出射的光为绿光的条件；第三法布里珀罗共振腔结构403的腔体长度满足自像素层20发射的光，经第三法布里珀罗共振腔结构403后出射的光为红光的条件。

具体地，本实施例中，当设置第一、第二以及第三法布里珀罗共振腔结构40的腔体长度分别对应满足，自像素层20发射的光经第一、第二以及第三法布里珀罗共振腔结构40后出射的光为蓝光、绿光以及红光条件的条件时，可从滤光层004远离驱动背板10的一侧接收到三种单色光、即蓝光、绿光以及红光，从而在滤光层004远离驱动背板10的一侧实现显示面板的多彩显示，也即在金属部430远离介质单元420的一侧实现显示面板的多彩显示。

可选地，第一法布里珀罗共振腔结构401的腔长范围为90nm至400nm，第二法布里珀罗共振腔结构402的腔长范围为115nm至120nm，第三法布里珀罗共振腔结构403的腔长范围为155nm至160nm。

具体地，第一法布里珀罗共振腔结构401的腔体长度满足自像素层20发射的光经第一法布里珀罗共振腔结构401后出射的光为蓝光条件时，第一法布里珀罗共振腔结构401的腔长范围可以为90nm至95nm，例如第一法布里珀罗共振腔结构401的腔长为91nm、92nm、94nm或者95nm。

第二法布里珀罗共振腔结构402的腔体长度满足自像素层20发射的光经第二法布里珀罗共振腔结构402后出射的光为绿光条件时，第二法布里珀罗共振腔结构402的腔长范围可以为115nm至120nm，例如第二法布里珀罗共振腔结构402的腔长为116nm、117nm、118nm或者119nm。

第三法布里珀罗共振腔结构403的腔体长度满足自像素层20发射的光经第三法布里珀罗共振腔结构403后出射的光为红光条件时，第三法布里珀罗共振腔结构403的腔长范围可以为155nm至160nm，例如第三法布里珀罗共振腔结构403的腔长为156nm、157nm或者159nm。

由于自像素层20发射的光线需透过第一金属层41进入法布里共振腔结构40，经法布里共振腔结构40中干涉加强的光线需透过第二金属层43(以在第二金属层43远离介质层42的一侧实现显示面板的多彩显示)，显示面板需要实现轻薄化，因此，第一金属层41和/或第二金属层43的厚度不宜过大；并且，第一金属层41和第二金属层43相对的两个表面之间需形成法布里共振腔结构40，因此，第一金属层41和/或第二金属层43的厚度不宜过小。可选地，在显示面板厚度方向上，第一金属层41和/或第二金属层43的厚度为25nm至30nm。例如设置第一金属层41和/或第二金属层43的厚度为26nm、27nm、28nm或者29nm等。

可选地，第一金属层41的材料和/或第二金属层43的材料为金属银。

可选地，介质层42的材料为二氧化硅。

图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，参考图3，可选地，显示面板还包括第一金属粘附层51、第二金属粘附层52以及封装盖板50；第一金属粘附层51位于封装层30和滤光层004之间；第二金属粘附层52位于滤光层004远离驱动背板10的一侧，封装盖板50覆盖第二金属粘附层52。

具体地，设置第一金属粘附层51以增加滤光层004对封装层30的粘附力，即第一金属粘附层51位于封装层30与第一金属层41之间，以增加第一金属粘附层51对封装层30的粘附力，从而增加滤光层004对封装层30的粘附力，也即增加各个法布里珀罗共振腔结构40对封装层30的粘附力，防止任意法布里珀罗共振腔结构40在显示面板中不牢固而发生脱落。封装盖板50对显示面板起到封装和保护作用，以防止对滤光层004和像素层20的物理擦伤以及水氧等杂质侵蚀滤光层004和像素层20，在金属部430和封装盖板50之间设置第二金属粘附层52，以进一步加强滤光层004的牢固性，封装盖板50可以通过UV胶53固定于显示面板中。

沿y方向，第一和第二金属粘附层的厚度过大不利于实现显示面板的轻薄化，第一和第二金属粘附层的厚度过小不能够有效地增加法布里珀罗共振腔结构40与封装层30之间的粘附力，也不能够有效地增加法布里珀罗共振腔结构40与封装盖板50之间的粘附力。可选地，第一和第二金属粘附层的材料均可以是铬；沿y方向，第一和第二金属粘附层52的厚度可均为0.5nm至1nm，例如，第一金属粘附层51和/或第二金属粘附层52的厚度可以是0.6nm、0.7nm、0.8nm或者0.9nm。

继续参见图1至图3，可选地，像素层20包括自驱动背板10至滤光层004层叠设置的第一电极层21、发光层22和第二电极层23；第一电极层21包括多个第一电极210，每个子像素包括一第一电极210；子像素对应的法布里珀罗共振腔结构40在驱动背板10上的垂直投影与子像素的第一电极210在驱动背板10上的垂直投影重叠。

具体地，图1至图3中示例性地示意出发光层22的有机发光材料均为发白光的有机发光材料，实际上不同子像素的发光层22的有机发光材料可以不同，本实施例对此不作限制。对于每个子像素而言，其发光层22有机发光材料在对应的第一电极210和第二电极层23的驱动下发出对应颜色的光。

可选地，本实施例示例性地提供一种显示效果更优的显示面板的结构参数，以实现显示效果良好的多彩显示，其中：第一法布里珀罗共振腔结构40的腔长为93nm、第二法布里珀罗共振腔结构40的腔长为120nm、第三法布里珀罗共振腔结构40的腔长为158nm、第一金属层41和第二金属层43的厚度均为25nm至30nm、第一金属层41的材料和第二金属层43的材料为金属银Ag、介质层42的材料为二氧化硅SiO

本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，图4是本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程示意图，图5至图13是本发明实施例提供的显示面板在各制备步骤中的结构示意图，参见图4，显示面板的制作方法包括：

S10，提供一驱动背板。

具体地，参考图5，提供一驱动背板10，驱动背板10包括过孔11。

S11，在驱动背板的一侧形成像素层；其中像素层包括多个子像素。

具体地，参考图6，所形成的像素层20可包括位于驱动背板10一侧依次层叠设置的第一电极层21、发光层22和第二电极层23；第一电极层21包括多个第一电极210，每个子像素包括一第一电极210；子像素对应的法布里珀罗共振腔结构40在驱动背板10上的垂直投影与子像素的第一电极210在驱动背板10上的垂直投影重叠，其中子像素例如图6中的子像素201、202以及203。

S12，在像素层远离驱动背板的一侧形成滤光层004；其中滤光层004包括在显示面板厚度方向上与子像素一一对应的法布里珀罗共振腔结构，其中各法布里珀罗共振腔结构的腔体长度不完全相同，自像素层发射的光经不同腔长的法布里珀罗共振腔结构后出射的光的颜色不同。

具体地，参考图1，沿y方向，在像素层20远离驱动背板10的一侧形成与子像素一一对应的法布里珀罗共振腔结构40。

可选地，可参考图6，在步骤S12之前还包括：在像素层远离驱动背板的一侧形成封装层。即在形成像素层20之后紧接着形成封装层30，以封装及保护像素层20。

可选地，可参考图7，在像素层远离驱动背板的一侧形成封装层之后还包括：在封装层30远离像素层20的一侧蒸镀一层第一金属粘附层51，例如是蒸镀一层沿y方向厚度为0.5nm-1nm的铬Cr。

可选地，步骤S12包括步骤S120、步骤S121以及步骤S122。

可参考图8，步骤S120包括：在封装层远离驱动背板的一侧形成第一金属层。即在第一金属粘附层51远离封装层30的一侧形成第一金属层41，例如是蒸镀一层沿y方向厚度为30nm的金属银Ag。

可参考图9至图11，步骤S121包括：在第一金属层远离驱动背板的一侧形成介质层，其中介质层包括多个介质单元，介质单元与子像素一一对应，沿显示面板的厚度方向上，各介质单元的厚度不完全相同。即在第一金属层41远离第一金属粘附层51的一侧依次进行光刻胶旋涂、曝光、显影、二氧化硅介质层42的蒸镀以及干法lift-off工艺去除光刻胶层，以形成如图9所示的子像素201对应的介质单元420；进而，再次在第一金属层41远离第一金属粘附层51的一侧依次进行光刻胶旋涂、曝光、显影、二氧化硅介质层42的蒸镀以及干法lift-off工艺去除光刻胶层，以形成如图10所示的子像素202对应的介质单元420；进而，再次在第一金属层41远离第一金属粘附层51的一侧依次进行光刻胶旋涂、曝光、显影、二氧化硅介质层42的蒸镀以及干法lift-off工艺去除光刻胶层，以形成如图11所示的子像素203对应的介质单元420。

可参考图12，步骤S122包括：在介质层远离驱动背板的一侧形成第二金属层，其中第二金属层包括与介质单元一一对应的金属部430，其中金属部在驱动背板上的垂直投影与对应的介质单元在驱动背板上的垂直投影重叠，位于介质单元两侧的第一金属层和金属部相对的两个表面之间构成一法布里珀罗共振腔，法布里珀罗共振腔的腔长等于介质单元的厚度。即在介质单元420远离第一金属层41的一侧形成第二金属层43，例如是蒸镀一层沿y方向厚度为30nm的金属银Ag，并在此过程中形成金属部430。

需要说明的是，在图12中，与图1至3不同的是，在蒸镀第二金属层43的时候也可能出现第二金属层43覆盖第一金属层41的情况，图1至图3中与图12中制作第二金属层43时所用的掩膜版可以不同，图1至图3中示意出的是第一金属层41没有被第二金属层43覆盖的情况，图12中示意出蒸镀第二金属层43时第二金属层43还将没有被介质单元420覆盖的第一金属层41所覆盖，可以理解的是，图12以及图1至图3均能够实现本实施例的技术效果。

可选地，可参考图13，在第二金属层43远离介质单元420的一侧形成第二金属粘附层52并通过UV胶53设置封装盖板50，第二金属层43例如是蒸镀一层沿y方向厚度为0.5nm-1nm的铬Cr。

本发明实施例提供的显示面板的制作方法可用于制作上述任意技术方案的显示面板，显示面板的制作方法与显示面板属于相同的发明构思，两者能够实现相同的技术效果，重复内容此处不再赘述。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。