一种避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置

技术领域

本发明涉及半导体分立器焊点上胶设备技术领域，具体为一种避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置。

背景技术

半导体分立器件，泛指半导体晶体二极管、半导体三极管简称三极管、三极管及半导体特殊器件。随着社会的不断发展，科学技术水平的不断提高，电子产品得到了飞速的发展，为了使电子产品的功能更加完善，电子产品的内部结构也越来越复杂，在电子产品中，半导体分立器件是重要的零部件之一。在制造的过程中，需要对相应的位置进行焊接、上胶，提高设备的稳定性。

现有的上胶装置，大多采用的胶滴自由滴落，上胶效率低，而且由于上胶时距离设备较近，在移动的过程中胶液容易出现延流滴落在设备的其他位置，造成设备或者周围环境的污染，严重的可能会导致设备损坏，而且造成胶液的浪费，同时自由滴落的胶液无法准确的控制胶滴的大小，无法适应于不同焊点，因此我们提出了一种避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置来解决以上问题。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了一种避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置，具备上胶效率高、避免设备受到污染、减少胶液的浪费、胶液大小稳定的优点，解决了上胶效率低、容易造成设备污染、容易造成胶液浪费、无法准确控制胶滴的大小的问题。

(二)技术方案

为实现上述上胶效率高、避免设备受到污染、减少胶液的浪费、胶液大小稳定的目的，本发明提供如下技术方案：一种避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置，包括外壳，所述外壳的内部固定安装有进胶管，所述外壳的内部固定安装有电机，所述电机的底部转动连接有混合电控机构，所述混合电控机构的底部焊接有搅拌杆，所述外壳的底部焊接有上胶机构。

优选的，所述进胶管共设置有两个且规格相同，对称分布于外壳内部的左右两侧，并且上端与原料储罐相连接。

优选的，所述混合电控机构和搅拌杆位于外壳内部的中心位置，其中混合电控机构上侧与电机固定连接，下侧与搅拌杆固定连接。

所述混合电控机构，包括转盘，所述转盘的表面活动连接有驱动块，所述驱动块远离转盘的一侧焊接有滑杆，所述滑杆远离驱动块的一端焊接有滑块，所述滑块远离滑杆的一侧焊接有接触块，所述滑块的表面滑动连接有滑槽，所述滑槽靠近驱动块的一侧固定安装有复位弹簧，所述滑槽的背面螺纹连接有固定环，所述固定环靠近接触块的一侧焊接有触点开关。

优选的，所述转盘的外侧均匀设置有六个相同规格的推块，推块与驱动块活动连接，滑块的尺寸与滑槽内部的尺寸相适配，滑杆和滑块均与滑槽滑动连接。

优选的，所述复位弹簧共设置有十二个且规格相同，两两对称分布于六个滑槽的两侧，另一端与驱动块固定连接，固定环固定安装在外壳的内部，接触块与触点开关接触，触点开关通电，并且触点开关与上胶机构电连接。

所述上胶机构，包括出胶头，所述出胶头的内部开设有排胶管，所述出胶头的内部固定安装有电磁铁，所述排胶管的内部滑动连接有永磁体，所述永磁体的正面螺纹连接有调节杆，所述调节杆的内部滑动连接有定位块，所述定位块的上侧焊接有回程弹簧，所述出胶头的内部固定安装有过渡管。

优选的，所述电磁铁与触点开关电连接，并且电磁铁通电磁极显N极，永磁体位于电磁铁的下方，磁极显N极，并且永磁体的尺寸与下侧排胶管的尺寸相适配。

优选的，所述调节杆、定位块、回程弹簧以及过渡管均设置有两个且规格相同，对称分布于出胶头的两侧，其中调节杆一端固定安装在永磁体的正面，并且两个调节杆之间相互连接，调节杆的内部开设有槽与定位块滑动连接，回程弹簧一端固定安装在定位块的上侧，另一端固定安装在外壳的下侧，过渡管为U形，两端均与排胶管相连，并且永磁体位于两个过渡管之间。

(三)有益效果

与现有技术相比，本发明提供了一种避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置，具备以下有益效果：

该避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置，电机带动混合电控机构和搅拌杆同步转动，通过混合电控机构控制上胶机构中的电磁铁，在电磁铁和永磁体以及过渡管的作用下，使大小相同胶滴的均匀的下落，大大提高了设备的上胶效率，同时避免了由于延流造成设备或周围环境受到污染，而且减少了胶液的浪费，可适用不同大小焊点的上胶，与现有的设备相比，更加环保实用。

附图说明

图1为本发明各结构连接示意图；

图2为本发明混合电控机构中各结构连接俯视图；

图3为本发明图2中A处结构放大图；

图4为本发明上胶机构中各结构连接示意图。

图中：1、外壳；2、进胶管；3、电机；4、混合电控机构；5、搅拌杆；6、上胶机构；41、转盘；42、驱动块；43、滑杆；44、滑块；45、接触块；46、滑槽；47、复位弹簧；48、固定环；49、触点开关；61、出胶头；62、排胶管；63、电磁铁；64、永磁体；65、调节杆；66、定位块；67、回程弹簧；68、过渡管。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一：

请参阅图1-3，一种避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置，包括外壳1，外壳1的内部固定安装有进胶管2，进胶管2共设置有两个且规格相同，对称分布于外壳1内部的左右两侧，并且上端与原料储罐相连接，外壳1的内部固定安装有电机3，电机3的底部转动连接有混合电控机构4，混合电控机构4的底部焊接有搅拌杆5，混合电控机构4和搅拌杆5位于外壳1内部的中心位置，其中混合电控机构4上侧与电机3固定连接，下侧与搅拌杆5固定连接，外壳1的底部焊接有上胶机构6；

混合电控机构4，包括转盘41，转盘41的表面活动连接有驱动块42，驱动块42远离转盘41的一侧焊接有滑杆43，滑杆43远离驱动块42的一端焊接有滑块44，滑块44远离滑杆43的一侧焊接有接触块45，滑块44的表面滑动连接有滑槽46，转盘41的外侧均匀设置有六个相同规格的推块，推块与驱动块42活动连接，滑块44的尺寸与滑槽46内部的尺寸相适配，滑杆43和滑块44均与滑槽46滑动连接，滑槽46靠近驱动块42的一侧固定安装有复位弹簧47，滑槽46的背面螺纹连接有固定环48，固定环48靠近接触块45的一侧焊接有触点开关49，复位弹簧47共设置有十二个且规格相同，两两对称分布于六个滑槽46的两侧，另一端与驱动块42固定连接，固定环48固定安装在外壳1的内部，接触块45与触点开关49接触，触点开关49通电，并且触点开关49与上胶机构6电连接。

实施例二：

请参阅图1和图4，一种避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置，包括外壳1，外壳1的内部固定安装有进胶管2，进胶管2共设置有两个且规格相同，对称分布于外壳1内部的左右两侧，并且上端与原料储罐相连接，外壳1的内部固定安装有电机3，电机3的底部转动连接有混合电控机构4，混合电控机构4的底部焊接有搅拌杆5，混合电控机构4和搅拌杆5位于外壳1内部的中心位置，其中混合电控机构4上侧与电机3固定连接，下侧与搅拌杆5固定连接，外壳1的底部焊接有上胶机构6；

上胶机构6，包括出胶头61，出胶头61的内部开设有排胶管62，出胶头61的内部固定安装有电磁铁63，排胶管62的内部滑动连接有永磁体64，电磁铁63与触点开关49电连接，并且电磁铁63通电磁极显N极，永磁体64位于电磁铁63的下方，磁极显N极，并且永磁体64的尺寸与下侧排胶管62的尺寸相适配，永磁体64的正面螺纹连接有调节杆65，调节杆65的内部滑动连接有定位块66，定位块66的上侧焊接有回程弹簧67，出胶头61的内部固定安装有过渡管68，调节杆65、定位块66、回程弹簧67以及过渡管68均设置有两个且规格相同，对称分布于出胶头61的两侧，其中调节杆65一端固定安装在永磁体64的正面，并且两个调节杆65之间相互连接，调节杆65的内部开设有槽与定位块66滑动连接，回程弹簧67一端固定安装在定位块66的上侧，另一端固定安装在外壳1的下侧，过渡管68为U形，两端均与排胶管62相连，并且永磁体64位于两个过渡管68之间。

实施例三：

请参阅图1-4，一种避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置，包括外壳1，外壳1的内部固定安装有进胶管2，进胶管2共设置有两个且规格相同，对称分布于外壳1内部的左右两侧，并且上端与原料储罐相连接，外壳1的内部固定安装有电机3，电机3的底部转动连接有混合电控机构4，混合电控机构4的底部焊接有搅拌杆5，混合电控机构4和搅拌杆5位于外壳1内部的中心位置，其中混合电控机构4上侧与电机3固定连接，下侧与搅拌杆5固定连接，外壳1的底部焊接有上胶机构6；

混合电控机构4，包括转盘41，转盘41的表面活动连接有驱动块42，驱动块42远离转盘41的一侧焊接有滑杆43，滑杆43远离驱动块42的一端焊接有滑块44，滑块44远离滑杆43的一侧焊接有接触块45，滑块44的表面滑动连接有滑槽46，转盘41的外侧均匀设置有六个相同规格的推块，推块与驱动块42活动连接，滑块44的尺寸与滑槽46内部的尺寸相适配，滑杆43和滑块44均与滑槽46滑动连接，滑槽46靠近驱动块42的一侧固定安装有复位弹簧47，滑槽46的背面螺纹连接有固定环48，固定环48靠近接触块45的一侧焊接有触点开关49，复位弹簧47共设置有十二个且规格相同，两两对称分布于六个滑槽46的两侧，另一端与驱动块42固定连接，固定环48固定安装在外壳1的内部，接触块45与触点开关49接触，触点开关49通电，并且触点开关49与上胶机构6电连接；

上胶机构6，包括出胶头61，出胶头61的内部开设有排胶管62，出胶头61的内部固定安装有电磁铁63，排胶管62的内部滑动连接有永磁体64，电磁铁63与触点开关49电连接，并且电磁铁63通电磁极显N极，永磁体64位于电磁铁63的下方，磁极显N极，并且永磁体64的尺寸与下侧排胶管62的尺寸相适配，永磁体64的正面螺纹连接有调节杆65，调节杆65的内部滑动连接有定位块66，定位块66的上侧焊接有回程弹簧67，出胶头61的内部固定安装有过渡管68，调节杆65、定位块66、回程弹簧67以及过渡管68均设置有两个且规格相同，对称分布于出胶头61的两侧，其中调节杆65一端固定安装在永磁体64的正面，并且两个调节杆65之间相互连接，调节杆65的内部开设有槽与定位块66滑动连接，回程弹簧67一端固定安装在定位块66的上侧，另一端固定安装在外壳1的下侧，过渡管68为U形，两端均与排胶管62相连，并且永磁体64位于两个过渡管68之间。

工作原理：需要上胶时，将原料通过进胶管2放入外壳1内，在电机3的带动下，带动混合电控机构和搅拌杆5对原料进行搅拌，使避免原料在使用过程发生沉淀，由于转盘41的外侧均匀设置有推块，推块与驱动块42活动连接，滑块44的尺寸与滑槽46内部的尺寸相适配，滑杆43和滑块44均与滑槽46滑动连接，而复位弹簧47与驱动块42固定连接，固定环48固定安装在外壳1的内部，接触块45与触点开关49接触，触点开关49通电，并且触点开关49与电磁铁63电连接，即当转盘41外侧的推块与驱动块42接触时，通过滑杆43和滑块44带动接触块45与触点开关49相接触，此时电磁铁63通电；

由于电磁铁63通电磁极显N极，永磁体64位于电磁铁63的下方，磁极显N极，并且永磁体64的尺寸与下侧排胶管62的尺寸相适配，而调节杆65一端固定安装在永磁体64的正面，并且两个调节杆65之间相互连接，调节杆65的内部开设有槽与定位块66滑动连接，回程弹簧67一端固定安装在定位块66的上侧，另一端固定安装在外壳1的下侧，过渡管68为U形，两端均与排胶管62相连，并且永磁体64位于两个过渡管68之间，即电磁铁63通电与永磁体64之间产生排斥力，推动永磁体64在排胶管62内向下运动，此时胶液则通过上侧的过渡管68内，当转盘41外侧的推块与驱动块42脱离时，接触块45与触点开关49脱离，电磁铁63断电，永磁体64则在调节杆65和回程弹簧67的作用回到初始位置，胶液则在重力的作用下从过渡管68内排出，重复上述过程，永磁体64再次向下运动，将胶液推出排胶管62，并且同时胶液再次通过过渡管68的上侧进入，完成大小相同的胶滴均匀下落。

综上所述，该避免胶滴延流造成污染的半导体分立器焊点上胶装置，电机3带动混合电控机构4和搅拌杆5同步转动，通过混合电控机构4控制上胶机构6中的电磁铁63，在电磁铁63和永磁体64以及过渡管68的作用下，使大小相同胶滴的均匀的下落，大大提高了设备的上胶效率，同时避免了由于延流造成设备或周围环境受到污染，而且减少了胶液的浪费，可适用不同大小焊点的上胶，与现有的设备相比，更加环保实用。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。