显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示面板的制备方法、包括该显示面板的显示装置。

背景技术

随着全面屏技术的发展，手机屏占比向着极致化的方向迈进，屏占比越高，视觉观感就越震撼。继刘海屏、水滴屏之后，又出现了“挖孔屏”，但这些并非真全面屏，对全面屏技术来说，要想达到满眼全是显示屏的效果。首要解决的问题就是前置摄像头的“隐藏”，因此显示屏下摄像才是终极解决方案，即做到如屏幕指纹技术一样，将前置摄像头真正“藏”起来。屏下摄像方案对屏下摄像显示区的显示屏的透光率提出一定要求，OLED(OrganicLight-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板中真正透光的部分是发光二极管(子像素)间的缝隙部分。

目前，比较主流的做法是“低像素密度方案”，即降低屏下摄像显示区的像素密度，使屏下摄像显示区的子像素间的空隙增大，从而提升透光率。但是，该区域稀疏的像素密度会导致与周围正常显示区的显示有差异，降低观感，因此，如何在保证显示无差异的前提下，提高屏下摄像显示区的显示面板的透光率是一个难题。

所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的屏下摄像显示区透光率较低的不足，提供一种屏下摄像显示区透光率较高的显示面板及显示面板的制备方法、包括该显示面板的显示装置。

本发明的额外方面和优点将部分地在下面的描述中阐述，并且部分地将从描述中变得显然，或者可以通过本发明的实践而习得。

根据本公开的一个方面，提供一种显示面板，具有第一区以及第二区，所述显示面板包括：

衬底基板；

发光层，设于所述衬底基板的一侧，所述发光层包括多个发光图案，所述多个发光图案在所述衬底基板上的正投影互不交叠；

多个透明抑制图案，设于所述衬底基板的一侧，并位于至少部分相邻的所述发光图案之间，且所述透明抑制图案位于所述第一区，多个所述透明抑制图案之间间隔设置；

第一电极，设于所述发光层的远离所述衬底基板的一侧，所述第一电极上设置有多个通孔，所述通孔在所述衬底基板上的正投影与所述透明抑制图案在所述衬底基板上的正投影重合。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第一区的像素密度与所述第二区的像素密度相同。

在本公开的一种示例性实施例中，所述显示面板还包括：

平坦化层，设于所述衬底基板的一侧，所述平坦化层上设置有第一过孔；

像素定义层，设于所述平坦化层的远离所述衬底基板的一侧，所述像素定义层上设置有第三过孔和第四过孔，所述第三过孔与所述第一过孔连通；

所述透明抑制图案设置在连通的所述第一过孔和所述第三过孔内，所述发光图案设置在所述第四过孔内。

在本公开的一种示例性实施例中，所述透明抑制图案的材料是强极性无机材料或强极性有机材料，所述第一电极的材料是导电金属。

在本公开的一种示例性实施例中，所述显示面板还包括阵列排布的像素单元，所述像素单元包括一个第一发光图案、一个第二发光图案和两个第三发光图案，所述像素单元的外围切线形成矩形；

在第一方向上，相邻两个所述矩形的角部相对设置，且多个所述矩形排列形成多行，相邻两行错位设置；相邻至少两个所述像素单元之间设置有一个所述透明抑制图案。

在本公开的一种示例性实施例中，所述透明抑制图案包括中间区域以及连接于所述中间区域的四个边缘区域，所述中间区域为圆形，所述边缘区域为长条形。

在本公开的一种示例性实施例中，

在第一方向上，第一发光图案和第二发光图案交替排列形成第一行，第三发光图案排列形成第二行；

在第二方向上，所述第一行和所述第二行交替排列，所述第一方向和所述第二方向大致垂直；

分布在相邻两行两列的两个第一发光图案和两个第二发光图案形成一个虚拟四边形，所述第三发光图案位于所述虚拟四边形中；

相邻两个所述第三发光图案之间设置有所述透明抑制图案，相邻的所述第一发光图案与所述第二发光图案之间设置有所述透明抑制图案。

在本公开的一种示例性实施例中，所述显示面板还包括阵列排布的像素单元，所述像素单元包括一个第一发光图案、一个第二发光图案和两个第三发光图案，两个所述第三发光图案在第二方向上排列，一个所述第一发光图案和一个所述第二发光图案在第一方向上排列，所述第一发光图案和所述第二发光图案位于两个所述第三发光图案的中心点的连线的中心线上；

在所述第一方向上，多个所述像素单元排列形成一行，相邻两行内的所述像素单元错位排列，所述第一方向和所述第二方向大致垂直；

在相邻两行的相邻所述第一发光图案、所述第二发光图案和两个所述第三发光图案之间设置有所述透明抑制图案。

在本公开的一种示例性实施例中，所述透明抑制图案设置为椭圆形。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第一发光图案是红色发光图案，所述第二发光图案是蓝色发光图案，所述第三发光图案是绿色发光图案。

根据本公开的一个方面，提供一种显示装置，包括上述任意一项所述的显示面板。

根据本公开的一个方面，提供一种显示面板的制备方法，包括：

提供一衬底基板，所述衬底基板具有第一区以及第二区；

在所述衬底基板的一侧形成发光层，所述发光层包括多个发光图案，所述多个发光图案在所述衬底基板上的正投影互不交叠；

在所述第一区，且在所述衬底基板的一侧形成多个透明抑制图案，所述透明抑制图案位于至少部分相邻的所述发光图案之间，多个所述透明抑制图案之间间隔设置；

在所述发光层的远离所述衬底基板的一侧形成第一电极，并在所述第一电极上形成多个通孔，所述通孔在所述衬底基板上的正投影与所述透明抑制图案在所述衬底基板上的正投影重合。

在本公开的一种示例性实施例中，所述制备方法还包括：

在所述衬底基板的一侧形成平坦化层，并在所述平坦化层上形成第一过孔；

在所述平坦化层的远离所述衬底基板的一侧形成像素定义层，并在所述像素定义层上形成第三过孔和第四过孔，所述第三过孔与所述第一过孔连通；

所述发光图案形成在所述第三过孔内，所述透明抑制图案形成在连通的所述第一过孔和所述第三过孔内。

由上述技术方案可知，本发明具备以下优点和积极效果中的至少之一：

本发明的显示面板及其制备方法，在衬底基板的一侧设置有发光层，发光层包括多个发光图案，多个发光图案在衬底基板上的正投影互不交叠；在第一区，在衬底基板的一侧还设置有多个透明抑制图案，透明抑制图案位于至少部分相邻的发光图案之间，多个透明抑制图案之间间隔设置；在发光层的远离衬底基板的一侧设置有第一电极，第一电极上设置有多个通孔，通孔在衬底基板上的正投影与透明抑制图案在衬底基板上的正投影重合，即在透明抑制图案之上没有设置第一电极，从而避免第一电极对光线的遮挡，提高第一区的透光率，从而在保证透光率的前提下可以提高第一区的像素密度，使第一区的像素密度与正常显示区的像素密度相同，不会造成显示差异，可以满足较高分辨率的显示要求；而且多个透明抑制图案之间间隔设置，使第一电极还是连接成一体，不会影响第一区的正常显示。

附图说明

通过参照附图详细描述其示例实施方式，本发明的上述和其它特征及优点将变得更加明显。

图1是本发明显示面板一示例实施方式的结构示意图；

图2是图1中的显示面板的像素排列一示例实施方式的结构示意图；

图3是在图2中形成透明抑制图案后的结构示意图；

图4是图1中的显示面板的像素排列另一示例实施方式的结构示意图；

图5是在图4中形成透明抑制图案后的结构示意图；

图6是图1中的显示面板的像素排列再一示例实施方式的结构示意图；

图7是在图6中形成透明抑制图案后的结构示意图；

图8是本发明显示面板的制备方法一示例实施方式的流程示意框图；

图9是本发明显示面板的制备方法中形成像素介定层后的结构示意图；

图10是具有开口的精细金属掩膜板的结构示意图；

图11是屏下摄像显示区蒸镀阴极后的效果示意图；

图12是本发明显示面板另一示例实施方式的结构示意图。

图中主要元件附图标记说明如下：

1、衬底基板；2、有机膜层；3、阻挡层；

4、阵列基板；41、绝缘层；42、金属走线；43、层间介电层；44、源漏极；

5、平坦化层；51、第一过孔；52、第二过孔；

6、像素介定层；61、第三过孔；62、第四过孔；

7、阳极(第二电极)；

8、发光图案；81、红色发光图案；82、蓝色发光图案；83、绿色发光图案；84、发光材料的覆盖区；85、实际发光区；

9、阴极(第一电极)；901、通孔；

10、透明抑制图案；11、封装层；12、精细金属掩膜板；13、开口；

141、屏下摄像显示区；142、正常显示区。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

本示例实施方式首先提供了一种显示面板，参照图1、图9和图12所示的本发明显示面板一示例实施方式的结构示意图，该显示面板具有第一区以及第二区，该显示面板可以包括衬底基板1、发光层、透明抑制图案10以及第一电极9；发光层设于衬底基板1的一侧，发光层包括多个发光图案，多个发光图案在4衬底基板1上的正投影互不交叠；多个透明抑制图案10设于衬底基板1的一侧，并位于至少部分相邻的发光图案之间，且透明抑制图案10位于第一区，多个透明抑制图案10之间间隔设置；第一电极9设于发光层的远离衬底基板1的一侧，第一电极9上设置有多个通孔901，通孔901在衬底基板1上的正投影与透明抑制图案10在衬底基板1上的正投影重合。

第一区可以用于屏下摄像显示，还可以用于指纹识别、红外摄像等功能，下面以第一区为用于屏下摄像显示的屏下摄像显示区141，第二区为正常显示区142为例进行说明。

本发明的显示面板及其制备方法，在屏下摄像显示区141，在衬底基板1的一侧还设置有多个透明抑制图案10，透明抑制图案10位于至少部分相邻的发光图案之间，多个透明抑制图案10之间间隔设置；在发光层的远离衬底基板1的一侧设置有第一电极9，第一电极9上设置有多个通孔901，通孔901在衬底基板1上的正投影与透明抑制图案10在衬底基板1上的正投影重合，即在透明抑制图案10之上没有设置第一电极9，从而避免第一电极9对光线的遮挡，提高屏下摄像显示区141的透光率，从而可以在保证透光率的前提下提高屏下摄像显示区141的像素密度，使屏下摄像显示区141的像素密度小于或等于正常显示区142的像素密度，不会造成显示差异，可以满足较高分辨率的显示要求；而且多个透明抑制图案10之间间隔设置，使第一电极9还是连接成一体，不会影响屏下摄像显示区141的正常显示。

在本示例实施方式中，衬底基板1可以是玻璃基板，当然，也可以是柔性基板。衬底基板1具有屏下摄像显示区141以及围绕屏下摄像显示区141的正常显示区142。在屏下摄像显示区141，在衬底基板1的一侧可以设置摄像头。

在衬底基板1的相对另一侧设置有有机膜层2，即在衬底基板1设置摄像头的相对另一侧设置有机膜层2，有机膜层2的材质可以是聚酰亚胺树脂。在有机膜层2的远离衬底基板1的一侧设置有阻挡层3。在阻挡层3的远离衬底基板1的一侧设置有阵列基板4，阵列基板4可以包括多个阵列排布的薄膜晶体管，薄膜晶体管作为开关组件用于控制各个子像素的开关，即控制各个子像素是否进行显示。薄膜晶体管可以包括绝缘层41、金属走线42、栅极、栅绝缘层(由于剖切位置的缘故在图中未示出)、层间介电层43以及源漏极44，薄膜晶体管可以为顶栅型、底栅型或双栅型，薄膜晶体管的具体结构都是成熟技术，因此，在此不再赘述。

参照图9所示，在本示例实施方式中，在屏下摄像显示区141，在阵列基板4的远离衬底基板1的一侧设置有平坦化层5，在平坦化层5上设置有第一过孔51和第二过孔52；在平坦化层5的远离衬底基板1的一侧设置有第二电极7，第二电极7的面积较小只设置在像素区，第二电极7可以为阳极7，第二电极7通过第二过孔52与薄膜晶体管连接。

在正常显示区142，在阵列基板4的远离衬底基板1的一侧设置有平坦化层5，在平坦化层5上设置有第二过孔52；在平坦化层5的远离衬底基板1的一侧设置有第二电极7，第二电极7可以为阳极7，第二电极7通过第二过孔52与薄膜晶体管连接。

参照图9所示，在屏下摄像显示区141，在平坦化层5和第二电极7的远离衬底基板1的一侧设置有像素定义层6，在像素定义层6上设置有第三过孔61和第四过孔62。第三过孔61与第一过孔51连通，即第三过孔61在衬底基板1上的正投影与第一过孔51在衬底基板1上的正投影重合；在第三过孔61和第一过孔51位置没有设置薄膜晶体管和各种走线，即第三过孔61在衬底基板1上的正投影与薄膜晶体管和各种走线在衬底基板1上的正投影互不交叠，避免薄膜晶体管和各种走线影响透光率。第四过孔62连通至第二电极7，使第二电极7裸露。

在正常显示区142，在平坦化层5和第二电极7的远离衬底基板1的一侧设置有像素定义层6，在像素定义层6上设置有第四过孔62。第四过孔62连通至第二电极7，使第二电极7裸露。在正常显示区142不用考虑薄膜晶体管和各种走线的布局，因为，在正常显示区142不用考虑整个显示面板的透光率。

参照图1所示，在屏下摄像显示区141，在第二电极7的远离衬底基板1的一侧设置有发光图案8，发光图案8形成在第四过孔62内，各个发光图案8在衬底基板1上的正投影互不交叠，即多个发光图案8之间是间隔设置，或相邻两个发光图案8之间是共边设置或相切设置的。一个发光图案8与控制该发光图案8的开关组件形成一个子像素。多个发光图案8组成发光层。

请继续参照图1所示，在屏下摄像显示区141，在第三过孔61和第一过孔51设置有透明抑制图案10，多个透明抑制图案10之间间隔设置；透明抑制图案10的材料是强极性无机材料或强极性有机材料，例如，Liq(8-羟基喹啉-锂)、Alq3(8-羟基喹啉铝)、LiF(氟化锂)，该材料对金属镁具有很强的排斥作用。使后续在透明抑制图案10之上不会生成第一电极9。

在正常显示区142，则没有设置透明抑制图案10。

下面对子像素的排列方式进行详细说明。

下述示例实施方式中，第一发光图案是红色发光图案81，第二发光图案是蓝色发光图案82，第三发光图案是绿色发光图案83。发光图案就是发光材料的覆盖区84，实际发光区85的面积比发光材料的覆盖区84的面积要小。在下述示例实施方式中，将发光图案设置为圆形的。发射蓝光的蓝色发光图案82在红色发光图案81、蓝色发光图案82和绿色发光图案83中寿命最短。因此，蓝色发光图案82比红色发光图案81和绿色发光图案83的发光面积更大，从而避免了OLED显示器寿命的降低，也就是说，OLED显示器的优化的像素排列结构可以提供更长的寿命。发光图案还可以设置为椭圆形、矩形、多边形等等多种形状。

参照图2和图3所示，在该示例实施方式中，显示面板包括阵列排布的像素单元，像素单元包括一个红色发光图案81、一个蓝色发光图案82和两个绿色发光图案83共四个发光图案，该四个发光图案都可以设置为圆形，且该四个发光图案相邻的两个相互外切设置。像素单元的外围切线形成矩形，使四个发光图案分别位于矩形的四个角部，其中两个绿色发光图案83是相对设置的，即两个绿色发光图案83设置在矩形的相对的两个角部；一个红色发光图案81和一个蓝色发光图案82是相对设置的。由于蓝色发光图案82的面积最大，红色发光图案81的面积次之，而红色发光图案81和蓝色发光图案82是相对设置的，因此，像素单元的外围切线就是红色发光图案81的两条切线和蓝色发光图案82的两条切线，四条切线相交后形成矩形。在第一方向上，相邻两个矩形的角部相对设置，即相邻两个矩形的对角线在一条直线上，多个矩形按照上述规律阵列形成多行，相邻两行是错位设置的，即相邻两行中其中一行的矩形，位于另外一行的相邻两个矩形之间的边线的夹角内。

五个像素单元的矩形的虚拟中心又分别排列在虚拟大矩形的四角和中心处，其中虚拟大矩形为正方形，虚拟大矩形的边长为两个像素间距(pixel pitch)的大小。

在本示例实施方式中，为了避免设计上的不统一和制备工艺中各个辅助治具以及工艺流程上的不统一，屏下摄像显示区141的像素排布规律和正常显示区142的像素排布规律是相同的，因此，此处对正常显示区142的像素排布规律不再赘述。当然，在本发明的其他示例实施方式中，屏下摄像显示区141的像素排布规律和正常显示区142的像素排布规律也可以是不相同的，只要像素密度保持相同即可。

请继续参照图2和图3所示，在屏下摄像显示区141，相邻至少两个像素单元之间设置有一个透明抑制图案10。由于像素单元内空间较小无法容纳透明抑制图案10，因此将透明抑制图案10设置在相邻至少两个像素单元之间。

具体地，透明抑制图案10可以包括中间区域以及连接于中间区域的四个边缘区域，中间区域可以为圆形，边缘区域可以为长条形，且在中间区域与边缘区域的连接处设置圆倒角，使中间区域与边缘区域圆滑过渡；在长条形的远离中间区域的一端也设置圆倒角。中间区域位于相邻的四个像素单元之间，一个边缘区域位于相邻的两个像素单元之间。当然，在边缘处，透明抑制图案10可以设置在相邻两个或三个像素单元之间；中间区域还可以为正方形、多边形等等，边缘区域可以为椭圆形、矩形等等。

在图2和图3所示的示例实施方式中，屏下摄像显示区141的透光率可以达到38％。

参照图4和图5所示，在该示例实施方式中，在第一方向上，第一发光图案和第二发光图案交替排列形成第一行，第三发光图案排列形成第二行；在第二方向上，第一行和第二行交替排列；即多个红色发光图案81与多个蓝色发光图案82在第一方向上交替排列形成多个第一行，即相邻的两个红色发光图案81之间设置有一个蓝色发光图案82，相邻的两个蓝色发光图案82之间设置有一个红色发光图案81，且相邻的红色发光图案81与蓝色发光图案82之间设置有第一间隙；多个绿色发光图案83在第一方向上间隔排列形成多个第二行，即相邻的两个绿色发光图案83之间设置有第二间隙；第二行位于相邻的两个第一行之间。

分布在相邻两行两列的两个第一发光图案和两个第二发光图案形成一个虚拟四边形，第三发光图案位于虚拟四边形中。具体为：相邻两个第一行的相邻红色发光图案81和蓝色发光图案82形成一个虚拟四边形，绿色发光图案83设于所述虚拟四边形的中心。绿色发光图案83的中心线与蓝色发光图案82和绿色发光图案83的连线的中心线共线，使多个红色发光图案81与多个蓝色发光图案82在第二方向上仍然交替排列形成多个第一列，多个绿色发光图案83在第二方向上仍然间隔排列形成多个第二列，第二列位于相邻的两个第一列之间。第二方向与第一方向大致相互垂直。

五个发光图案位于虚拟小正方形的四角和中心处，四个虚拟小正方形形成一个虚拟大正方形，虚拟大正方形的边长为两个像素间距(pixel pitch)的大小。每个虚拟大正方形中包含八个完整的发光图案。

在本示例实施方式中，为了避免设计上的不统一和制备工艺中各个辅助治具以及工艺流程上的不统一，屏下摄像显示区141的像素排布规律和正常显示区142的像素排布规律是相同的，因此，此处对正常显示区142的像素排布规律不再赘述。当然，在本发明的其他示例实施方式中，屏下摄像显示区141的像素排布规律和正常显示区142的像素排布规律也可以是不相同的，只要像素密度保持相同即可。

请继续参照图4和图5所示，在屏下摄像显示区141，相邻的红色发光图案81与蓝色发光图案82之间设置有一个透明抑制图案10，即在第一间隙内设置有透明抑制图案10，该透明抑制图案10为第一透明抑制图案；相邻两个绿色发光图案83之间设置有一个透明抑制图案10，即在第二间隙内设置有透明抑制图案10，该透明抑制图案10为第二透明抑制图案。两个位置设置的透明抑制图案10可以均是椭圆形。只是第一透明抑制图案的长轴沿第二方向设置，而第二透明抑制图案的长轴沿第一方向设置。另外，透明抑制图案10的结构不限于上述说明，例如，透明抑制图案10还可以设置为多边形、圆形、矩形、腰圆形等等多种形状。

在图4和图5所示的示例实施方式中，屏下摄像显示区141的透光率可以达到38.9％。

参照图6和图7所示，在该示例实施方式中，显示面板包括阵列排布的像素单元，像素单元包括一个红色发光图案81、一个蓝色发光图案82和两个绿色发光图案83。其中，两个绿色发光图案83在第二方向上排列，且两个绿色发光图案83相切设置；一个红色发光图案81和一个蓝色发光图案82在第一方向上排列，且该红色发光图案81和该蓝色发光图案82相切设置。红色发光图案81和蓝色发光图案82位于两个绿色发光图案83的中心点的连线的中心线上，即红色发光图案81和蓝色发光图案82的中心线与两个绿色发光图案83的中心点的连线的中心线共线，使一个红色发光图案81、一个蓝色发光图案82和两个绿色发光图案83形成“T”字形。红色发光图案81相对于蓝色发光图案82更靠近绿色发光图案83，红色发光图案81与绿色发光图案83之间可以设置有间隙。第二方向与第一方向大致相互垂直。

多个像素单元在第一方向上排列形成一行，多行在第二方向上排列，且相邻两行内的像素单元错位排列，使其中一行中的两个绿色发光图案83的中心线与相邻另一行中的红色发光图案81的中心点和蓝色发光图案82的中心点的连线的中心线大致共线。

需要说明的是，像素单元的排列方式不限于上述说明，例如，可以是蓝色发光图案82相对于红色发光图案81更靠近绿色发光图案83，蓝色发光图案82与绿色发光图案83之间设置有间隙；还可以是，蓝色发光图案82与绿色发光图案83之间没有设置间隙，或红色发光图案81与绿色发光图案83之间没有设置间隙。

小虚拟正方形的边长为四个像素间距(pixel pitch)的大小。每个虚拟小正方形中包含八个完整的发光图案。四个小虚拟正方形形成一个大虚拟正方形。

在本示例实施方式中，为了避免设计上的不统一和制备工艺中各个辅助治具以及工艺流程上的不统一，屏下摄像显示区141的像素排布规律和正常显示区142的像素排布规律是相同的，因此，此处对正常显示区142的像素排布规律不再赘述。当然，在本发明的其他示例实施方式中，屏下摄像显示区141的像素排布规律和正常显示区142的像素排布规律也可以是不相同的，只要像素密度保持相同即可。

请继续参照图6和图7所示，在屏下摄像显示区141，在相邻两行的相邻红色发光图案81、蓝色发光图案82和两个绿色发光图案83之间设置有透明抑制图案10。透明抑制图案10可以是椭圆形，透明抑制图案10的长轴两端与两个绿色发光图案83相切，透明抑制图案10的短轴两端与红色发光图案81和蓝色发光图案82相切。另外，透明抑制图案10的结构不限于上述说明，例如，透明抑制图案10还可以设置为多边形、圆形、矩形、腰圆形等等多种形状。

在图6和图7所示的示例实施方式中，屏下摄像显示区141的透光率可以达到36％。

上面通过三个示例实施方式对像素的排列方式进行了详细说明，本领域技术人员可以理解的是，像素的排列方式不限于上述说明，只要在保证像素密度的情况下，能够设置更大面积的透明抑制图案10的像素的排列方式都是可行的，都属于本发明的保护范围。

请继续参照图1所示，在屏下摄像显示区141，在发光层的远离衬底基板1的一侧设置有第一电极9，第一电极9可以为阴极9，第一电极9的材料是导电金属，具体为金属改性镁。第一电极9上设置有多个通孔901，通孔901的数量与透明抑制图案10的数量相同，通孔901在衬底基板1上的正投影与透明抑制图案10在衬底基板1上的正投影重合，即在透明抑制图案10的远离衬底基板1的一侧没有设置第一电极9而是形成了通孔901，以增加屏下摄像显示区141的透光率。

该显示面板可以是顶发射型显示面板，也可以是底发射型显示面板。

另外，在本发明的其他示例实施方式中，可以在平坦化层上不设置第一过孔51，在像素定义层上不设置第三过孔61，直接将透明抑制图案设置在像素定义层之上；还可以在绝缘层上设置第五过孔，第五过孔与第一过孔51、第三过孔61是连通的，透明抑制图案形成在第五过孔、第一过孔51和第三过孔61内；或仅在像素定义层上设置第三过孔61，在平坦化层上不设置第一过孔51，透明抑制图案形成第三过孔61内。

进一步的，本示例实施方式还提供了一种显示装置，该显示装置可以包括上述任意一项所述的显示面板。显示面板的具体结构上述已经进行了详细说明，因此，此处不再赘述。

而该显示装置的具体类型不受特别的限制，本领域常用的显示装置类型均可，具体例如手机等移动装置、手表等可穿戴设备、VR装置等等，本领域技术人员可根据该显示设备的具体用途进行相应地选择，在此不再赘述。

需要说明的是，该显示装置除了显示面板以外，还包括其他必要的部件和组成，以显示器为例，具体例如外壳、电路板、电源线，等等，本领域技术人员可根据该显示装置的具体使用要求进行相应地补充，在此不再赘述。

与现有技术相比，本发明示例实施方式提供的显示装置的有益效果与上述示例实施方式提供的显示面板的有益效果相同，在此不做赘述。

进一步的，本示例实施方式还提供了一种显示面板的制备方法，参照图8所示的本发明显示面板的制备方法的流程示意框图，该制备方法可以包括以下步骤：

步骤S10，提供一衬底基板1，所述衬底基板1具有第一区以及第二区。

步骤S20，在所述衬底基板1的一侧形成发光层，所述发光层包括多个发光图案，所述多个发光图案在所述衬底基板1上的正投影互不交叠。

步骤S30，在所述第一区，且在所述衬底基板1的一侧形成多个透明抑制图案10，所述透明抑制图案10位于至少部分相邻的所述发光图案之间，多个所述透明抑制图案10之间间隔设置。

步骤S40，在所述发光层的远离所述衬底基板1的一侧形成第一电极9，并在所述第一电极9上形成多个通孔901，所述通孔901在所述衬底基板1上的正投影与所述透明抑制图案10在所述衬底基板1上的正投影重合。

下面对显示面板的制备方法进行详细说明。

参照图9所示。

提供一衬底基板1，衬底基板1具有屏下摄像显示区141以及围绕屏下摄像显示区141的正常显示区142。

在衬底基板1的一侧形成有机膜层2，该有机膜层2为柔性膜层以作为阵列基板的衬底(后续工艺中可以将衬底基板1剥离以留下有机膜层2层作为柔性衬底)。在有机膜层2的远离衬底基板1的一侧形成阻挡层3，该阻挡层3用于阻隔有机膜层2中的水汽以及杂质离子(如过量的H+等)对后续形成的半导体图案(多晶硅有源层)的影响；还可以在阻挡层3的远离衬底基板1的一侧形成缓冲层(图中未示出)，缓冲层起到进一步阻隔有机膜层2中的水汽以及杂质离子的作用，并且起到为后续形成的半导体图案增加氢离子的作用。

在阻挡层3的远离衬底基板1的一侧形成阵列基板4；阵列基板4的制备方法采用现有技术中的方法，在此不再赘述。

在阵列基板的远离衬底基板1的一侧通过蒸镀、沉积、溅射等工艺形成平坦化层5；并对平坦化层5进行刻蚀形成第一过孔51和第二过孔52，第一过孔51仅形成在屏下摄像显示区141，第二过孔52在整个显示面板上都有。

在平坦化层5的远离衬底基板1的一侧通过蒸镀、沉积、溅射等工艺形成阳极材料层，并对阳极材料层进行刻蚀形成阳极7(第二电极7)。

在阳极7和平坦化层5的远离衬底基板1的一侧通过蒸镀、沉积、溅射等工艺形成像素定义层6，并对像素定义层6进行刻蚀形成第三过孔61和第四过孔62，第三过孔61与所述第一过孔51连通，第四过孔62连通至阳极7(第二电极7)。

参照图1所示，然后，通过RGB精细金属掩膜板蒸镀有机发光材料形成多个发光图案8。

再使用图10所示的具有开口13的精细金属掩膜板12对屏下摄像显示区141的非发光区进行蒸镀，开口13的形状、位置与透明抑制图案10的形状、位置一致，蒸镀材料为强极性无机材料或强极性有机材料，上述已经进行了详细说明，在此不再赘述。

最后，使用开放式掩膜板蒸镀阴极材料，阴极材料是金属改性镁。参照图11所示，由于强极性无机材料或强极性有机材料能有效抑制金属改性镁的成膜，透明抑制图案10形成的地方金属镁不会成膜而是形成通孔901，保证了屏下摄像显示区141的透光性；在透明抑制图案10未成膜的地方金属镁可以完全成膜形成阴极9，实现发光区域的阴极9蒸镀，保证显示面板正常工作。

参照图12所示，在阴极9的远离衬底基板1的一侧形成封装层11。从图中可以得到在屏下摄像显示区141的透明抑制图案10之上没有形成阴极9，提高了屏下摄像显示区141的透光率。

上述所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中，如有可能，各实施例中所讨论的特征是可互换的。在上面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本发明的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本发明的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组件、材料等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本发明的各方面。

本说明书中使用“约”“大约”的用语通常表示在一给定值或范围的20％之内，较佳是10％之内，且更佳是5％之内。在此给定的数量为大约的数量，意即在没有特定说明的情况下，仍可隐含“约”“大约”“大致”“大概”的含义。

虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语，例如“高”“低”“顶”“底”等也作具有类似含义。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。

本说明书中，用语“一个”、“一”、“该”、“所述”和“至少一个”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包含”、“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”和“第三”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。

应可理解的是，本发明不将其应用限制到本说明书提出的部件的详细结构和布置方式。本发明能够具有其他实施方式，并且能够以多种方式实现并且执行。前述变形形式和修改形式落在本发明的范围内。应可理解的是，本说明书公开和限定的本发明延伸到文中和/或附图中提到或明显的两个或两个以上单独特征的所有可替代组合。所有这些不同的组合构成本发明的多个可替代方面。本说明书所述的实施方式说明了已知用于实现本发明的最佳方式，并且将使本领域技术人员能够利用本发明。