用来加热以及冷却对象物的工作台

技术领域

本发明涉及一种用来加热以及冷却对象物的工作台。

背景技术

日本特许第5427367号公报记载有一种矩形基座。基座例如是在制造半导体集成电路、平面显示器面板及太阳能电池板时使用作为工作台。基座在制造工序中例如是将基板加热。此时要求迅速且均一地加热基板。又，也期望能冷却基板。因此，考虑使用冷却管或加热管控制工作台的温度。此时，在单纯将管接触工作台的情况下，会有管脱落而温度控制效率下降的问题。并且，在将管插入工作台内部的情况下，加工困难，也会有不能修正的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第5427367号公报

发明内容

发明所欲解决的课题

本发明的目的在于提供一种工作台，其以简易的方法使设置在工作台的管永续地与工作台接触，并且也容易修正。

解决课题的技术方案

上述课题通过具备不仅是加热工作台的搭载表面的加热部且还具备冷却部的工作台而可解决。又，上述课题通过在容纳加热部或冷却部的槽的间隙填充热传导介质而可解决。

第一型态的发明是关于一种工作台1，其设置在腔室内，且用于加热及冷却对象物。

此工作台1具有：

工作台本体5，其具有搭载对象物的搭载表面；

第一管状部7，其用于使第一流体流通，所述第一流体是用于调整搭载表面的温度；以及

第一管支撑部9，其用于支撑第一管状部7。

然后，工作台本体5具有：

第一槽部11，其用于容纳第一管状部7；以及

缺口对13a、13b，其隔着第一槽部11而对向。

然后，第一管支撑部9具有：

连结部15，其连结缺口对13a、13b。

此工作台的优选例为，在第一管状部7与第一槽部11的间隙具有热传导介质。热传导介质的优选例为银、润滑脂、金属纤维或气体。

此工作台的优选例为如权利要求1所记载的工作台，

第一流体是用于提高搭载表面的温度的流体；

所述工作台进一步具有：第二管状部21，其用于使第二流体流通，所述第二流体是用于降低搭载表面的温度；

第二槽部23，其用于容纳第二管状部21；以及

第二管支撑部25，其用于支撑第二管状部23。

第二型态的发明是关于一种真空装置，其具有上述工作台作为基座的。

此真空装置例如是使用于制造半导体集成电路、平面显示器面板或太阳能电池板。

第三型态的发明是关于一种使用上述真空装置的制造半导体集成电路、平面显示器面板或太阳能电池板的方法。

发明效果

本发明具有：容纳管状部的槽部、隔着槽部而对向的缺口对以及具有连结缺口对的连结部的管支撑部，因此可提供一种工作台，其以简易的方法使设置在工作台的管永续地与工作台接触，并且也容易修正。

附图说明

[图1]图1为表示工作台的设置的状况的概念图；

[图2]图2为工作台的概略图；

[图3]图3为工作台的局部剖面图；

[图4]图4为用于说明连结部的概念图；

[图5]图5为用于说明制造途中的工作台的参考图；

[图6]图6为表示热传导介质的使用例的概念图；

[图7]图7为取代表示已形成槽及缺口的工作台的背面的附图的照片；

[图8]图8为取代表示已熔接管支撑部的模样的附图的照片。

具体实施方式

以下使用附图说明用于实施本发明的实施方式。本发明并不限定于以下说明的方式，亦包含所属技术领域技术人员由以下的方式在显而易见的范围内进行适当修正者。

图1为表示工作台的设置的状况的概念图。工作台1一般设置在制程腔室2的内部并进行基板3的温度管理。制程腔室2与外部空气隔绝，并保持在期望的真空度。制程腔室2亦可以制程气体4填满而保持压力。根据相异类型的制程腔室，例如物理气相沉积(PVD)腔室或溅镀腔室、离子金属注入(IMP)腔室、化学气相沉积(CVD)腔室、原子层沉积(ALD)腔室、电浆蚀刻腔室、退火腔室、其他腔室，制程气体4的压力会不同。

图2为工作台的概略图。图3为工作台的局部剖面图。工作台是设置于腔室内，且是用于加热及冷却对象物的搭载台。腔室的例子为真空腔室。对象物的例子为半导体集成电路、平面显示器面板及太阳能电池板，或是制造这些对象物的途中的基板。

如图1～图3所示，工作台1具有工作台本体5、第一管状部7以及第一管支撑部9。工作台本体5具有：第一槽部11以及缺口对13a、13b。然后，第一管支撑部9具有连结部15。并且，工作台1的优选例为进一步具有：第二管状部21、第二槽部23以及第二管支撑部25。在图1～图3的例子中，管状部通过工作台支撑部6的内部而与腔室2的外部连通。因此可使流体从外部流入至管状部。

工作台本体5

工作台本体5意指具有搭载对象物的搭载表面的部位。

第一管状部7

第一管状部7是用于使第一流体流通的管，所述第一流体是用于调整搭载表面的温度。管状部优选为具有在工作台1被加热时不会溶解的材质者。通过在此管使温度调节用的液体适当地流通，而可调整工作台1的温度。第一管状部7例如可以是由使冷却工作台1用的液体流通的圆柱形的管所组成的部位。第一管状部7的管的形状例如可以是以半径5mm的圆作为底面的筒状者。上述半径可为3mm以上9mm以下，也可为4mm以上8mm以下。管的大小或长度只要配合工作台1的尺寸适当调整即可。第一管状部7的半径可皆为相等，也可随着从上游往下游前进而变大。第一管状部7的管的剖面形状可为圆形、可为椭圆形，也可为矩形(四角形、五角形、六角形或八角形)。第一流体可为用于提高搭载表面的温度的流体，也可为用于降低温度的流体。也可对一根管注入目的不同的流体。

第一管支撑部9

第一管支撑部9是用于支撑第一管状部7的要素。

第一槽部11

第一槽部11是设置在工作台本体5且用于容纳第一管状部7的要素。第一槽部11可设置在工作台本体5的搭载表面侧，也可设置在背面(与搭载表面相反的面)侧。槽部11为高度低于周围的部位。

缺口对13a、13b

缺口对13a、13b是设置在隔着第一槽部11而对向的位置的凹陷。缺口对13a、13b也可说是隔着管状部11而对向，且设置在管状部11的两侧的插入用的孔。于此凹陷插入后述的第一管支撑部9的连结部15。如此，通过连结部15而固定第一管支撑部9。伴随于此，第一管状部7被固定在第一槽部11内。缺口对13a、13b的孔例如可以是在管状部的管延伸的方向细长延伸30mm左右的孔。缺口对13a、13b的孔可为深度是20mm以上30mm，也可为21mm以上35mm以下。缺口对13a、13b优选为在工作台的背面设置多个。缺口对13a、13b的数目例如可以是相对于一个工作台为三个，也可为四个，也可为五个。设置在工作台1的缺口对13a、13b的数目愈多，则可安装愈多的连结部15，因此可更稳定地固定管状部11。

从隔着槽部9而对向的某一组的缺口对13a、13b的一个孔起至位于管状部11的管延伸的方向的邻近的缺口对13a、13b的一个孔为止的间隔，例如可以是70mm以上100mm以下，也可为70mm以上110mm以下，也可为80mm以上100mm以下，也可为80mm以上110mm以下。一组缺口对13a、13b的夹着槽部9而对向的孔的间隔，例如可以是10mm以上15mm以下，也可为12mm以上15mm以下，也可为15mm以上20mm以下。

图4为用于说明连结部的概念图。连结部15可以覆盖管状部7及槽部11的方式安装于工作台1的缺口对13a、13b。连结部15的形状例如可以是对于四角柱的形状，将其任一个底面的中央部分进行成为凹陷形状的加工者。并且，上述中央部分的高度低于周围的底面，而可在其凹陷部分的两侧形成壁部，且所述壁部形成为突起状。所述突起(壁部)的高度形成与缺口对13a、13b的孔的深度相应的高度，例如可以是10mm以上13mm以下，也可为13mm以上16mm以下。

上述的壁部中，朝向该底面的中央区域的面不一定要相对于上述底面为垂直，所述壁部的上述部分也可从该四角柱的底面的中央区域往该底面的对边的方向打开的方向延伸。例如，上述一侧的突起(壁部)与对向的突起(壁部)之间的角度可为30度以上40度以下，也可为40度以上50度以下，也可为50度以上60度以下。

图5为用于说明制造途中的工作台的参考图。

此工作台的优选例为，在第一管状部7与第一槽部11的间隙具有热传导介质。热传导介质的优选例为银、润滑脂、金属纤维或气体。

图6为表示热传导介质的使用例的概念图。微观来看，在第一管状部7与第一槽部11之间的间隙会存在微小的间隙。因此使用热传导介质是有效的。热传导介质可考虑固体如碳纤维等、润滑脂状者、液体如银、气体如氢气、氦气。在是润滑脂状者、液体、气体的情况下，为了防止流出可进行密封。

热传导介质是润滑脂状者、液体、气体等流体的情况下，热传导介质优选为被填充至间隙，并进行密闭以使其不泄漏。为了简单起见，将密封板31安装于工作台支撑部6的端部，而以密封部33完全地密封第一管状部11及第二管状部21。通过将热传导介质密封以与大气隔绝并防止流出。热传导介质是气体的情况下，通过将气体压入间隙，而可使热传导效率飞跃性地提升。

此工作台的优选例为，

第一流体是用于提高搭载表面的温度的流体；

所述工作台进一步具有：第二管状部21，其用于使第一流体流通，所述第一流体是用于降低搭载表面的温度；

第二槽部23，其用于容纳第二管状部21；以及

第二管支撑部25，其用于支撑第二管状部23。

此情况下，第一管状部发挥作为加热部的功能。并且，第二管状部发挥作为冷却部的功能。

本发明的第二型态是关于一种真空装置，其具有将上述任一工作台作为基座。此真空装置例如是使用于制造半导体集成电路、平面显示器面板或太阳能电池板的真空装置。真空装置一般具有腔室及用于使腔室成为真空的真空泵。并且，真空装置可具有用于将各种试料导入至腔室内的导入部。并且，真空装置可适当具有用于进行各种测量的传感器或测量设备。腔室的例子是用于制造目标物的制程腔室。平面显示器面板的例子是有机EL显示器、电浆显示器及液晶显示器。

本发明的第三型态是关于一种使用上述真空装置的制造半导体集成电路、平面显示器面板或太阳能电池板的方法。半导体集成电路的制造方法为已知，例如日本特许3956697号公报、日本特许3519589号公报及日本特许3064993号公报所记载。平面显示器面板的制造方法为已知，例如日本特许5173757号公报、日本特许5169757号公报及日本特许4604752号公报所记载。太阳能电池板的制造方法为已知，例如日本特许6555964号公报、日本特许6498053号公报及日本特许5386044号公报所记载。

工作台例如可用以下方式制造。于厚度30～100mm的铝板、其一边的长度为1500～4000毫米的矩形(例如正方形)的板进行机械加工出槽(流路)。并且，在槽的两侧适当形成缺口对。工作台本体的材质不限定于铝，只要是金属即可。在以此方式得到的槽(流路)插入外型

实施例

用以下方式制造基座。

于材质A6061的铝板加工出流路，并于其中通过加热器或使热传导介质流通，来进行温度控制。工作台(基座)原本是使用于真空装置内，但于此处为了测量温度变化而在大气中测量温度变化。

图7为取代表示已形成槽及缺口的工作台的背面的附图的照片。图8为取代表示已熔接管支撑部的模样的附图的照片。