一种免刮治污除垢沉淀池处理方法

技术领域

本发明涉及污水处理技术领域，特别涉及一种免刮治污除垢沉淀池处理方法。

背景技术

超磁分离水体净化系统工艺流程为：(1)在絮凝反应器内加入磁种、混凝剂、助凝剂与水中污染物质产生微磁絮凝作用，将污染物质与磁种凝聚成磁性污物絮凝团；(2)通过超磁分离设备产生的高强磁场，在强磁场力的作用下，使磁性污物絮凝团克服流体的阻力和自身的重力，产生快速的定向运动，吸附在超磁分离设备的磁盘表面，实现磁性污物絮凝团与水体的分离，从而达到净化水质的目的；(3)通过磁种回收设备实现对分离的磁性污物絮凝团内的磁种进行回收。

超磁分离设备的作用为通过磁场主动快速的对磁性污物絮凝团进行分离的方法为磁盘分离法，但是因超磁分离设备的磁盘价格昂贵，也有一些系统采用加载沉淀法来代替磁盘分离法，加载沉淀法的本质是通过重力作用使得磁性污物絮凝团沉淀(虽然成本较低，但是处理时间相对较长)，所需用到的主要设备为沉淀池。

在采用加载沉淀法时，在沉淀池底部沉淀的磁性污物絮凝团可通过污泥泵进行抽离，但是存在一些磁性污物絮凝团没有被抽走而残留在沉淀池内的情况，因此在沉淀池长期使用后会导致磁性污物絮凝团附着在沉淀池内形成污垢的问题。在处理这类污垢时，通常采用人工刮除污垢的方式，但是人工刮除污垢的方式存在费时费力的缺点。

发明内容

本发明的目的是提供一种免刮治污除垢沉淀池处理方法，具有方便对沉淀池进行治污除垢的作用。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种免刮治污除垢沉淀池处理方法，包括如下步骤：

步骤S1：在沉淀池周围设置摆放净水箱，利用高压喷水装置将净水箱内的水高压喷射到沉淀池的池底、池壁进行冲洗；

步骤S2：在净水箱边上设置回水箱，通过泵送组件将沉淀池内的冲洗废水输送到回水箱的底部，在回水箱的中下部设置具有磁性吸附功能的污水处理器，以实现磁性吸附冲洗废水中的磁性污物絮凝团类污垢；

步骤S3：在回水箱的顶部设置与净水箱连通的溢流回水管，将经过污水处理器处理后的水重新输送到净水箱内，以供高压喷水装置使用；

所述高压喷水装置包括设置在沉淀池顶部的环形轨道、滑动设置在环形轨道上的移动平台、设置在移动平台上且位于污水池外侧的推手、设置在移动平台且向下延伸的支杆、设置在支杆上且沿着竖直方向延伸的第一喷淋管、多个设置在第一喷淋管上且实现对沉淀池的内壁进行高压冲洗的第一喷头、与净水箱连通的第一水泵、连接在第一水泵和第一喷淋管之间的软管、设置在支杆下端且沿着水平方向延伸的第二喷淋管、多个设置在第二喷淋管上且在第二喷淋管转动到水平状态时对沉淀池的池底进行高压冲洗的第二喷头、设置在第一喷淋管和第二喷淋管之间且实现控制两者是否连通的连通机构，所述第二喷淋管的长度不小于沉淀池宽度的二分之一；

所述污水处理器包括转动连接在回水箱内的转轴、设置在转轴中部的叶轮、设置在转轴两端的环形磁吸组件、设置在回水箱中部且具有位于叶轮上方的出水通道的隔板套、设置在隔板套的出水通道顶部的滤芯，所述回水箱底部延伸至叶轮处且用于被连接泵送组件的进水管，从所述进水管流入的污水带动所述叶轮旋转。

通过采用上述技术方案，在对沉淀池内的污垢进行处包括如下步骤：(1)先在沉淀池周围设置摆放净水箱，利用高压喷水装置将净水箱内的水高压喷射到沉淀池的池底、池壁进行冲洗，具体操作方式为：使得移动平台安装在环形轨道上，第一喷淋管上的多个第一喷淋头对准沉淀池的侧壁、第二喷淋管上的多个第二喷淋头对准沉淀池的池底，工作人员通过推手使得移动平台移动，然后实现对沉淀池进行高压冲洗；(2)在净水箱边上设置回水箱，通过泵送组件将沉淀池内的冲洗废水输送到回水箱的底部，在回水箱的中下部设置具有磁性吸附功能的污水处理器，以实现磁性吸附冲洗废水中的磁性污物絮凝团类污垢，具体操作方式为：进入到回水箱内的水带动叶轮转动，叶轮带动搅动回水箱底部的水以及带动环形磁吸组件旋转，从而使得磁性污物絮凝团类污垢被吸附在环形磁吸组件上，另外向上满溢的水通过滤芯进行过滤；(3)在回水箱的顶部设置与净水箱连通的溢流回水管，将经过污水处理器处理后的水重新输送到净水箱内，以供高压喷水装置使用。

本发明的进一步设置为：所述第二喷淋管下端转动连接在支杆下端，所述移动平台上设置有在第二喷淋管向上转动到竖直状态时对第二喷淋管进行固定的扣合件，所述连通机构包括设置在第一喷淋管下端且呈“U”型的连接管、设置连接管远离第一喷淋管一端的单向阀、设置在第二喷淋管一端且在向下转动过程中插接设置在连接管上并顶开单向阀的插接管，所述连接管远离第一喷淋管的管口内设置有在插接管插入过程中形变在插接完全后实现密封的橡胶密封套；当所述插接管插接到连接管内时，所述第二喷淋管沿着水平方向延伸，所述连接管(3111)远离第一喷淋管(35)的一端绕着第二喷淋管(38)的转动轴线呈弧形设置，所述插接管(3113)沿着第二喷淋管(38)的转动轴线呈弧形设置，所述插接管(3113)内设置有顶开单向阀(3113)的顶杆，所述连接管(3111)底部设置有第三喷头(3116)。

通过采用上述技术方案，第二喷淋管在转动到竖直状态并通过扣合组件扣合时，可以减小整个高压喷水装置的体积，在第二喷淋管收纳后方便进行搬运和储存；同时在第二喷淋管向下转动的过程中，第二喷淋管上的插接管插接设置在连接管上并顶开单向阀，从而实现第一喷淋管和第二喷淋管的连通，同时第二喷淋管也可以不使用，此时单向阀会对连接管进行密封。

本发明的进一步设置为：所述移动平台上设置有供向上转动到竖直状态的第二喷淋管嵌入且呈“U”型的槽口，所述扣合件为设置在槽口的开口两侧的橡胶限位凸块，当所述第二喷淋管朝向槽口内转动时，所述第二喷淋管驱使橡胶限位凸块形变后嵌入在槽口内，所述软管穿过槽口且在初始状态时呈扁平状，在所述高压喷水装置的软管通水时，所述软管膨胀后驱使第二喷淋管克服橡胶限位凸块的弹力后脱离槽口且在重力作用下向下转动，所述第二喷淋管的上端设置有配重块，当所述第二喷淋管在重力作用下向下转动时，所述第二喷淋管上的插接管插接到连接管进行连接且顶开单向阀。

通过采用上述技术方案，在槽口处的橡胶限位凸块可使得第二喷淋管保持竖直状态，同时在需要进行高压喷淋时，在软管通水膨胀过程中，能自动使得第二喷淋管克服橡胶限位凸块的弹力后脱离槽口，在第二喷淋管自身的重力以及配重块的重力作用下，第二喷淋管上的插接管插接到连接管进行连接且顶开单向阀，以方便使得第一喷淋管和第二喷淋管连通。

本发明的进一步设置为：所述支杆上端升降设置在移动平台上，所述支杆和移动平台之间设置有限制支杆升降行程的限位组件，所述支杆底部设置有浮体，在高压冲洗过程中，通过控制沉淀池内的污水的液面高度，以驱使驱使浮体带动支杆向上移动，从而改变多个第一喷头的所在高度。

通过采用上述技术方案，在高压冲洗过程中，通过控制沉淀池内的污水的液面高度，以驱使驱使浮体带动支杆向上移动，从而改变多个第一喷头的所在高度。

本发明的进一步设置为：所述限位组件包括设置在移动平台侧面且具有沿着竖直方向延伸的腰型孔的限位板、设置得支杆上端的螺纹座、穿过限位板的腰型孔后螺纹连接在螺纹座上的限位轴。

通过采用上述技术方案，限位轴穿过限位板的腰型孔后螺纹连接在螺纹座上，从而实习对支杆顶部的升降行程进行限位。

本发明的进一步设置为：所述移动平台上设置有与第二喷淋管转动到水平状态时的方向相通的安装槽，所述移动平台上设置有两个位于安装槽两侧的第一锲型块，所述支杆上端穿过安装槽，所述支杆上端设置有两侧与两个第一锲型块相滑动连接的第二锲型块，所述移动平台和第二锲型块在重力作用下下滑的一端之间设置有调节第二锲型块所在位置的调节组件。

通过采用上述技术方案，通过调节组件对第二锲型块的所在位置进行调节，而第二锲型块滑动连接在两个第一锲型块上，此时支杆的高度和左右位置会出现调节，从而实现调节多个第一喷头的所在高度、调节多个第二喷头相对沉淀池的池底的位置。

本发明的进一步设置为：所述调节组件包括螺纹连接在移动平台上的调节螺杆、设置在调节螺杆的端部且抵紧在第二锲型块在重力作用下下滑的一端的压块。

通过采用上述技术方案，通过转动调节螺杆，使得调节螺杆端部的压块驱使第二锲型块移动，从而实现调节第二锲型块的所在位置。

本发明的进一步设置为：所述环形磁吸组件包括设置在转轴上的环形筒、多个呈圆周阵列分布在环形筒周侧的弧形磁板、两个设置在环形筒上且抵触在多个弧形磁板上的半圆形金属分隔滤套。

通过采用上述技术方案，弧形磁板的磁性可实现对污水中的磁性污物絮凝团类污垢进行磁性吸附，且在处理完成后，通过拆卸两个半圆形金属分隔滤套，使得磁性污物絮凝团类污垢和弧形磁板间隔设置，从而方便清理被弧形磁板吸附的磁性污物絮凝团类污垢。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是实施例1的结构示意图；

图2是实施例1的局部结构示意图；

图3是图2中位于A处的局部放大图；

图4是图2中位于B处的局部放大图；

图5是实施例1中回水箱和污水处理器的结构示意图；

图6是实施例2的局部结构示意图；

图7是图6中位于C处的局部放大图。

图中：1、沉淀池；2、净水箱；3、高压喷水装置；31、环形轨道；32、移动平台；321、槽口；322、安装槽；323、第一锲型块；33、推手；34、支杆；341、第二锲型块；35、第一喷淋管；36、第一喷头；37、第一水泵；38、软管；39、第二喷淋管；310、第二喷头；311、连通机构；3111、连接管；3112、单向阀；3113、插接管；3114、橡胶密封套；3115、顶杆；3116、第三喷头；312、扣合件；313、配重块；314、限位组件；3141、限位板；3142、螺纹座；3143、限位轴；315、浮体；316、调节组件；3161、调节螺杆；3162、压块；4、回水箱；41、进水管；5、泵送组件；6、污水处理器；61、转轴；62、叶轮；63、环形磁吸组件；631、环形筒；632、弧形磁板；633、半圆形金属分隔滤套；64、隔板套；65、滤芯；7、溢流回水管。

具体实施方式

下面将结合具体实施例对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1：一种免刮治污除垢沉淀池处理方法，如图1所示，包括如下步骤：步骤S1：在沉淀池1周围设置摆放净水箱2，利用高压喷水装置3将净水箱2内的水高压喷射到沉淀池1的池底、池壁进行冲洗；步骤S2：在净水箱2边上设置回水箱4，通过泵送组件5将沉淀池1内的冲洗废水输送到回水箱4的底部，在回水箱4的中下部设置具有磁性吸附功能的污水处理器6，以实现磁性吸附冲洗废水中的磁性污物絮凝团类污垢；步骤S3：在回水箱4的顶部设置与净水箱2连通的溢流回水管7，将经过污水处理器6处理后的水重新输送到净水箱2内，以供高压喷水装置3使用。

如图1和图2所示，其中高压喷水装置3包括设置在沉淀池1顶部的环形轨道31、滑动设置在环形轨道31上的移动平台32、设置在移动平台32上且位于污水池外侧的推手33、设置在移动平台32且向下延伸的支杆34、设置在支杆34上且沿着竖直方向延伸的第一喷淋管35、多个设置在第一喷淋管35上且实现对沉淀池1的内壁进行高压冲洗的第一喷头36、与净水箱2连通的第一水泵37、连接在第一水泵37和第一喷淋管35之间的软管38、设置在支杆34下端且沿着水平方向延伸的第二喷淋管39、多个设置在第二喷淋管39上且在第二喷淋管39转动到水平状态时对沉淀池1的池底进行高压冲洗的第二喷头310、设置在第一喷淋管35和第二喷淋管39之间且实现控制两者是否连通的连通机构311，第二喷淋管39的长度不小于沉淀池1宽度的二分之一。

如图2到图3所示，第二喷淋管39下端转动连接在支杆34下端，移动平台32上设置有在第二喷淋管39向上转动到竖直状态时对第二喷淋管39进行固定的扣合件312，连通机构311包括设置在第一喷淋管35下端且呈“U”型的连接管3111、设置连接管3111远离第一喷淋管35一端的单向阀3112、设置在第二喷淋管39一端且在向下转动过程中插接设置在连接管3111上并顶开单向阀3112的插接管3113，连接管3111远离第一喷淋管35的管口内设置有在插接管3113插入过程中形变在插接完全后实现密封的橡胶密封套3114。当插接管3113插接到连接管3111内时，第二喷淋管39沿着水平方向延伸。连接管3111远离第一喷淋管35的一端绕着第二喷淋管38的转动轴线呈弧形设置，插接管3113沿着第二喷淋管38的转动轴线呈弧形设置，插接管3113内设置有顶开单向阀3113的顶杆3115。连接管3111底部设置有第三喷头3116。

如图2和图4所示，移动平台32上设置有供向上转动到竖直状态的第二喷淋管39嵌入且呈“U”型的槽口321，扣合件312为设置在槽口321的开口两侧的橡胶限位凸块。当第二喷淋管39朝向槽口321内转动时，第二喷淋管39驱使橡胶限位凸块形变后嵌入在槽口321内，软管38穿过槽口321且在初始状态时呈扁平状，在高压喷水装置3的软管38通水时，软管38膨胀后驱使第二喷淋管39克服橡胶限位凸块的弹力后脱离槽口321且在重力作用下向下转动。第二喷淋管39的上端设置有配重块313，当第二喷淋管39在重力作用下向下转动时，第二喷淋管39上的插接管3113插接到连接管3111进行连接且顶开单向阀3112。

如图2和图4所示，同时支杆34上端升降设置在移动平台32上，支杆34和移动平台32之间设置有限制支杆34升降行程的限位组件314，支杆34底部设置有浮体315，在高压冲洗过程中，通过控制沉淀池1内的污水的液面高度，以驱使驱使浮体315带动支杆34向上移动，从而改变多个第一喷头36的所在高度。限位组件314包括设置在移动平台32侧面且具有沿着竖直方向延伸的腰型孔的限位板3141、设置得支杆34上端的螺纹座3142、穿过限位板3141的腰型孔后螺纹连接在螺纹座3142上的限位轴3143。

如图1所示，泵送组件5由水泵、输送管等部件构成，泵送组件5连接在位于沉淀池1侧面底部的排污管上。

如图1和图5所示，污水处理器6包括转动连接在回水箱4内的转轴61、设置在转轴61中部的叶轮62、设置在转轴61两端的环形磁吸组件63、设置在回水箱4中部且具有位于叶轮62上方的出水通道的隔板套64、设置在隔板套64的出水通道顶部的滤芯65，回水箱4底部延伸至叶轮62处且用于被连接泵送组件5的进水管41，从进水管41流入的污水带动叶轮62旋转。环形磁吸组件63包括设置在转轴61上的环形筒631、多个呈圆周阵列分布在环形筒631周侧的弧形磁板632、两个设置在环形筒631上且抵触在多个弧形磁板632上的半圆形金属分隔滤套633，隔板套64的周侧设置有抵触在回水筒内壁上的环形橡胶密封圈(图中未标注)。

实施效果：在对沉淀池1内的污垢进行处包括如下步骤：(1)先在沉淀池1周围设置摆放净水箱2，利用高压喷水装置3将净水箱2内的水高压喷射到沉淀池1的池底、池壁进行冲洗，具体操作方式为：使得移动平台32安装在环形轨道31上，第一喷淋管35上的多个第一喷淋头对准沉淀池1的侧壁、第二喷淋管39上的多个第二喷淋头对准沉淀池1的池底，工作人员通过推手33使得移动平台32移动，然后实现对沉淀池1进行高压冲洗；(2)在净水箱2边上设置回水箱4，通过泵送组件5将沉淀池1内的冲洗废水输送到回水箱4的底部，在回水箱4的中下部设置具有磁性吸附功能的污水处理器6，以实现磁性吸附冲洗废水中的磁性污物絮凝团类污垢，具体操作方式为：进入到回水箱4内的水带动叶轮62转动，叶轮62带动搅动回水箱4底部的水以及带动环形磁吸组件63旋转，从而使得磁性污物絮凝团类污垢被吸附在环形磁吸组件63上，另外向上满溢的水通过滤芯65进行过滤；(3)在回水箱4的顶部设置与净水箱2连通的溢流回水管7，将经过污水处理器6处理后的水重新输送到净水箱2内，以供高压喷水装置3使用。

第二喷淋管39在转动到竖直状态并通过扣合组件扣合时，可以减小整个高压喷水装置3的体积，在第二喷淋管39收纳后方便进行搬运和储存；同时在第二喷淋管39向下转动的过程中，第二喷淋管39上的插接管3113插接设置在连接管3111上并顶开单向阀3112，从而实现第一喷淋管35和第二喷淋管39的连通，同时第二喷淋管39也可以不使用，此时单向阀3112会对连接管3111进行密封。在槽口321处的橡胶限位凸块可使得第二喷淋管39保持竖直状态，同时在需要进行高压喷淋时，在软管38通水膨胀过程中，能自动使得第二喷淋管39克服橡胶限位凸块的弹力后脱离槽口321，在第二喷淋管39自身的重力以及配重块313的重力作用下，第二喷淋管39上的插接管3113插接到连接管3111进行连接且顶开单向阀3112，以方便使得第一喷淋管35和第二喷淋管39连通。

弧形磁板632的磁性可实现对污水中的磁性污物絮凝团类污垢进行磁性吸附，且在处理完成后，通过拆卸两个半圆形金属分隔滤套633，使得磁性污物絮凝团类污垢和弧形磁板632间隔设置，从而方便清理被弧形磁板632吸附的磁性污物絮凝团类污垢。

实施例2：一种免刮治污除垢沉淀池处理方法，如图6和图7所示，与实施例1的不同之处在于支杆34的升降方式不同，在移动平台32上设置有与第二喷淋管39转动到水平状态时的方向相通的安装槽322，移动平台32上设置有两个位于安装槽322两侧的第一锲型块323，支杆34上端穿过安装槽322，支杆34上端设置有两侧与两个第一锲型块323相滑动连接的第二锲型块341，移动平台32和第二锲型块341在重力作用下下滑的一端之间设置有调节第二锲型块341所在位置的调节组件316。调节组件316包括螺纹连接在移动平台32上的调节螺杆3161、设置在调节螺杆3161的端部且抵紧在第二锲型块341在重力作用下下滑的一端的压块3162。

通过调节组件316对第二锲型块341的所在位置进行调节，而第二锲型块341滑动连接在两个第一锲型块323上，此时支杆34的高度和左右位置会出现调节，从而实现调节多个第一喷头36的所在高度、调节多个第二喷头310相对沉淀池1的池底的位置；通过转动调节螺杆3161，使得调节螺杆3161端部的压块3162驱使第二锲型块341移动，从而实现调节第二锲型块341的所在位置。