一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器

技术领域

本发明涉及妇科产后护理技术领域，具体是一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器。

背景技术

产后护理是指针对分娩女性所做的护理工作，而这段时期也叫产褥或产褥期，生产分为顺产和剖宫产，其中剖宫产由于产妇经过手术创伤，身体虚弱，并且子宫上有创面，故其红色恶露时间相对要长一些，产后出血量上也较顺产多，另外在发生晚期产后出血时，考虑的原因侧重有所不同，顺产首先考虑子宫复旧不良，胎盘附着处血块脱落出血，再次就是胎盘胎膜的残留，而剖宫产则首先要考虑子宫切口感染发生的出血，因此其在护理过程中需要尤为小心，避免伤口撕裂造成二次感染。

而在孕妇产后护理过程中，由于患者移动不便，其日常清洁护理变得尤为困难，尤其是对于下体等隐私部位来说，其单独清洁时，极易由于体位的原因造成伤口二次撕裂，影响产后恢复的时长，且当护理人员对其进行护理工作时，极易增加患者的心理负担，影响患者的正常恢复。因此，本领域技术人员提供了一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器，以解决上述背景技术中提出的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器，包括座椅架，所述座椅架的下方设置有升降脚座机构，且座椅架的内侧位于顶端位置处设置有背靠支架，所述座椅架的内侧位于底端位置处设置有坐浴清洗机构，所述坐浴清洗机构中浴缸的端口位置处设置有坐垫。

作为本发明再进一步的方案：所述升降脚座机构包括支撑脚架，所述支撑脚架的底端对称设置有推送脚轮，且支撑脚架的中部位置处贯穿卡合有液压推杆，所述支撑脚架的上方位于底端位置处对称固定有支撑套筒，且支撑脚架的上方位于中部位置处对称固定有定位支座，所述支撑套筒的顶端嵌入卡合有升降支杆，且支撑套筒的内部贯穿开设有定位卡槽，所述定位支座的顶端转动连接有摆动推杆，所述摆动推杆通过传动连杆与液压推杆的伸缩端连接。

作为本发明再进一步的方案：所述支撑套筒的数量为五组，且支撑套筒相对于支撑脚架的圆心呈环形对称排列，所述支撑套筒的内径与升降支杆的外径相适配，所述升降支杆的伸缩高度不低于0.5m。

作为本发明再进一步的方案：所述定位卡槽的内径与摆动推杆的外径相适配，且定位卡槽的数量与摆动推杆的数量相同，所述定位卡槽与摆动推杆相互一一对应。

作为本发明再进一步的方案：所述坐浴清洗机构包括设置在座椅架内侧底端位置处的浴缸，所述浴缸的内侧位于底端位置处对称开设有排水口，且浴缸的内侧位于中部位置处固定有旋转清洗机构，所述浴缸的后侧位于中部位置处固定有传动电机，所述传动电机的端部固定有传动齿轮，所述传动齿轮的齿牙与旋转清洗机构中传动齿条的齿牙啮合连接。

作为本发明再进一步的方案：所述排水口的数量不少于三组，且排水口的出水端均与排污阀连接。

作为本发明再进一步的方案：所述旋转清洗机构包括导轨架，所述导轨架的后侧连接有进水阀，且导轨架的内壁开设有导轨滑槽，所述导轨架通过导轨滑槽与推送滑条卡合，且导轨架与推送滑条之间间隔有水流腔室，所述推送滑条的顶端设置有传动齿条，且推送滑条的内侧对称连接有清洁喷头。

作为本发明再进一步的方案：所述推送滑条的外侧设置有封装凸条，且推送滑条与封装凸条均为NBR丁腈橡胶、HNBR氢化丁腈橡胶、SIL硅橡胶材质的一种，所述封装凸条的高度与导轨架的内径高度相同，所述推送滑条通过封装凸条与导轨架封装卡合。

作为本发明再进一步的方案：所述清洁喷头的数量不少于十二组，且清洁喷头之间的间隔距离相同。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明取代了传统患者蹲座清洁护理或医疗人员清洁护理的形式，通过升降脚座机构对坐浴器的升降调节，在坐浴清洗机的自主清洗下，能够对患者下体隐私部位进行主动清洁处理，其不仅避免了出现患者由于蹲座产生的伤口二次撕裂的情况，同时能够便于患者自主进行清理，减轻患者的心理负担，提高患者产后护理的心情愉悦性，进而降低患者护理过程中带来的种种不便。

附图说明

图1为一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器的结构示意图；

图2为一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器中升降脚座机构的结构示意图；

图3为一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器中升降脚座机构的平面示意图；

图4为一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器中坐浴清洗机构的结构示意图；

图5为一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器中旋转清洗机构的结构示意图；

图6为一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器图5中推送滑条的结构示意图。

图中：1、座椅架；2、背靠支架；3、升降脚座机构；31、支撑脚架；32、推送脚轮；33、液压推杆；34、支撑套筒；35、定位卡槽；36、升降支杆；37、定位支座；38、摆动推杆；39、传动连杆；4、浴缸；5、坐垫；6、排污阀；7、传动电机；8、传动齿轮；9、旋转清洗机构；91、导轨架；92、进水阀；93、水流腔室；94、推送滑条；95、传动齿条；96、清洁喷头；97、导轨滑槽；98、封装凸条；10、排水口。

具体实施方式

请参阅图1～6，本发明实施例中，一种用于妇科产后护理的多功能坐浴器，包括座椅架1，座椅架1的下方设置有升降脚座机构3，且座椅架1的内侧位于顶端位置处设置有背靠支架2，升降脚座机构3包括支撑脚架31，支撑脚架31的底端对称设置有推送脚轮32，且支撑脚架31的中部位置处贯穿卡合有液压推杆33，支撑脚架31的上方位于底端位置处对称固定有支撑套筒34，且支撑脚架31的上方位于中部位置处对称固定有定位支座37，支撑套筒34的顶端嵌入卡合有升降支杆36，且支撑套筒34的内部贯穿开设有定位卡槽35，定位支座37的顶端转动连接有摆动推杆38，摆动推杆38通过传动连杆39与液压推杆33的伸缩端连接，支撑套筒34的数量为五组，且支撑套筒34相对于支撑脚架31的圆心呈环形对称排列，支撑套筒34的内径与升降支杆36的外径相适配，升降支杆36的伸缩高度不低于0.5m，定位卡槽35的内径与摆动推杆38的外径相适配，且定位卡槽35的数量与摆动推杆38的数量相同，定位卡槽35与摆动推杆38相互一一对应，在患者使用坐浴器对下体隐私部位进行清洗护理工作时，将热水器的出水管与进水阀92连接，进而将坐浴器通电，控制液压推杆33的伸缩端进行升降，液压推杆33在伸缩过程中，带动传动连杆39同步上下移动，通过定位支座37的中转支承，带动摆动推杆38在定位卡槽35内摆动，进而推动升降支杆36在支撑套筒34内升降移动，对座椅架1的高低进行调节，以便于不同身高的患者使用。

座椅架1的内侧位于底端位置处设置有坐浴清洗机构，坐浴清洗机构中浴缸4的端口位置处设置有坐垫5，坐浴清洗机构包括设置在座椅架1内侧底端位置处的浴缸4，浴缸4的内侧位于底端位置处对称开设有排水口10，排水口10的数量不少于三组，且排水口10的出水端均与排污阀6连接，清洗后的废水落入至浴缸4内，通过排水口10流入至排污阀6内，进而通过排污阀6排出外界。

浴缸4的内侧位于中部位置处固定有旋转清洗机构9，浴缸4的后侧位于中部位置处固定有传动电机7，传动电机7的端部固定有传动齿轮8，传动齿轮8的齿牙与旋转清洗机构9中传动齿条95的齿牙啮合连接，旋转清洗机构9包括导轨架91，导轨架91的后侧连接有进水阀92，且导轨架91的内壁开设有导轨滑槽97，导轨架91通过导轨滑槽97与推送滑条94卡合，且导轨架91与推送滑条94之间间隔有水流腔室93，推送滑条94的顶端设置有传动齿条95，且推送滑条94的内侧对称连接有清洁喷头96，推送滑条94的外侧设置有封装凸条98，且推送滑条94与封装凸条98均为NBR丁腈橡胶、HNBR氢化丁腈橡胶、SIL硅橡胶材质的一种，封装凸条98的高度与导轨架91的内径高度相同，推送滑条94通过封装凸条98与导轨架91封装卡合，清洁喷头96的数量不少于十二组，且清洁喷头96之间的间隔距离相同，在对座椅架1的高低调节完毕后，患者坐靠在坐垫5上，进而打开热水器的开关，将清洁水通过进水阀92输入至水流腔室93内，清洁水在压力作用下通过清洁喷头96喷出，对患者下体隐私部位进行主动式清洗工作，同步的传动电机7工作，带动传动齿轮8转动，通过传动齿轮8与传动齿条95的啮合传动，推动推送滑条94在导轨架91内循环转动，使清洁喷头96旋转式喷洒清洁水，对患者下体隐私部位进行全方位的清洗工作，且在清洗过程中，封装凸条98在清洁水的压力作用下，能够与导轨架91保持良好的密封贴合，避免清洁水从导轨滑槽97内溢出，且具有弹性材质的推送滑条94具有良好的弹性回复性能，能够在导轨架91内进行良好的循环转动。

本发明的工作原理是：在患者使用坐浴器对下体隐私部位进行清洗护理工作时，将热水器的出水管与进水阀92连接，进而将坐浴器通电，控制液压推杆33的伸缩端进行升降，液压推杆33在伸缩过程中，带动传动连杆39同步上下移动，通过定位支座37的中转支承，带动摆动推杆38在定位卡槽35内摆动，进而推动升降支杆36在支撑套筒34内升降移动，对座椅架1的高低进行调节，以便于不同身高的患者使用，在对座椅架1的高低调节完毕后，患者坐靠在坐垫5上，进而打开热水器的开关，将清洁水通过进水阀92输入至水流腔室93内，清洁水在压力作用下通过清洁喷头96喷出，对患者下体隐私部位进行主动式清洗工作，同步的传动电机7工作，带动传动齿轮8转动，通过传动齿轮8与传动齿条95的啮合传动，推动推送滑条94在导轨架91内循环转动，使清洁喷头96旋转式喷洒清洁水，对患者下体隐私部位进行全方位的清洗工作，清洗后的废水落入至浴缸4内，通过排水口10流入至排污阀6内，进而通过排污阀6排出外界。

以上所述的，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。