滤光片表面瑕疵的处理方法

技术领域

本公开涉及光学镜片加工领域，具体涉及滤光片表面瑕疵的处理方法。

背景技术

滤光片是应用于手机模组部件之一的手机组件，滤光片在加工组件后需要进行清洗，组件滤光片清洗通常采用二流体离心清洗和超声波清洗中的任意一种。二流体离心清洗是将待清洗滤光片放入对应型号的tray盘内固定，然后将装有滤光片的tray盘放入二流体离心清洗机舱体内转盘上的卡槽内，开启二流体离心清洗启动开关，机台按照设定的工艺时间进行自动清洗，待装有滤光片的tray盘二流体离心清洗完成后取出送入检测待检。超声波清洗是将待清洗滤光片放入对应型号的tray盘内固定，然后将装有滤光片的tray盘对角使用橡皮筋捆绑固定，再将固定后将装有滤光片的tray盘插入超声波清洗篮内，按照超声波清洗的工艺进行依次清洗，待装有滤光片的tray盘超声波清洗完成后送入检测待检。

然而，通过上述的两种方法清洗后的滤光片表面均出现白点、水迹、白迹等瑕疵，一次清洗良率在30％～50％之间。对于表面洁净度不达标的滤光片需要再次进行重洗，然而多次清洗对滤光片组件的性能有一定的损伤，会造成推力测试不良而报废，报废率在10％左右。并且反复重洗会使工作量增加，造成人工浪费及出货节点紧张。

发明内容

鉴于背景技术存在的问题，本公开的目的在于提供一种滤光片表面瑕疵的处理方法，该方法可以解决滤光片清洗后表面白点、水迹、白迹等不良异常问题。

在一些实施例中，本公开提供的滤光片表面瑕疵的处理方法包括以下步骤：S1，开启等离子清洗机，清洗时间设定为250s～350s，通入氩气氛围；S2，将待清洗滤光片放入tray盘内固定；S3，将装有滤光片的tray盘放入等离子机内的铝电极板上，使滤光片的两面表面全部接触到清洗，开启清洗启动开关进行清洗；S4，清洗后，将装有滤光片的tray盘取出；S5，使用电阻率在≥15MΩ的纯水滴在滤光片表面，观察滤光片亲水效果，水珠在滤光片表表面瞬间扩散视为亲水性合格，进行S6步骤；如不合格，重复进行S1-S4步骤；S6，将装有亲水测试合格滤光片的tray盘放入二流体离心清洗机舱体内转盘上的卡槽内或者放入超声波清洗机内槽中，开启清洗启动开关进行清洗；S7，清洗后，将装有滤光片的tray盘取出，完成清洗处理。

在一些实施例中，在步骤S1中，等离子清洗机功率设定为300W～380W。

在一些实施例中，在步骤S1中，通入氩气的流量为0.1mpa～0.2mpa。

在一些实施例中，步骤S3中，tray盘在等离子机内的铝电极板的放置顺序为单排平放。

在一些实施例中，步骤S5中，重复进行步骤S1-S4的次数不超过4次。

在一些实施例中，步骤S1-S4完成后在2h内完成步骤S6。

在一些实施例中，在步骤S6中，二流体离心清洗机舱体内的腔体温度为40℃～80℃。

在一些实施例中，在步骤S6中，二流体离心清洗机舱体内的气压为0.3Mpa～0.8Mpa。

在一些实施例中，在步骤S6中，二流体离心清洗机的清洗转速为200r/min～450r/min，水流速为3L/min～5L/min。

在一些实施例中，在步骤S6中，二流体离心清洗机的干燥转速为1100r/min～1300r/min。

本公开的有益效果为：本公开提供的滤光片表面瑕疵的处理方法

(1)可有效去除滤光片表面的静电，使落尘在镜片表面不被黏附，超声波清洗及二流体离心清洗可有效去除滤光片表面的白点；(2)使滤光片表面的氧化物活化，使氧化物在滤光片表面松懈，超声波清洗及二流体离心清洗后可有效去除滤光片表面的脏污；(3)改变滤光片表面的亲水性，使滤光片更加亲水，保证滤光片在水洗时不会产生水迹；(4)通过本公开的方法清洗后的滤光片一次清洗良率可达90％以上，效率提升50％，减少人工劳动强度。

具体实施方式

应理解的是，所公开的实施例仅是本公开的示例，本公开可以以各种形式实施，因此，本公开的具体细节不应被解释为限制，而是仅作为权利要求的基础且作为表示性的基础用于教导本领域普通技术人员以各种方式实施本公开。在本公开的说明中，未明确说明的术语、专业用词均为本领域技术人员的公知常识，未明确说明的方法均为本领域技术人员公知的常规方法。

接下来说明本公开的滤光片表面瑕疵的处理方法。

本公开提供的滤光片表面瑕疵的处理方法是通过使用等离子清洗机对滤光片预处理，等离子可以活化滤光片表面氧化物，改变滤光片表面亲水性，去除滤光片表面静电，清洗时纯水能够在滤光片表面立即均匀扩散，使清洗效果达到最佳，同时可避免对滤光片表面膜层及丝印的损伤。

在一些实施例中，本公开提供的滤光片表面瑕疵的处理方法包括步骤：S1，开启等离子清洗机，清洗时间设定为250s～350s，通入氩气氛围；S2，将待清洗滤光片放入tray盘内固定；S3，将装有滤光片的tray盘放入等离子机内的铝电极板上，使滤光片的两面表面全部接触到清洗，开启清洗启动开关进行清洗；S4，清洗后，将装有滤光片的tray盘取出；S5，使用电阻率在≥15MΩ的纯水滴在滤光片表面，观察滤光片亲水效果，水珠在滤光片表表面瞬间扩散视为亲水性合格，进行S6步骤；如不合格，重复进行S1-S4步骤；S6，将装有亲水测试合格滤光片的tray盘放入二流体离心清洗机舱体内转盘上的卡槽内或者放入超声波清洗机内槽中，开启清洗启动开关进行清洗；S7，清洗后，将装有滤光片的tray盘取出，完成清洗处理。

在一些实施例中，在步骤S1中，等离子清洗机功率设定为300W～380W。

在一实施例中，在步骤S1中，等离子清洗机的频率为40kHz。

在一些实施例中，在步骤S1中，等离子清洗机的真空度设置为30±5Pa。

在一些实施例中，在步骤S1中，通入氩气的流量为0.1mpa～0.2mpa。

在一些实施例中，步骤S3中，tray盘在等离子机内的铝电极板的放置顺序为单排平放。

在一些实施例中，步骤S5中，重复进行步骤S1-S4的次数不超过4次。

在一些实施例中，步骤S1-S4完成后在2h内完成步骤S6。等离子清洗后的滤光片表面亲水性有效时间为2h，因此在2h内将滤光片完成下一步骤的清洗，超出有效时间后，亲水性会下降或者消失，滤光片需要再次重复步骤S1-S4。

在一些实施例中，在步骤S6中，二流体离心清洗机舱体内的腔体温度为40℃～80℃。

在一些实施例中，在步骤S6中，二流体离心清洗机舱体内的气压为0.3Mpa～0.8Mpa。

在一些实施例中，在步骤S6中，二流体离心清洗机的清洗转速为200r/min～450r/min，水流速为3L/min～5L/min。

在一些实施例中，在步骤S6中，二流体离心清洗机的干燥转速为1100r/min～1300r/min。

本公开的方法可以解决滤光片清洗后表面白点、水迹、白迹等不良异常问题，使经过二流体离心清洗及超声波清洗后的滤光片一次性清洗良率可达到90％以上。

下面结合实施例，进一步阐述本公开。应理解，这些实施例仅用于说明本公开而不用于限制本公开的范围。在下述实施例、对比例中，所使用到的试剂、材料以及仪器如没有特殊的说明，均可商购获得或本领域中公知的方法制备获得。

实施例1

将等离子清洗机功率设定为350W，清洗时间为300s，氩气流量为0.1mpa。将待清洗滤光片放入对应型号的tray盘内固定，防止滤光片相互碰撞及重叠。将装有滤光片的tray盘依次放入等离子内的铝电极板上，放置顺序为单排平放，使滤光片的两面表面全部接触到清洗，开启清洗启动开关进行清洗。清洗完成后，将等离子清洗后装有滤光片的tray盘取出。使用电阻率在≥15MΩ的纯水滴在滤光片表面，观察滤光片亲水效果，水珠在滤光片表表面瞬间扩散视为亲水性合格。将装有亲水测试合格滤光片的tray盘放入气压为0.5Mpa、水流速为5L/min、清洗转速为400r/min、干燥转速为1300r/min、腔体温度为50℃的二流体离心清洗机舱体内转盘上的卡槽内，开启清洗启动开关。清洗完成，将装有滤光片的tray盘取出送入检测，完成整个清洗处理。

实施例2

将等离子清洗机功率设定为350W，清洗时间为300s，氩气流量为0.1mpa。将待清洗滤光片放入对应型号的tray盘内固定，防止滤光片相互碰撞及重叠。将装有滤光片的tray盘依次放入等离子内的铝电极板上，放置顺序为单排平放，使滤光片的两面表面全部接触到清洗，开启清洗启动开关进行清洗。清洗完成后，将等离子清洗后装有滤光片的tray盘取出。使用电阻率在≥15MΩ的纯水滴在滤光片表面，观察滤光片亲水效果，水珠在滤光片表表面瞬间扩散视为亲水性合格。将装有亲水测试合格滤光片的tray盘放入超声波清洗篮筐上，同时使用橡皮筋将装有滤光片的tray盘与超声波清洗篮筐固定，防止装有滤光片的tray盘进入超声波液体内漂浮起。参照超声波清洗工艺，开启相应槽的超声波启动开关进行清洗。清洗完成，将装有滤光片的tray盘取出送入检测，完成整个清洗处理。

对比例1

将待清洗滤光片放入对应型号的tray盘内固定，防止滤光片相互碰撞及重叠。将装有滤光片的tray盘放入气压为0.5Mpa、水流速为5L/min、清洗转速为400r/min、干燥转速为1300r/min、腔体温度为50℃的二流体离心清洗机舱体内转盘上的卡槽内，开启清洗启动开关。清洗完成，将装有滤光片的tray盘取出送入检测，完成整个清洗处理。

对比例2

将待清洗滤光片放入对应型号的tray盘内固定，防止滤光片相互碰撞及重叠。将装有滤光片的tray盘依次放超声波清洗篮筐内，然后将装满滤光片的清洗篮筐依次放入超声波清洗槽内，开启超声波依次清洗。将超声波清洗完成滤光片的tray盘放入干燥转速为1300r/min、腔体温度为50℃的二流体离心清洗机舱体内转盘上的卡槽内进行干燥。将离心清洗机内干燥完成装的滤光片以及tray盘全部取出，完成整个清洗处理。

对比例3

步骤和实施例1相同，区别在于将氩气替换为压缩空气。

对比例4

步骤和实施例1相同，区别在于等离子清洗机的清洗时间为500s。

经过不同的处理工艺，实施例1-2和对比例1-4的清洗良率的测试结果如表1所示。其中，清洗良率的测试方法为本领域公知的技术手段，本公开实验示例中清洗良率的测试采用的为同一方法。

表1实施例1-2和对比例1-4的实验测试结果

根据实验结果和表1的数据结果可以看出，实施例1-2是采用的本公开提供的滤光片表面瑕疵的处理方法对滤光片进行清洗处理，最终的清洗良率都可以达到95％，且清洗后滤光片表面不会出现白点、水迹、白迹等不良问题。对比例1直接采用二流体离心清洗机进行清洗，未经过等离子清洗预处理，滤光片的清洗良率低至50％。对比例2直接采用超声波清洗，也未经过等离子预处理，超声波清洗完成后采用的是二流体离心清洗机其中一项甩干功能，滤光片的清洗良率低至55％。对比例3和实施例1相比，未采用氩气氛围，而是采用正常的压缩空气氛围，最终的滤光片清洗良率为80％，滤光片出现水汽及白点，稳定性较差。对比例4和实施例1相比，等离子机的清洗时间延长到500s，最终的清洗虽然可以达到95％，但是滤光片表面的丝印会略微的变色，勉强可使用该产品；如果将对比例4得到的该批产品再次等离子清洗(重复步骤S1-S4)，则丝印会彻底变黄(即，所谓的烧焦)，等离子清洗时间延长到500S后品质虽然不受影响，但不可重复使用。

以上所述，仅是本公开的示例，并非对本公开做任何形式的限制，虽然本公开以较佳实施例揭示如上，然而并非用以限制本公开，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本公开技术方案的范围内，利用上述揭示的技术内容做出些许变动或修饰均等同于等效实施案例，均在本公开技术方案的范围内。