一种轴承的化学清洗工艺

技术领域

本发明涉及一种化学清洗技术领域，特别涉及一种轴承的化学清洗工艺。

背景技术

目前，轴承是机械设备中的一种重要零部件，轴承的清洁度对其振动、噪声和使用寿命有很大的影响。它的主要功能是支撑机械旋转体，降低其运动过程中的摩擦系数，并保证其回转精度。轴承由于其特殊的工作环境经常积满油污，需要对其定期清洗，新的轴承在使用时也需要进行清洗。轴承清洗的传统方法是使用石油类溶剂，用煤油、汽油来清洗，这不但存在石油原料的浪费和环境污染，而且石油类溶剂燃点低，易发生火灾。除此之外，清洗步骤也较为简单，一般采用热水或洗涤剂冲洗；煤油浸泡；手工擦拭的方法，清洗效果不能保证。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术存在的上述问题，提供一种轴承的化学清洗工艺，提高轴承的清洗维护效果，从而更加适于实用，且具有产业上的利用价值。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。

依据本发明提出的一种轴承的化学清洗工艺，包括如下步骤：

1.表面清理：对轴承进行表面清理，采用硬质毛刷刷除轴承表面沾染的易除杂质。

2.水洗：将表面清理后的轴承放置在第一水槽中进行水洗；其中，所述第一水槽内装有清洁液，所述清洁液包括过氧化氢和去离子水。

3.浸泡清洗：将水洗后的轴承放置在第二水槽中的碱性溶液进行浸泡清洗，所述的碱性溶液由双氧水，氢氧化钠，碳酸氢钠和去离子水组成。

4.超声波清洗：将浸泡后的轴承放置在第三水槽中进行超声波清洗；其中，所述第三水槽中装有蒸馏水。

5.喷淋漂洗：将超声波清洗后的轴承再进行纯水喷淋漂洗，喷淋过程中旋转轴承，使得轴承得到全方位的漂洗。

6.一次烘干：将经过喷淋漂洗的轴承用热空气烘干。

7.涂油：将轴承固定，在轴承上滴润滑油。

8.二次烘干：用热空气对轴承烘干。

9.退磁：将烘干后的轴承进行退磁处理。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例详细说明如下。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，对依据本发明提出的一种轴承的化学清洗工艺，其具体实施方式、特征及其功效，详细说明如下。

实施例

本发明：一种轴承的化学清洗工艺，其特征在于，包括如下步骤：

1.表面清理：先检查轴承的外观有无明显缺陷，当确认轴承无明显缺陷后，对轴承进行表面清理，采用硬质毛刷刷除轴承表面沾染的易除杂质。

2.水洗：将表面清理后的轴承放置在第一水槽中进行水洗；其中，所述第一水槽内装有清洁液，所述清洁液包括过氧化氢和去离子水。以所述清洁液的总重计，所述清洁液包括5％重量的过氧化氢和95％重量的去离子水；所述清洁液的温度在60-75℃，所述水洗的清洗时间为15-20min。

3.浸泡清洗：将水洗后的轴承放置在第二水槽中的碱性溶液进行浸泡清洗，所述的碱性溶液由双氧水，氢氧化钠，碳酸氢钠和去离子水组成。碱性溶液加热到45℃，轴承浸泡1.5h。

4.超声波清洗：将浸泡后的轴承放置在第三水槽中进行超声波清洗；其中，所述第三水槽中装有蒸馏水。所述超声波清洗的振动频率为120KHz，所述超声波清洗的清洗时间为10-15min。

5.喷淋漂洗：将超声波清洗后的轴承再进行纯水喷淋漂洗，喷淋过程中旋转轴承，使得轴承得到全方位的漂洗，轴承旋转喷淋3-5遍。

6.一次烘干：将经过喷淋漂洗的轴承用热空气烘干，热空气温度维持在50-60℃，烘干时间5min。

7.涂油：将轴承固定，在轴承上滴润滑油。

8.二次烘干：用75℃的热空气对轴承烘干，烘干时间7min。热空气对润滑油吹干后，润滑油可以在零件表面形成胶状保护膜，轴承清洗保护完毕。

9.退磁：将烘干后的轴承进行退磁处理。具体地，可以利用退磁机将烘干后的轴承进行退磁处理。

综上，本发明实施例提供一种轴承的化学清洗工艺，首先，对轴承进行表面清理，以除去轴承表面较大的碎屑和粘附的机油等杂污，然后，将轴承放置在第一水槽中进行水洗，其中，第一水槽内装有清洁液，清洁液包括过氧化氢和去离子水；接着，将轴承放置在第二水槽中进行浸泡清洗，其中，第二水槽内由双氧水，氢氧化钠，碳酸氢钠和去离子水组成；再将轴承放置在第三水槽中进行超声波清洗，从而有效地除去轴承上不易清洗的各个死角内的污渍，保证了清洗效果；然后后将轴承进行喷淋漂洗并烘干，以避免轴承表面留有水渍，从而使得轴承获得一定的干燥度，进而进一步提高轴承的清洗效果。最后涂油并再次烘干，热空气对润滑油吹干后，润滑油可以在零件表面形成胶状保护膜，轴承清洗保护完毕。

以上所述的实施例仅表达了本申请的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案进行了进一步说明，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明说明书内容的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，或直接、间接运用在其它相关的技术领域，均应包含在本发明的保护范围之内。