用于防止悬浮台堵塞的装置、基板处理装置及其方法

相关申请的交叉引用

本申请要求于2022年6月29日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2022-0079380号的优先权，其公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本公开涉及一种用于防止在用于从悬浮台传送基板的设施中的悬浮台堵塞的装置、基板处理装置和基板处理方法。

背景技术

在制造平板显示器的工艺中，伴随着将化学溶液(诸如红、绿或黑(RGB)油墨或抗蚀剂溶液)涂布到由玻璃等形成的目标基板的表面的涂覆工艺。

在相关技术中，当显示器的尺寸较小时，通过旋转基板同时将化学液涂布到作为显示器材料的基板的中心部分，使用旋涂方法将化学溶液涂布到基板的表面。

然而，随着显示器尺寸的增大，极少使用旋涂方法，而使用这样一种涂覆方法，其中，当基板在悬浮台上移动以穿过具有与基板宽度对应的长度的狭缝形喷嘴的下侧时，从喷嘴喷射的液态化学品被涂布到基板的表面。

发明内容

本公开的一个方面是提供一种用于防止悬浮台堵塞的装置、基板处理装置和基板处理方法，其中可以防止悬浮台的进气孔阻塞。

根据本公开的一个方面，一种用于防止悬浮台堵塞的装置包括：移动构件，朝向用于提升基板的悬浮台移动；以及盖，安装在移动构件上，并且通过移动构件朝向悬浮台移动以覆盖悬浮台。

移动构件可以是夹持和传送基板的夹持器。

盖可以安装在夹持器的盖安装部分上，该盖安装部分与夹持器的其上装载基板的基板装载部分相对。

悬浮台可以在基板的传送方向上被划分为入口悬浮部分、涂覆悬浮部分和出口悬浮部分，且盖可具有板形状并且其尺寸可大于涂覆悬浮部分的上表面的尺寸以覆盖设置在悬浮台中的位于喷嘴下方的部分的上表面。

盖可以具有设置在其上表面的边缘上的防掉落凸块。

盖在其上表面中可具有多个凹槽。

用于防止悬浮台堵塞的装置还可以包括基板检测传感器，该基板检测传感器安装在其中安装有喷嘴的喷嘴支承件上，并且检测喷嘴下方的基板。

移动构件可以是安装在设置于悬浮台的两侧上的轨道上的可移动主体，并且可移动主体可以通过控制器电连接到基板检测传感器，并且当基板检测传感器检测到喷嘴下方不存在基板时，可移动主体可以在悬浮台和喷嘴之间移动。

移动构件可以是安装在喷嘴支承件上的旋转主体，并且旋转主体可以通过控制器电连接到基板检测传感器，并且当基板检测传感器检测到喷嘴下方不存在基板时，移动构件可以在悬浮台和喷嘴之间旋转。

根据本发明的一个方面，一种基板处理装置包括：轨道，沿提升基板的悬浮台的纵向方向设置在悬浮台的两侧上；移动构件，设置在轨道上，沿着轨道移动，并保持和传送基板；盖，安装在移动构件上，通过移动构件朝向悬浮台移动并覆盖悬浮台；以及喷嘴，设置在悬浮台上方，并通过将液态化学品涂布到朝向悬浮台移动的基板来处理基板。

基板处理装置还可以包括清洁单元，该清洁单元设置在悬浮台上方并对盖进行清洁。清洁单元可以包括抽吸盖的上表面上的异物颗粒或油墨的抽吸构件。清洁单元可以包括将清洁液喷射到盖的上表面上的清洁构件。清洁单元还可以包括与清洁构件平行设置并且使清洁液超声振动的超声波发生构件。清洁单元还可以包括与清洁构件平行设置并且对被清洁液润湿的盖进行干燥的干燥构件。

清洁单元可包括：抽吸构件，抽吸盖的上表面上的异物颗粒或油墨；清洁构件，将清洁液喷射到盖的上表面上；超声波发生构件，使清洁液发生超声振动；以及干燥构件，对被清洁液润湿的盖进行干燥。抽吸构件、清洁构件、超声波发生构件和干燥构件在移动构件的移动方向上顺序设置。

根据本公开的一方面，一种基板处理方法包括：基板装载操作，通过将夹持器移动到基板的装载位置而将基板装载到夹持器上；覆盖操作，通过朝向使基板悬浮的悬浮台移动盖来覆盖悬浮台；以及基板处理操作，通过将装载有基板的夹持器朝向悬浮台移动来处理悬浮台上的基板。

盖可以安装在夹持器的盖安装部分中，该盖安装部分与夹持器的其上装载基板的基板装载部分相对，并且覆盖操作可以在基板装载操作期间进行。

附图说明

本公开的上述和其它方面、特征和优点将从以下结合附图的详细描述中更清楚地理解，其中：

图1是示出根据现有技术的夹持器将基板装载在悬浮台的一侧上的平面图；

图2是示出图1的悬浮台被异物颗粒和油墨阻塞的侧视截面图；

图3是示出根据第一实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中的移动构件上安装有盖的平面图；

图4是示出悬浮台的涂覆悬浮部分被用于防止悬浮台堵塞的装置的盖覆盖的平面图；

图5是示出由图4的盖阻挡异物颗粒和油墨对悬浮台的污染的截面图；

图6A和图6B是示出根据第二实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中的盖的平面图和截面图；

图7是示出根据第三实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中作为清洁单元的抽吸构件的视图；

图8是示出根据第四实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中作为清洁单元的清洁构件和干燥构件的视图；

图9是示出根据第五实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中作为清洁单元的清洁构件、超声波发生构件以及干燥构件的视图；

图10是示出根据第六实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中作为清洁单元的抽吸构件、清洁构件、超声波发生构件和干燥构件的视图；

图11是示出根据第七实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置的视图；

图12是示出根据第八实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置的视图；以及

图13是示出根据本发明另一方面的基板处理方法的流程图。

具体实施方式

在下文中，将参照附图详细描述实施例，使得本领域技术人员可以容易地实践本公开。然而，在详细描述优选实施例时，如果确定相关已知功能或配置的详细描述可能不必要地模糊本公开的要点，则将省略详细描述。此外，对于具有类似功能和操作的构件，在整个附图中使用相同的附图标记。此外，在本说明书中，诸如“上”、“上部”、“上表面”、“下”、“下部”、“下表面”、“侧”等术语是基于附图的，并且可以根据实际设置构件的方向而改变。

此外，在整个说明书中，当一个部件被称为“连接”到另一个部件时，它不仅“直接连接”，而且也可以是中间隔着其他组件“间接连接”。此外，除非另有说明，否则“包括”某一组件意味着可以进一步包括其它组件，而不是排除其它组件。

图1是示出由根据现有技术的夹持器将基板装载在悬浮台的一侧上的平面图，且图2是示出图1的悬浮台被异物颗粒和油墨阻塞的侧视截面图。

参照附图，在装载基板1之后，根据相关技术的夹持器2保持基板1并将基板1传送到悬浮台10，以将化学溶液涂布到基板1。

喷嘴21设置在悬浮台10上方，并且喷嘴21将液态化学品喷射到穿过悬浮台10与喷嘴21之间的空间传送的基板1上。在这种情况下，化学液可以是例如红绿蓝(RGB)油墨，并且用于使用作显示器材料的基板1成为彩色基板。此外，悬浮台10包括用于利用空气使基板1悬浮的气孔10a。此时，气孔10a包括用于喷射空气的喷气孔10aa和用于抽吸空气的进气孔10ab。喷气孔10aa将空气喷射到基板1所处的上侧，以将基板1提升到一定程度。进气孔10ab通过抽吸基板1所处的上侧的空气来拉动基板1。这些进气孔10ab允许基板1通过从喷气孔10aa喷出的空气以稳定的姿势提升而不晃动。悬浮台10可以在基板1的传送方向上被划分为入口悬浮部分11、涂覆悬浮部分12和出口悬浮部分13。在悬浮台10中，作为位于喷嘴21下方的部分的涂覆悬浮部分12形成为具有比其它部分相对更多数量的喷气孔10aa和进气孔10ab。这是为了在通过喷嘴21将化学溶液排放到基板1的上表面的操作中，在降低基板1的悬浮高度的情况下，精确地控制基板1和悬浮台10之间的间隔距离，从而进一步防止基板1的晃动以保持稳定的悬浮。

当由喷嘴21喷射化学溶液时，基板1的上表面被涂覆化学溶液。在进行这种涂布之前，夹持器2移动到基板装载位置(图1中悬浮台10的左边位置)，以装载基板1。

当基板1通过夹持器2被设置在喷嘴21下方时，通过喷嘴21喷射化学溶液，使得基板1的上表面被涂覆化学溶液。另外，当夹持器2在对基板1的涂布进行之前移动到基板装载位置以装载基板1并进行等待时，在悬浮台10中，涂覆悬浮部分12不被基板1覆盖，因此保持开放。由于悬浮台10即使在不提升基板1的情况下也保持连续操作状态，所以周围环境中的异物颗粒P可能堵塞悬浮台10中的涂覆悬浮部分12的气孔10a。详细地，当附近的异物颗粒P流入气孔10a的进气孔10ab时，进气孔10ab容易被阻塞。此外，当残留在喷嘴21中的油墨I掉落并流入进气孔10ab时，进气孔10ab被阻塞。在这种情况下，由于在基板1的涂覆操作中未精确地控制基板1的悬浮，会发生待排放的化学溶液的滴落缺陷。然而，可能很难实时检测进气孔10ab的阻塞，而是稍后在基板1的检查操作中检测到缺陷时识别到该阻塞。最终，由于需要拆卸然后清洁被污染的悬浮台10，无法长时间执行基板1的涂覆工艺，从而导致生产率降低。

图3是示出根据第一实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中的移动构件上安装有盖的平面图，图4是示出悬浮台的涂覆悬浮部分被用于防止悬浮台堵塞的装置的盖覆盖的平面图，以及图5是示出由图4的盖阻挡异物颗粒和油墨对悬浮台的污染的截面图。

参考附图，根据本公开的实施例的基板处理装置1000包括用于防止悬浮台堵塞的装置200和喷嘴300。用于防止悬浮台堵塞的装置200包括移动构件210和盖220。移动构件210朝向用于提升基板1的悬浮台10往复运动。详细地，移动构件210在悬浮台10和设置在悬浮台10上方的喷嘴300之间移动。盖220可以安装在移动构件210上，并通过移动构件210朝向悬浮台10移动，例如在悬浮台10和喷嘴300之间移动，以覆盖悬浮台10。详细地，悬浮台(图4中的10)可以在基板1的传送方向上被划分为入口悬浮部分11、涂覆悬浮部分12和出口悬浮部分13，并且盖220可以覆盖喷嘴300下方的涂覆悬浮部分12。

在这种情况下，根据实施例的基板处理装置1000还可以包括轨道100。轨道100沿用于提升基板1的悬浮台10的纵向方向设置在悬浮台10的两侧上。移动构件210可以设置在轨道100上，并且可以具有沿着轨道100移动的结构。尽管未在图中示出，但是移动构件210可以通过接收来自电机的驱动力而移动。

作为示例，移动构件210可以是如图中所示用于保持和传送基板1的夹持器211。在这种情况下，盖220可以安装在夹持器211的一部分上。详细地，如图所示，盖220可以安装在夹持器211的盖安装部分211b上，该盖安装部分211b在夹持器211的其上装载基板1的基板装载部分211a的相对侧。盖220呈板形状，并且具有能够覆盖悬浮台10的涂覆悬浮部分12的上表面的尺寸，悬浮台10的涂覆悬浮部分12是悬浮台10中的设置在喷嘴300下方的部分，并且详细地，形成为其尺寸大于涂覆悬浮部分12的上表面的尺寸。

为了使夹持器211在对基板1涂布进行之前装载基板1，在移动构件210从图3的位置移动到图4的基板装载位置并等待时，盖220可以覆盖涂覆悬浮部分12的上表面。因此，盖220可以防止异物颗粒(图5中的P)进入悬浮台10的涂覆悬浮部分12中的气孔(图5中的10a)。此外，盖220可以防止残留在喷嘴300中的油墨(图5中的I)掉落并流入悬浮台10的涂覆悬浮部分12中的气孔10a中。

例如，当夹持器211中的其中装载基板1的基板装载部分211a处于基板装载位置时，安装在夹持器211的盖安装部分211b上的盖220被设置到喷嘴300和悬浮台10的涂覆悬浮部分12之间，其中盖安装部分211b在夹持器211的其中装载基板1的基板装载部分211a的相对侧。结果，喷嘴300的周围异物颗粒P或油墨I掉落在盖220上而不是涂覆悬浮部分12的气孔10a上，从而防止异物颗粒P或油墨I堵塞悬浮台10的气孔10a。因此，由于不需要对悬浮台10进行清洁操作以去除阻挡气孔10a的异物颗粒P或油墨I，因此可以在时间和成本方面提高生产率。

此外，虽然未在图中示出，但是作为另一示例，移动构件210可以是除夹持器211之外的单独构件。例如，移动构件210可以提供为安装在轨道100上的结构，并且作为除夹持器211之外的单独构件移动，并且可以是在不安装在轨道100上的情况下移动的结构。

另一方面，喷嘴300设置在悬浮台10的上侧，并且通过向移动到悬浮台10(例如，在悬浮台10和喷嘴300之间传送)的基板1涂布化学溶液来涂覆基板1。在这种情况下，化学液可以是例如红绿蓝(RGB)油墨，并且可以用于使用作显示器材料的基板1成为彩色基板。

图6A和图6B是示出根据本公开的第二实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中的盖的平面图和截面图。

参照附图，盖220可以具有形成在其上表面的边缘上的防掉落凸块221。防掉落凸块221形成为从盖220的上表面沿着边缘向上突出。防掉落凸块221可防止落在盖220的上表面上的周围异物颗粒P或喷嘴(图5中的21)的油墨I逸出到盖220的外部并掉落。

详细地，落在盖220的上表面上的周围异物颗粒P可以通过外力(诸如盖220的移动)在盖220的上表面上移动，并且盖220阻止异物颗粒P移动到盖220的外部。此外，滴落在盖220的上表面上的油墨I可以通过外力(诸如盖220的移动)从盖220的上表面流出，并且在这种情况下，盖220阻止油墨I流到盖220的外部。

此外，可以在盖220的上表面中形成多个凹槽222。由于落在盖220的上表面上的油墨I被吸收到多个凹槽222中，因此可以可靠地防止油墨I从盖220的上表面逸出。

详细地，多个凹槽222可以例如形成如图所示的布置结构，即其中多个凹槽222在盖220的上表面上以斜向形态相交。此外，尽管未在图中示出，但是多个凹槽222可以形成垂直交叉的布置结构。因此，即便油墨I在盖220的上表面上沿任何方向流动，油墨I也会接触交叉的多个凹槽222，因此，油墨可以被吸收到多个凹槽222中。

图7是示出根据第三实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中作为清洁单元的抽吸构件的视图。

参照附图，在本公开的实施例中，还可以包括清洁单元230。清洁单元230设置在盖220上方并用于对盖220进行清洁。通过清洁单元230对盖220进行的清洁可以以适当的间隔周期性地进行。

详细地，清洁单元230可以包括抽吸构件231。

抽吸构件231抽吸盖220的上表面上的异物颗粒(图6中的P)或油墨(图6中的I)。抽吸构件231可通过用强吸力从盖220的上表面抽吸异物颗粒或油墨而从盖220的上表面去除异物颗粒或油墨。当然，抽吸构件231的具体构造不限于本公开，并且可以使用现有技术中的任何抽吸构造。

图8是示出根据本公开的第四实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中作为清洁单元的清洁构件和干燥构件的视图。

参照附图，清洁单元230可以包括清洁构件232和干燥构件234。

清洁构件232将清洁液喷射到盖220的上表面上。作为清洁液，可以使用纯水等。随着时间的推移，落在盖220的上表面上的异物颗粒粘附到盖220的上表面上。粘附的异物颗粒不容易从盖220的上表面被去除，但是可以通过清洁构件232喷射清洁溶液而容易地去除。此外，滴落在盖220的上表面上的油墨会很快变干且变硬。通过清洁构件232将清洁液喷射到盖220的上表面上，可以容易地去除硬化的油墨。当然，清洁构件232的详细构造不限于本公开，并且可以使用相关技术中的任何清洁构造。另一方面，可以去除被异物颗粒或油墨污染的清洁液。作为示例，在盖220的一侧形成有排放装置(未示出)，从而使盖220的上表面上的清洁液可以被排放到一侧。在这种情况下，用于接收排出的清洁溶液的接收构件(未示出)可以设置在盖220的一下侧。

干燥构件234与清洁构件232平行设置，并且对被清洁溶液润湿的盖220进行干燥。为了快速地从清洁操作切换到涂布操作，干燥构件234可以对带有清洁液的湿的盖220进行干燥。对于干燥构件234，可以使用相关技术中的任何干燥方法作为其干燥方法，诸如利用多次加热的干燥方法或利用热空气的干燥方法。当然，干燥构件234的详细构造不限于本公开，并且可以使用相关技术中的任何干燥构造。

图9是示出根据第五实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中作为清洁单元的清洁构件、超声波发生构件和干燥构件的视图。

参照附图，清洁单元230可以包括清洁构件232、超声波发生构件233和干燥构件234。在这种情况下，清洁构件232和干燥构件234的详细描述已经在上面基于图8进行了描述，因此将省略对其的描述。

超声波发生构件233与清洁构件232平行设置，并且使清洁溶液发生超声振动。例如，超声波发生构件233使从清洁构件232喷射的清洁流体中产生超声波，以利用超声波振动清洁流体。当以这种方式通过超声波振动清洁液时，可以提高盖220的上表面上的异物颗粒或油墨的去除速率。例如，由于通过超声波振动的清洁液，可以提升清洁效果。当然，超声波发生构件233的详细构造不限于本公开，并且可以使用相关技术中的任何超声波发生构造。

图10是示出根据第六实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置中作为清洁单元的抽吸构件、清洁构件、超声波发生构件和干燥构件的视图。

参照附图，清洁单元230可包括抽吸构件231、清洁构件232、超声波发生构件233和干燥构件234。在这种情况下，抽吸构件231、清洁构件232、超声波发生构件233和干燥构件234的详细描述已经在上面基于图7至图9进行了描述，因此，将省略对其的描述。

在清洁单元230中，抽吸构件231、清洁构件232、超声波发生构件233和干燥构件234在移动构件210的移动方向上依次设置。例如，在移动构件210移动时，安装在移动构件210上的盖220移动。在盖220的移动方向上，依次设置抽吸构件231、清洁构件232、超声波发生构件233和干燥构件234。当盖220移动时，盖220的上表面上的异物颗粒或油墨首先被抽吸构件231抽吸。然后，通过清洁构件232将清洁溶液喷射到盖220的上表面上。接着，通过超声波发生构件233使清洁液发生超声振动，以提升清洁效果。最后，通过干燥构件234对被清洁液润湿的盖220进行干燥。以这种方式，首先通过抽吸构件231的抽吸去除异物颗粒或油墨，然后通过清洁构件232喷射清洁液来去除附着在其上的异物颗粒或油墨。此外，在清洁过程中，超声波发生构件233提升清洁效果，并且干燥构件234快速干燥被清洁液润湿的盖220。通过这种顺序处理，可以有效地去除盖220的上表面上的异物颗粒和油墨。

图11是示出根据第七实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置的视图。

参考附图，根据本公开的实施例，还可以包括基板检测传感器S。基板检测传感器S安装在被提供为其上安装喷嘴300的喷嘴支承件310上，并检测喷嘴300下方的基板1。当夹持器211在对基板1的涂覆进行之前移动到基板装载位置以装载基板1并进行等待时，悬浮台10中的涂覆悬浮部分12不被基板1覆盖。此时，基板检测传感器S可检测到喷嘴300下方不存在基板1。

移动构件210被构造为在悬浮台10与喷嘴300之间移动。与上述实施例不同，移动构件210可以是作为除夹持器211之外的单独构件的可移动主体212。详细地，可移动主体212安装在设置于悬浮台10两侧的轨道100上，如图所示。在这种情况下，轨道100可以是其上安装有夹持器211的构件，或者可以是与夹持器211分开的构件。此外，可移动主体212通过控制器C电连接到基板检测传感器S。可移动主体212可以具有在基板检测传感器S检测到喷嘴300下方不存在基板1时在悬浮台10和喷嘴300之间移动的结构。当基板检测传感器S检测到喷嘴300下方不存在基板1(基板1不存在的状态)时，可移动主体212在轨道100上移动，并在悬浮台10和喷嘴300之间移动。此时，其上安装有喷嘴300的喷嘴支承件310可升高，使得可移动主体212不会干扰周围的构件。因此，安装在可移动主体212上的盖220可以覆盖悬浮台10中的位于喷嘴300下方的涂覆悬浮部分12的上表面。因此，盖220可以防止异物颗粒被引入到悬浮台10中的涂覆悬浮部分12的气孔10a中。此外，盖220可以防止残留在喷嘴300中的油墨落入气孔10a中。详细地，包括在可移动主体212中的驱动电机(未示出)可以通过控制器C电连接到基板检测传感器S。因此，可移动主体212可以具有其中驱动电机由控制器C基于基板检测传感器S的数据来控制的结构，并且通过驱动电机来移动。

图12是示出根据第八实施例的基板处理装置的用于防止悬浮台堵塞的装置的视图。

参考附图，根据本公开的实施例，还可以包括基板检测传感器S。基板检测传感器S安装在其上安装有喷嘴300的喷嘴支承件310上，并且检测喷嘴300下方的基板1。当夹持器211在对基板1的涂覆进行之前移动到基板装载位置以装载基板1并进行等待时，悬浮台10中的涂覆悬浮部分12不被基板1覆盖。此时，基板检测传感器S可以检测到不存在基板1，即，基板1不存在于喷嘴300下方的状态。

移动构件210被构造成在悬浮台10与喷嘴300之间移动。与上述实施例不同，移动构件210可以是作为单独构件的旋转主体213，而不是夹持器211。详细地，旋转主体213安装在喷嘴支承件310上，如图所示。此外，旋转主体213通过控制器C电连接到基板检测传感器S。旋转主体213可以具有当基板检测传感器S检测到喷嘴300下方不存在基板1时在悬浮台10和喷嘴300之间旋转的结构。当基板检测传感器S检测到喷嘴300下方不存在基板1(基板1不存在的状态)时，旋转主体213在旋转的同时在悬浮台10和喷嘴300之间移动。此时，其上安装有喷嘴300的喷嘴支承件310可以升高，使得旋转主体213不会干扰周围构件。因此，安装在旋转主体213上的盖220可以覆盖悬浮台10中的位于喷嘴300下方的涂覆悬浮部分12的上表面。因此，盖220可以防止异物颗粒被引入到悬浮台10中的涂覆悬浮部分12的气孔10a中。此外，盖220可以防止残留在喷嘴300中的油墨落入气孔中。详细地，如图所示，包括在旋转主体213中的驱动电机213a可以通过控制器C电连接到基板检测传感器S。因此，旋转主体213可以具有其中驱动电机213a由控制器C基于基板检测传感器S的数据来控制的结构，并且通过驱动电机213a进行旋转。

图13是说明根据本公开另一实施例的基板处理方法的流程图。

参考附图，根据实施例的基板处理方法包括基板装载操作S100，覆盖操作S110和基板处理操作S200。

如图4所示，基板装载操作S100是通过将夹持器211移动到基板1的装载位置而将基板1装载到夹持器211上的操作。此外，如图4所示，覆盖操作S110是将盖220朝向用于使基板1悬浮的悬浮台10移动的操作，例如，在设置在悬浮台10上方的喷嘴300和悬浮台10之间移动盖220以覆盖悬浮台10。最后，基板处理操作S200是通过朝向悬浮台10移动夹持器211来处理悬浮台10上的基板1的操作。在这种情况下，对基板1的处理可以是通过喷嘴300涂布化学液的涂覆过程。

此时，盖220可以安装在夹持器211的盖安装部分211b上，该盖安装部分211b在夹持器211的其上装载基板1的基板装载部分211a的相对侧。由于这种安装结构，当进行基板装载操作S100时，覆盖操作S110可以进行。例如，如图4所示，当夹持器211中的其中装载基板1的基板装载部分211a移动到基板装载位置时，安装在夹持器211的盖安装部分211b上的盖220在喷嘴300和悬浮台10之间移动，盖安装部分211b在夹持器211的其中装载基板1的基板装载部分211a的相对侧。此外，在基板1被装载到夹持器211上时，盖220被设置在喷嘴300和悬浮台10之间以覆盖悬浮台10。

通过这种方式，由于悬浮台10被盖220覆盖，喷嘴300的周围异物颗粒或油墨不会掉落到悬浮台10的气孔10a中。例如，由于喷嘴300的周围异物颗粒或油墨掉落在盖220上，因此可以防止异物颗粒或油墨堵塞悬浮台10的气孔10a。结果，由于不需要对悬浮台10进行清洁操作以去除阻塞气孔10a的异物颗粒或油墨，因此可以在时间和成本方面提高生产率。

如上所述，根据一个实施例，通过包括在悬浮台和喷嘴之间移动并覆盖悬浮台的盖，可以提供防止悬浮台的进气孔被阻塞的效果。

此外，根据本公开的实施例，通过包括对盖进行清洁的清洁单元，有利于对带有异物颗粒或油墨的盖的上表面进行清洁。

虽然上面已经说明和描述了示例性实施例，但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是，可以在不脱离由所附权利要求限定的本公开的范围的情况下进行修改和变化。