一种栅极电阻可调型超结功率器件及其制造方法

技术领域

本发明涉及功率器件半导体制造领域，具体涉及一种栅极电阻可调型超结功率器件及 其制造方法。

背景技术

随着温室效应的问题日益突出，各国节能减排的需求日益增长，各方对于降低电子产 品的功耗提出的新的需求，因应这些降低功耗的需求在传统功率器件中引入超结结构，在 达到相同耐压前提下将导通电阻下降50％～65％，有效降低功耗，提高了系统产品的效率， 尤其在大功率的电源产品上，其优势表现得更为突出。

公开号为CN104952928A的中国发明专利公开了一种栅漏电容缓变的超结功率器件及 其制造方法，通过缩小MOS器件栅极与衬底的交叠面积来减小Cgd，该器件结构在晶圆产 出后电性能就固定不变。

公开号为CN104795445A的中国发明专利公开了一种低损耗的超结功率器件及其制备 方法；虽然降低栅极电阻可提高器件开关的速度降低开关损耗，但是只是驱动速度加快并 不一定能匹配电路设计要求，反而可能造成电路中不同器件之间的干扰，严重的导致整个 电路工作异常，故需按照电路设计要求选定相应栅极电阻的功率器件，而栅极电阻通常在 器件生产完成后就已经固定，不能在应用场景中基于电路调整需求而变化栅极电阻。

发明内容

为解决现有技术中的缺陷，本发明的目的在于提供一种栅极电阻可调型超结功率器件 及其制造方法。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的：一种栅极电阻可调型超结功率器件的制造 方法，包括如下步骤：

A、超结型功率器件元胞结构和栅极电阻可调结构的制备；

B、接触通孔的制备；

C、金属导线层的制备；

D、钝化层的制备。

优选地，所述步骤A具体包括如下步骤：

步骤S1、在硅衬底上表面化学气相沉积一层本征外延层；通过离子注入在所述外延层 掺杂五价元素；

步骤S2、在所述本征外延层的上表面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶或光刻胶与 其它绝缘体掩模组成的多层组合结构；

步骤S3、通过光刻工艺在掩膜上定义P型区图形；通过离子注入在所述外延层掺杂三 价元素；然后通过干蚀刻搭配湿法蚀刻去除掩膜；

步骤S4、重复步骤S1至S3至本征外延层的厚度为30um-70um；

步骤S5、通过热氧化方法对生长栅极氧化层，然后通过低压化学气象淀积原位掺杂的 栅极多晶硅；

步骤S6、在所述栅极多晶硅上面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶或光刻胶与其它 绝缘体掩模组成的多层组合结构；通过光刻工艺在掩膜上定义栅极图形，然后通过干法蚀 刻形成栅极结构；然后通过干蚀刻搭配湿法蚀刻去除掩膜；

栅极图形定义元胞区金属氧化物场效应晶体管的栅极图形和栅极电阻可调结构的图 形，所述栅极电阻可调结构的可调范围为1-30欧姆，通过设计独立的1-10um线宽的栅极 电阻图形，平行串联到栅极回路中的2-5个独立栅极电阻来实现；

步骤S7、在外延层上表面通过离子注入五价元素杂质得到体区，然后通过热工艺对体 区的杂质进行激活；

步骤S8、在外延层上表面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶或光刻胶与其它绝缘体 掩模组成的多层组合结构；通过光刻工艺在掩膜上定义源区图形，通过离子注入五价元素 杂质在体区上表面得到源极，然后通过干蚀刻搭配湿法蚀刻去除掩膜，再通过热工艺对源 区的杂质进行激活；

步骤S9、在外延层上表面通过离子注入三价元素得到高掺杂的欧姆接触区，最终得到 元胞结构和栅极电阻可调结构。

优选地，所述步骤S1、S3、S7、S8、S9中所述三价元素包括硼元素，所述五价元素 包括砷、磷。

优选地，所述步骤S4中每重复步骤S1至S3均按照器件设计需求单独定义三价元素和五价元素离子注入的工艺条件至本征外延层的厚度为30um-70um。

优选地，所述步骤S5中所述栅极氧化层的厚度为50～200nm；所述步骤S5中所述栅极 多晶硅的厚度为500～1000nm。

优选地，所述步骤B具体包括如下步骤：

步骤S10、通过化学气象淀积形成二氧化硅介质层；

步骤S11、通过光刻工艺使用光刻胶定义源区接触孔图形、栅极区域接触孔图形和栅 极电阻可调结构的接触孔图形；所述源区接触孔图形位于源极和体区的上方，用于将源极 和体区一同引出；所述栅极区域接触孔图形位于栅极多晶硅的上方，同时在源区中定义无 源区接触孔的区域用于放置栅极金属块；所述栅极电阻可调结构的接触孔位于栅极电阻可 调结构的上方，用于连接栅极区域与栅极电阻可调结构；

步骤S12、通过干法蚀刻二氧化硅介质层，得到源区接触孔、栅极区域接触孔和栅极 电阻可调结构的接触孔；

步骤S13、通过物理气象淀积工艺淀积金属作为粘合层，淀积金属氮化物作为阻挡层， 再利用快速热退化工艺形成硅化物，所述金属包括钛、钴、钽中的一种或多种；

步骤S14、通过钨栓工艺淀积金属钨，通过干法刻蚀方法去除掉接触孔以外的金属钨， 在源区接触孔、栅极区域接触孔和栅极电阻可调结构的接触孔中形成钨栓。

优选地，所述步骤C具体包括如下步骤：

步骤S15、在钨栓上方通过物理气象淀积铝铜化合物，通过光刻工艺使用光刻胶定义 源极金属导线图形、栅极金属导线图形和栅极电阻可调结构控制极图形；通过干法蚀刻得 到源极、栅极、栅极电阻可调结构控制极；

所述源极金属导线图形位于源区上方；

所述栅极金属导线图形通过围绕着元胞区边缘走线将栅极经由栅极区域接触孔互联 至源区无源区接触孔的区域形成栅极金属块；

所述栅极电阻可调结构控制极图形通过独立的金属导线将独立的栅极电阻可调结构 通过栅极电阻可调结构的接触孔并联在栅极区域接触孔与栅极金属块之间，同时在每个独 立的栅极可调电阻与栅极金属块之间引出独立的栅极电阻可调结构控制极，该控制极数量 与独立栅极电阻数量一一对应，钨栓会填充到体区/源区接触孔和栅极互联区域接触孔中。

优选地，所述步骤S15中所述栅极电阻可调结构控制极图形会将独立栅极可调电阻金 属导线与独立的栅极电阻可调结构控制极金属导线交汇点之后的用于与栅极金属块互联 的金属导线线宽为1～2um。

优选地，所述步骤D具体包括如下步骤：

步骤S16、淀积钝化层，通过光刻工艺使用光刻胶定义源极金属接触区、栅极金属接 触区和栅极电阻可调结构控制极接触区；

通过干法蚀刻得到源极金属接触区、栅极金属接触区、栅极电阻可调结构控制极接触 区；该控制极数量与独立栅极电阻数量一一对应；

所述钝化层包括氮化硅或二氧化硅。

第一型掺杂和第二型掺杂为相反掺杂类型，第一型为N型则第二型为P型，第一型为 P型则第二型为N型。

一种栅极电阻可调的超结型功率器件，所述栅极电阻可调型超结功率器件根据所述的 栅极电阻可调型超结功率器件的制造方法制备得到。

综上所述，与现有技术相比，本发明具有如下的有益效果：

(1)无需就不同的栅极电阻需求而变更栅极、接触通孔、金属导线层的版图和重新制作掩模版并流片，减少成本支出；

(2)通过栅极电阻控制极分别对每个独立的栅极电阻进行开路控制以实现对栅极电 阻的调整；

(3)提高器件在应用时的通用性，现有技术通过缩小MOS器件栅极与衬底的交叠面积来减小Cgd，该器件结构在晶圆产出后电性能就固定不变，而本专利是通过调整平行串联到栅极回路中的独立栅极电阻数量来调整Rg，可在晶圆产出后基于应用需求通过栅极电阻控制极施加电流熔断指定栅极电阻与栅极串联的金属导线来调整Rg。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本发明实施例1-3一种栅极电阻可调的超结型功率器件的结构示意图；

图2为本发明实施例1-3一种栅极电阻可调的超结型功率器件的金属层布线俯视图；

附图标记：

1、第一型硅衬底；2、第一型外延层；3、第二柱状掺杂区；4栅极电阻控制极；5、 源极；6、栅极；7、栅氧化层；8、多晶硅；9、第二型体区；10、第一型源区；11、栅 极电阻；12、二氧化硅介质层；13、欧姆接触；14、体区/源区接触孔；15、栅极互联区域 接触孔；16、钨栓；17、铝铜化合物；18、钝化层；19、栅极金属导线1～2um线宽的区域。；

具体实施方式

以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本发明，但不以任何形式限制本发 明。对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变化 和改进，这些都属于本发明的保护范围。在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于 该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围 来说，各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间，以及单独的点值之 间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应被视为在本文中具体公 开，下面结合具体实施例对本发明进行详细说明：

一种栅极电阻可调的超结型功率器件及其制造方法，包括如下步骤：

步骤S1、在硅衬底上表面化学气相沉积一层本征外延层；通过离子注入在所述外延层 掺杂五价元素，所述五价元素包括砷、磷，本实施例具体为砷元素。

步骤S2、在所述本征外延层的上表面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶或光刻胶与 其它绝缘体掩模组成的多层组合结构。

步骤S3、通过光刻工艺在掩膜上定义P型区图形；通过离子注入在所述外延层掺杂三 价元素硼元素；然后通过干蚀刻搭配湿法蚀刻去除掩膜。

步骤S4、重复步骤S1至S3至本征外延层的厚度为50um；所述步骤S4中每重复步骤S1至S3均按照器件设计需求单独定义三价元素和五价元素离子注入的工艺条件。

步骤S5、通过热氧化方法对生长栅极氧化层，然后通过低压化学气象淀积原位掺杂的 栅极多晶硅；所述栅极氧化层的厚度为80nm；所述栅极多晶硅的厚度为700nm。

步骤S6、在所述栅极多晶硅上面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶；通过光刻工艺 在掩膜上定义栅极图形，然后通过干法蚀刻形成栅极结构；然后通过干蚀刻搭配湿法蚀刻 去除掩膜；

栅极图形定义元胞区金属氧化物场效应晶体管的栅极图形和栅极电阻可调结构的图 形，所述栅极电阻可调结构的图形为设计独立的5um线宽的栅极电阻图形，平行串联到栅 极回路中的3个独立栅极电阻使栅极电阻的可调范围为1欧姆至30欧姆。

步骤S7、在外延层上表面通过离子注入五价元素杂质得到体区，所述五价元素包括砷、 磷，本实施例具体为磷元素，然后通过热工艺对体区的杂质进行激活。

步骤S8、在外延层上表面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶与其它绝缘体掩模组成 的多层组合结构；通过光刻工艺在掩膜上定义源区图形，通过离子注入五价元素杂质在体 区上表面得到源极，所述五价元素包括砷、磷，本实施例具体为砷元素，然后通过干蚀刻 搭配湿法蚀刻去除掩膜，再通过热工艺对源区的杂质进行激活。

步骤S9、在外延层上表面通过离子注入三价元素硼元素得到高掺杂的欧姆接触区，最 终得到元胞结构和栅极电阻可调结构。

步骤S10、通过化学气象淀积形成二氧化硅介质层。

步骤S11、通过光刻工艺使用光刻胶定义源区接触孔图形、栅极区域接触孔图形和栅 极电阻可调结构的接触孔图形；所述源区接触孔图形位于源极和体区的上方，用于将源极 和体区一同引出；所述栅极区域接触孔图形位于栅极多晶硅的上方，同时在源区中定义无 源区接触孔的区域用于放置栅极金属块；所述栅极电阻可调结构的接触孔位于栅极电阻可 调结构的上方，用于连接栅极区域与栅极电阻可调结构。

步骤S12、通过干法蚀刻二氧化硅介质层，得到源区接触孔、栅极区域接触孔和栅极 电阻可调结构的接触孔。

步骤S13、通过物理气象淀积工艺淀积金属作为粘合层，淀积金属氮化物作为阻挡层， 再利用快速热退化工艺形成硅化物，所述金属包括钛、钴、钽中的一种或多种，本实施例 具体为金属钛。

步骤S14、通过钨栓工艺淀积金属钨，通过干法刻蚀方法去除掉接触孔以外的金属钨， 在源区接触孔、栅极区域接触孔和栅极电阻可调结构的接触孔中形成钨栓。

步骤S15、在钨栓上方通过物理气象淀积铝铜化合物，通过光刻工艺使用光刻胶定义 源极金属导线图形、栅极金属导线图形和栅极电阻可调结构控制极图形；通过干法蚀刻得 到源极、栅极、栅极电阻可调结构控制极；

所述源极金属导线图形位于源区上方；

所述栅极金属导线图形通过围绕着元胞区边缘走线将栅极经由栅极区域接触孔互联 至源区无源区接触孔的区域形成栅极金属块；

所述栅极电阻可调结构控制极图形通过独立的金属导线将独立的栅极电阻可调结构 通过栅极电阻可调结构的接触孔并联在栅极区域接触孔与栅极金属块之间，同时在每个独 立的栅极可调电阻与栅极金属块之间引出独立的栅极电阻可调结构控制极。

所述步骤S15中所述栅极电阻可调结构控制极图形会将独立栅极可调电阻金属导线与 独立的栅极电阻可调结构控制极金属导线交汇点之后的用于与栅极金属块互联的金属导 线线宽为1.5um。

步骤S16、淀积钝化层，通过光刻工艺使用光刻胶定义源极金属接触区、栅极金属接 触区和栅极电阻可调结构控制极接触区；通过干法蚀刻得到源极金属接触区、栅极金属接 触区、栅极电阻可调结构控制极接触区；所述钝化层为氮化硅。

最终得到一种栅极电阻可调的超结型功率器件，本发明无需就不同的栅极电阻需求而 变更栅极、接触通孔、金属导线层的版图和重新制作掩模版并流片，减少成本支出；通过 栅极电阻控制极分别对每个独立的栅极电阻进行开路控制以实现对栅极电阻的调整；还能 够提高器件在应用时的通用性。

一种栅极电阻可调的超结型功率器件及其制造方法，包括如下步骤：

步骤S1、在硅衬底上表面化学气相沉积一层本征外延层；通过离子注入在所述外延层 掺杂五价元素，所述五价元素包括砷、磷，本实施例具体为磷元素。

步骤S2、在所述本征外延层的上表面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶与其它绝缘 体掩模组成的多层组合结构。

步骤S3、通过光刻工艺在掩膜上定义P型区图形；通过离子注入在所述外延层掺杂三 价元素硼元素；然后通过干蚀刻搭配湿法蚀刻去除掩膜。

步骤S4、重复步骤S1至S3至本征外延层的厚度为30um；所述步骤S4中每重复步骤S1至S3均按照器件设计需求单独定义三价元素和五价元素离子注入的工艺条件。

步骤S5、通过热氧化方法对生长栅极氧化层，然后通过低压化学气象淀积原位掺杂的 栅极多晶硅；所述栅极氧化层的厚度为10nm；所述栅极多晶硅的厚度为500nm。

步骤S6、在所述栅极多晶硅上面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶；通过光刻工艺 在掩膜上定义栅极图形，然后通过干法蚀刻形成栅极结构；然后通过干蚀刻搭配湿法蚀刻 去除掩膜；

栅极图形定义元胞区金属氧化物场效应晶体管的栅极图形和栅极电阻可调结构的图 形，所述栅极电阻可调结构的图形为设计独立的1-10um线宽的栅极电阻图形，平行串联 到栅极回路中的2-5个独立栅极电阻使栅极电阻的可调范围为1-30欧姆。

步骤S7、在外延层上表面通过离子注入五价元素杂质得到体区，所述五价元素包括砷、 磷，本实施例具体为砷元素，然后通过热工艺对体区的杂质进行激活。

步骤S8、在外延层上表面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶或光刻胶与其它绝缘体 掩模组成的多层组合结构；通过光刻工艺在掩膜上定义源区图形，通过离子注入五价元素 杂质在体区上表面得到源极，所述五价元素包括砷、磷，本实施例具体为磷元素，然后通 过干蚀刻搭配湿法蚀刻去除掩膜，再通过热工艺对源区的杂质进行激活。

步骤S9、在外延层上表面通过离子注入三价元素硼元素得到高掺杂的欧姆接触区，最 终得到元胞结构和栅极电阻可调结构。

步骤S10、通过化学气象淀积形成二氧化硅介质层。

步骤S11、通过光刻工艺使用光刻胶定义源区接触孔图形、栅极区域接触孔图形和栅 极电阻可调结构的接触孔图形；所述源区接触孔图形位于源极和体区的上方，用于将源极 和体区一同引出；所述栅极区域接触孔图形位于栅极多晶硅的上方，同时在源区中定义无 源区接触孔的区域用于放置栅极金属块；所述栅极电阻可调结构的接触孔位于栅极电阻可 调结构的上方，用于连接栅极区域与栅极电阻可调结构。

步骤S12、通过干法蚀刻二氧化硅介质层，得到源区接触孔、栅极区域接触孔和栅极 电阻可调结构的接触孔。

步骤S13、通过物理气象淀积工艺淀积金属作为粘合层，淀积金属氮化物作为阻挡层， 再利用快速热退化工艺形成硅化物，所述金属包括钛、钴、钽中的一种或多种，本实施例 具体为金属钴。

步骤S14、通过钨栓工艺淀积金属钨，通过干法刻蚀方法去除掉接触孔以外的金属钨， 在源区接触孔、栅极区域接触孔和栅极电阻可调结构的接触孔中形成钨栓。

步骤S15、在钨栓上方通过物理气象淀积铝铜化合物，通过光刻工艺使用光刻胶定义 源极金属导线图形、栅极金属导线图形和栅极电阻可调结构控制极图形；通过干法蚀刻得 到源极、栅极、栅极电阻可调结构控制极；

所述源极金属导线图形位于源区上方；

所述栅极金属导线图形通过围绕着元胞区边缘走线将栅极经由栅极区域接触孔互联 至源区无源区接触孔的区域形成栅极金属块；

所述栅极电阻可调结构控制极图形通过独立的金属导线将独立的栅极电阻可调结构 通过栅极电阻可调结构的接触孔并联在栅极区域接触孔与栅极金属块之间，同时在每个独 立的栅极可调电阻与栅极金属块之间引出独立的栅极电阻可调结构控制极。

所述步骤S15中所述栅极电阻可调结构控制极图形会将独立栅极可调电阻金属导线与 独立的栅极电阻可调结构控制极金属导线交汇点之后的用于与栅极金属块互联的金属导 线线宽为1um。

步骤S16、淀积钝化层，通过光刻工艺使用光刻胶定义源极金属接触区、栅极金属接 触区和栅极电阻可调结构控制极接触区；通过干法蚀刻得到源极金属接触区、栅极金属接 触区、栅极电阻可调结构控制极接触区；所述钝化层为氮化硅。

最终得到一种栅极电阻可调的超结型功率器件，本发明无需就不同的栅极电阻需求而 变更栅极、接触通孔、金属导线层的版图和重新制作掩模版并流片，减少成本支出；通过 栅极电阻控制极分别对每个独立的栅极电阻进行开路控制以实现对栅极电阻的调整；还能 够提高器件在应用时的通用性。

一种栅极电阻可调的超结型功率器件及其制造方法，包括如下步骤：

步骤S1、在硅衬底上表面化学气相沉积一层本征外延层；通过离子注入在所述外延层 掺杂五价元素，所述五价元素包括砷、磷，本实施例具体为砷元素。

步骤S2、在所述本征外延层的上表面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶。

步骤S3、通过光刻工艺在掩膜上定义P型区图形；通过离子注入在所述外延层掺杂三 价元素硼元素；然后通过干蚀刻搭配湿法蚀刻去除掩膜。

步骤S4、重复步骤S1至S3至本征外延层的厚度为70um；所述步骤S4中每重复步骤S1至S3均按照器件设计需求单独定义三价元素和五价元素离子注入的工艺条件。

步骤S5、通过热氧化方法对生长栅极氧化层，然后通过低压化学气象淀积原位掺杂的 栅极多晶硅；所述栅极氧化层的厚度为150nm；所述栅极多晶硅的厚度为1000nm。

步骤S6、在所述栅极多晶硅上面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶；通过光刻工艺 在掩膜上定义栅极图形，然后通过干法蚀刻形成栅极结构；然后通过干蚀刻搭配湿法蚀刻 去除掩膜；

栅极图形定义元胞区金属氧化物场效应晶体管的栅极图形和栅极电阻可调结构的图 形，所述栅极电阻可调结构的图形为设计独立的1-10um线宽的栅极电阻图形，平行串联 到栅极回路中的2-5个独立栅极电阻使栅极电阻的可调范围为1-30欧姆。

步骤S7、在外延层上表面通过离子注入五价元素杂质得到体区，所述五价元素包括砷、 磷，本实施例具体为磷元素，然后通过热工艺对体区的杂质进行激活。

步骤S8、在外延层上表面沉积掩膜，所述掩膜的成分为光刻胶或光刻胶与其它绝缘体 掩模组成的多层组合结构；通过光刻工艺在掩膜上定义源区图形，通过离子注入五价元素 杂质在体区上表面得到源极，所述五价元素包括砷、磷，本实施例具体为砷元素，然后通 过干蚀刻搭配湿法蚀刻去除掩膜，再通过热工艺对源区的杂质进行激活。

步骤S9、在外延层上表面通过离子注入三价元素硼元素得到高掺杂的欧姆接触区，最 终得到元胞结构和栅极电阻可调结构。

步骤S10、通过化学气象淀积形成二氧化硅介质层。

步骤S11、通过光刻工艺使用光刻胶定义源区接触孔图形、栅极区域接触孔图形和栅 极电阻可调结构的接触孔图形；所述源区接触孔图形位于源极和体区的上方，用于将源极 和体区一同引出；所述栅极区域接触孔图形位于栅极多晶硅的上方，同时在源区中定义无 源区接触孔的区域用于放置栅极金属块；所述栅极电阻可调结构的接触孔位于栅极电阻可 调结构的上方，用于连接栅极区域与栅极电阻可调结构。

步骤S12、通过干法蚀刻二氧化硅介质层，得到源区接触孔、栅极区域接触孔和栅极 电阻可调结构的接触孔。

步骤S13、通过物理气象淀积工艺淀积金属作为粘合层，淀积金属氮化物作为阻挡层， 再利用快速热退化工艺形成硅化物，所述金属包括钛、钴、钽中的一种或多种，本实施例 具体为金属钽。

步骤S14、通过钨栓工艺淀积金属钨，通过干法刻蚀方法去除掉接触孔以外的金属钨， 在源区接触孔、栅极区域接触孔和栅极电阻可调结构的接触孔中形成钨栓。

步骤S15、在钨栓上方通过物理气象淀积铝铜化合物，通过光刻工艺使用光刻胶定义 源极金属导线图形、栅极金属导线图形和栅极电阻可调结构控制极图形；通过干法蚀刻得 到源极、栅极、栅极电阻可调结构控制极；

所述源极金属导线图形位于源区上方；

所述栅极金属导线图形通过围绕着元胞区边缘走线将栅极经由栅极区域接触孔互联 至源区无源区接触孔的区域形成栅极金属块；

所述栅极电阻可调结构控制极图形通过独立的金属导线将独立的栅极电阻可调结构 通过栅极电阻可调结构的接触孔并联在栅极区域接触孔与栅极金属块之间，同时在每个独 立的栅极可调电阻与栅极金属块之间引出独立的栅极电阻可调结构控制极。

所述步骤S15中所述栅极电阻可调结构控制极图形会将独立栅极可调电阻金属导线与 独立的栅极电阻可调结构控制极金属导线交汇点之后的用于与栅极金属块互联的金属导 线线宽为2um。

步骤S16、淀积钝化层，通过光刻工艺使用光刻胶定义源极金属接触区、栅极金属接 触区和栅极电阻可调结构控制极接触区；通过干法蚀刻得到源极金属接触区、栅极金属接 触区、栅极电阻可调结构控制极接触区；所述钝化层为二氧化硅。

最终得到一种栅极电阻可调的超结型功率器件，本发明无需就不同的栅极电阻需求而 变更栅极、接触通孔、金属导线层的版图和重新制作掩模版并流片，减少成本支出；通过 栅极电阻控制极分别对每个独立的栅极电阻进行开路控制以实现对栅极电阻的调整；还能 够提高器件在应用时的通用性。

以上对本发明的具体实施例进行了描述。需要理解的是，本发明并不局限于上述特定实施方式，本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变化或修改，这并 不影响本发明的实质内容。在不冲突的情况下，本申请的实施例和实施例中的特征可 以任意相互组合。