一种精制棉废水处理及回用工艺

技术领域

本发明涉及废水处理及回用工艺的技术领域，尤其是涉及精制棉的废水处理及回用工艺的技术领域。

背景技术

精制棉废水主要来自精制棉生产的蒸煮与漂白两个工序。蒸煮是将棉短绒进行脱脂，这个过程会产生大量含碱的废液，也称蒸煮黑液；漂白是将棉浆进行漂白、洗涤等处理，此处理过程会产生大量的漂洗废水。这两种废水统称为精制棉废水。

精制棉生产过程产生的废水量大，而且废水中有机物含量高。传统的精制棉废水处理方法主要以物化法与生物法相结合处理工艺，虽能达到GB9878-1996污水综合排放标准中一级排放标准，但由于废水中残留的溶解性有机物与大量的氯离子，会大幅降低产品聚合度和透光率。同时，对该废水进行再处理回用，处理回用成本很高，生产企业往往难以接受，导致精制棉生产废水长期得不到循环利用，高耗水、高排放，既增加了生产成本和废水治理成本，又影响了企业可持续发展。

发明内容

本发明为了解决上述技术之不足而提供一种成本较低、处理效果好的精制棉废水处理及回用工艺。

一种精制棉废水处理及回用工艺，其具体工艺步骤如下：

a、精制棉废水进入氧化池内，调节废水的PH值为3—4，向氧化池内添加氧化助剂和易分解的氧化剂，氧化助剂的添加浓度为3—5mol/m

b、废水在曝光池内阳光照射3—8小时，直至水中无明显气泡生成，达到去除废水中残留的易分解有机物目的；

c、废水经上述过程处理后，依次经过滤网、石英砂过滤器和活性炭过滤器对废水进行过滤；

d、将上述过滤后的废水通过加压泵调节废水压力至0.75—0.9MPa后，再经微滤膜过滤，去除废水中的悬浮物及大分子杂质，此时废水中残留的多为小分子有机物与氯离子；

e、经微滤膜过滤的废水添加阻垢剂后，依次通入一次反渗透过滤装置和二次反渗透过滤装置，除去废水中的氯离子和小分子有机物，一次反渗透过滤装置的浓水进入浓缩池，一次反渗透过滤装置的淡水进入二次反渗透过滤装置，二次反渗透过滤装置的浓水经加压泵后再次经微滤膜过滤，二次反渗透过滤装置的淡水即可回用，所述阻垢剂的添加浓度为10g-20g/m

所述氧化助剂为硫酸亚铁，所述易分解的氧化剂为双氧水、臭氧或二氧化氯。

所述一次反渗透过滤装置中浓淡出水比为1:4，二次反渗透过滤装置浓淡出水比为1:7。

所述阻垢剂由如下重量份材料构成：10-12份聚天冬氨酸、5-8份聚环氧琥珀酸、3-6份十二烷基苄基氯化铵、3-5份十二烷基二甲基苄基溴化铵和2-3份聚丙烯酸。

所述曝光池周围装有紫外线照射器。

所述石英砂过滤器、活性炭过滤器、一次反渗透过滤装置和二次反渗透过滤装置都装有反清洗系统。

本发明采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是：

1、采用反渗透法用于精制棉废水的处理，较好的去除了废水的氯离子，使废水能够无影响的回用于精制棉的生产工艺。为了解决反渗透膜存在有机物污堵、微生物污染、化学结垢以及颗粒污堵等方面的问题，本工艺先通过氧化法作为反渗透处理的一项前处理工艺，使废水中的有机物降低、微生物死亡，再通过滤网、石英砂过滤器、活性炭过滤器和微滤膜减少后期反渗透过滤膜颗粒污堵问题，通过阻垢剂的复配减少化学结垢的影响，并通过在氧化池中添加易分解氧化物与曝光池降低废水中的强氧化剂对反渗透过滤膜的腐蚀与损耗，延长了反渗透过滤膜的使用寿命，稳定了反渗透过滤膜使用效果。

2、在氧化池中，通过调节pH，同时投加氧化助剂和易分解氧化剂，用于废水的氧化和杀菌处理，有效去除了废水中的微生物和有机物。

3、在曝光池中，通过紫外线照射器，再次去除了废水中残留的易分解有机物和微生物，减小了微生物在后续反渗透膜中生成菌落的可能性，降低造成反渗透微生物污堵可能性。同时还可阻止废水在后续处理过程中对一次反渗透装置和二次反渗透装置中反渗透膜的腐蚀。

4、本工艺中石英砂过滤器与活性炭过滤器都装有反清洗系统，防止使用时间过长石英砂过滤器与活性炭过滤器堵塞与处理效果变差。

5、本工艺采用新型阻垢剂的复配，与传统的阻垢剂相比，新型阻垢剂对环境污染小，安全环保，且易于分解，更便于反渗透浓水的处理。同时，可有效防止废水中的Ca

6、本工艺中废水经最后的一次反渗透过滤装置和二次反渗透过滤装置处理后，有效去除了废水中氯离子和小分子有机物，最终达到了回用的目的。

7、本工艺通过对不同的废水进行不同的处理，通过将二次反渗透淡水回用处理，COD去除80%以上，氯离子去除达95%以上，保证了废水回用质量，通过二次反渗透浓水循环反渗透减少水资源浪费，通过将一次反渗透浓废水浓缩，减少了精制棉废水的排放。

附图说明

图1为本发明的工艺流程示意图。

具体实施方式

下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

实施例1：

一种精制棉废水处理及回用工艺，其具体工艺步骤如下：

a、精制棉废水进入氧化池内，调节废水的PH值为3，向氧化池内添加氧化助剂和易分解的氧化剂，所述氧化助剂为硫酸亚铁，所述易分解的氧化剂为双氧水、臭氧或二氧化氯，氧化助剂的添加浓度为3mol/m

b、废水在曝光池内阳光照射3小时，直至水中无明显气泡生成，达到去除废水中残留的易分解有机物目的，在所述曝光池周围还可装有紫外线照射器；

c、废水经上述过程处理后，依次经过滤网、石英砂过滤器和活性炭过滤器对废水进行过滤，所述石英砂过滤器和活性炭过滤器都装有反清洗系统；

d、将上述过滤后的废水通过加压泵调节废水压力至0.75MPa后，再经微滤膜过滤，去除废水中的悬浮物及大分子杂质，此时废水中残留的多为小分子有机物与氯离子；

e、经微滤膜过滤的废水添加阻垢剂后，依次通入一次反渗透过滤装置和二次反渗透过滤装置，除去废水中的氯离子和小分子有机物，一次反渗透过滤装置的浓水进入浓缩池，一次反渗透过滤装置的淡水进入二次反渗透过滤装置，所述一次反渗透过滤装置中浓淡出水比为1:4，二次反渗透过滤装置的浓水经加压泵后再次经微滤膜过滤，二次反渗透过滤装置的淡水即可回用，所述二次反渗透过滤装置浓淡出水比为1:7，所述阻垢剂由如下重量份材料构成：10份聚天冬氨酸、5份聚环氧琥珀酸、3份十二烷基苄基氯化铵、3份十二烷基二甲基苄基溴化铵和2份聚丙烯酸，所述阻垢剂的添加浓度为10g/m

实施例2：

一种精制棉废水处理及回用工艺，其具体工艺步骤如下：

a、精制棉废水进入氧化池内，调节废水的PH值为4，向氧化池内添加氧化助剂和易分解的氧化剂，所述氧化助剂为硫酸亚铁，所述易分解的氧化剂为双氧水、臭氧或二氧化氯，氧化助剂的添加浓度为5mol/m

b、废水在曝光池内阳光照射8小时，直至水中无明显气泡生成，达到去除废水中残留的易分解有机物目的，在所述曝光池周围还可装有紫外线照射器；

c、废水经上述过程处理后，依次经过滤网、石英砂过滤器和活性炭过滤器对废水进行过滤，所述石英砂过滤器和活性炭过滤器都装有反清洗系统；

d、将上述过滤后的废水通过加压泵调节废水压力至0.9MPa后，再经微滤膜过滤，去除废水中的悬浮物及大分子杂质，此时废水中残留的多为小分子有机物与氯离子；

e、经微滤膜过滤的废水添加阻垢剂后，依次通入一次反渗透过滤装置和二次反渗透过滤装置，除去废水中的氯离子和小分子有机物，一次反渗透过滤装置的浓水进入浓缩池，一次反渗透过滤装置的淡水进入二次反渗透过滤装置，所述一次反渗透过滤装置中浓淡出水比为1:4，二次反渗透过滤装置的浓水经加压泵后再次经微滤膜过滤，二次反渗透过滤装置的淡水即可回用，所述二次反渗透过滤装置浓淡出水比为1:7，所述阻垢剂由如下重量份材料构成：12份聚天冬氨酸、8份聚环氧琥珀酸、6份十二烷基苄基氯化铵、5份十二烷基二甲基苄基溴化铵和3份聚丙烯酸，所述阻垢剂的添加浓度为20g/m

实施例3：

一种精制棉废水处理及回用工艺，其具体工艺步骤如下：

a、精制棉废水进入氧化池内，调节废水的PH值为3.6，向氧化池内添加氧化助剂和易分解的氧化剂，所述氧化助剂为硫酸亚铁，所述易分解的氧化剂为双氧水、臭氧或二氧化氯，氧化助剂的添加浓度为4mol/m

b、废水在曝光池内阳光照射6.8小时，直至水中无明显气泡生成，达到去除废水中残留的易分解有机物目的，在所述曝光池周围还可装有紫外线照射器；

c、废水经上述过程处理后，依次经过滤网、石英砂过滤器和活性炭过滤器对废水进行过滤，所述石英砂过滤器和活性炭过滤器都装有反清洗系统；

d、将上述过滤后的废水通过加压泵调节废水压力至0.85MPa后，再经微滤膜过滤，去除废水中的悬浮物及大分子杂质，此时废水中残留的多为小分子有机物与氯离子；

e、经微滤膜过滤的废水添加阻垢剂后，依次通入一次反渗透过滤装置和二次反渗透过滤装置，除去废水中的氯离子和小分子有机物，一次反渗透过滤装置的浓水进入浓缩池，一次反渗透过滤装置的淡水进入二次反渗透过滤装置，所述一次反渗透过滤装置中浓淡出水比为1:4，二次反渗透过滤装置的浓水经加压泵后再次经微滤膜过滤，二次反渗透过滤装置的淡水即可回用，所述二次反渗透过滤装置浓淡出水比为1:7，所述阻垢剂由如下重量份材料构成：11份聚天冬氨酸、7.6份聚环氧琥珀酸、5份十二烷基苄基氯化铵、4份十二烷基二甲基苄基溴化铵和2.5份聚丙烯酸，所述阻垢剂的添加浓度为15g/m

其废水具体运行数据为：

根据以上数据可得，经过处理后的废水氯离子降低到20mg/L以下，去除率达到95%以上，COD降低为30mg/L以下，去除率高达80%以上。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。