光学元件镀膜工艺

技术领域

本发明涉及光学元件生产技术领域，具体涉及一种光学元件镀膜工艺。

背景技术

透镜是用透明物质制成的表面为球面一部分的光学元件，镜头是由几片透镜组成的，有塑胶透镜(plastic)和玻璃透镜(glass)两种，玻璃透镜比塑胶贵。通常摄像头用的镜头构造有：1P、2P、1G1P、1G2P、2G2P、4G等，透镜越多，成本越高。因此一个品质好的摄像头应该是采用玻璃镜头的，其成像效果要比塑胶镜头好，在天文、军事、交通、医学、艺术等领域发挥着重要作用。在我们生活中透镜的运用已经越来越多，透镜的生产技术也越来越成熟。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种光学元件镀膜工艺，提高良品率，提高产品透光率。

为解决上述技术问题，本发明采取如下技术方案：一种光学元件镀膜工艺，包括以下步骤：S1:将装有光学元件的夹具固定安装至工件盘上；S2:利用工件盘安装组件将工件盘安装至镀膜机的顶部；S3:向镀膜机底部的蒸发组件内添加镀膜液，蒸发组件设置有三个蒸发源，分别为蒸发源A、蒸发源B和蒸发源C；S4:关闭镀膜机，抽真空，然后向镀膜机内注入用于产生离子的气体，并加温加压。

进一步地，所述的工件盘安装组件包括移动小车和对接组件；将工件盘放置于移动小车上，移动小车移动至镀膜机处，镀膜机的两侧设置有对接组件，移动小车上的工件盘与对接组件对接，工件盘上设置有一对感应对接组件位置的感应组件；移动小车通过旋转组件转动工件盘，当一对感应组件均感应到对接组件后，移动小车将工件盘朝向镀膜机推送，使工件盘与对接组件对接，当工件盘与对接组件对接后，对接组件带动工件盘移动至镀膜机内；然后根据需要时对接组件上升至合适的位置即可。

进一步地，所述的镀膜液按照重量份计包括：乙醇120-160份、木醇80-100份，丁内酯100-120份、氰基丙烯酸酯100-120份，浓度为15wt％-28wt％的氨水溶液100-120份、纯水400-450份、环氧树脂160-180份、二氧化硅溶胶20-40份、超分散硅溶胶10-20份。

进一步地，所述的镀膜液按照重量份计包括：乙醇130份、木醇90份，丁内酯105份、氰基丙烯酸酯110份，浓度为15wt％-28wt％的氨水溶液110份、纯水430份、环氧树脂165份。

进一步地，所述蒸发源A、蒸发源B和蒸发源C三点共圆；在蒸发源A和蒸发源B的上方设置有弧形罩一；蒸发源B和蒸发源C之间设置有弧形罩二；在蒸发源A和蒸发源C的上方设置有弧形罩三；弧形罩一位于蒸发源A和蒸发源B之间，弧形罩二位于蒸发源B和蒸发源C之间；弧形罩三位于蒸发源A和蒸发源C之间；弧形罩一、弧形罩二和弧形罩三构成的圆形的中心设置弧形罩四；弧形罩与蒸发组件的垂直距离为弧形罩与工件盘距离的2-3倍。

进一步地，弧形罩的半径为工件盘直径的四分之一。

进一步地，步骤S4向镀膜机内注入氮离子束。

本发明的有益效果为：

1）本发明采用低温镀膜技术，实现在光学原件上均匀镀膜，产品的良品率大大提高。

2）本发明有超分散硅溶胶可以让减反射膜的表面变得致密，而二氧化硅溶胶可以降低减反射膜的反射率，从而达到高透光率和高表面致密度及高表面硬度的要求。

具体实施方式

实施例1

本发明的一种光学元件镀膜工艺，包括以下步骤：

S1:将装有光学元件的夹具固定安装至工件盘上；

S2:利用工件盘安装组件将工件盘安装至镀膜机的顶部。

本发明的工件盘安装组件包括移动小车和对接组件；将工件盘放置于移动小车上，移动小车移动至镀膜机处，镀膜机的两侧设置有对接组件，移动小车上的工件盘与对接组件对接，工件盘上设置有一对感应对接组件位置的感应组件；移动小车通过旋转组件转动工件盘，当一对感应组件均感应到对接组件后，移动小车将工件盘朝向镀膜机推送，使工件盘与对接组件对接，当工件盘与对接组件对接后，对接组件带动工件盘移动至镀膜机内；然后根据需要时对接组件上升至合适的位置即可。

S3:向镀膜机底部的蒸发组件内添加镀膜液，蒸发组件设置有三个蒸发源，分别为蒸发源A、蒸发源B和蒸发源C。

镀膜液按照重量份计包括：乙醇120份、木醇80份，丁内酯100-120份、氰基丙烯酸酯100份，浓度为15wt％的氨水溶液100份、纯水400份、环氧树脂160份、二氧化硅溶胶20份、超分散硅溶胶10份。

本发明的蒸发源A、蒸发源B和蒸发源C三点共圆；在蒸发源A和蒸发源B的上方设置有弧形罩一；蒸发源B和蒸发源C之间设置有弧形罩二；在蒸发源A和蒸发源C的上方设置有弧形罩三；弧形罩一位于蒸发源A和蒸发源B之间，弧形罩二位于蒸发源B和蒸发源C之间；弧形罩三位于蒸发源A和蒸发源C之间；弧形罩一、弧形罩二和弧形罩三构成的圆形的中心设置弧形罩四；弧形罩与蒸发组件的垂直距离为弧形罩与工件盘距离的2-3倍。

本发明的弧形罩的半径为工件盘直径的四分之一。

S4:关闭镀膜机，抽真空，然后向镀膜机内注入用于产生离子的气体，并加温加压。本发明的步骤S4向镀膜机内注入氮离子束。

实施例2

一种光学元件镀膜工艺，包括以下步骤：

S1:将装有光学元件的夹具固定安装至工件盘上；

S2:利用工件盘安装组件将工件盘安装至镀膜机的顶部。

本发明的工件盘安装组件包括移动小车和对接组件；将工件盘放置于移动小车上，移动小车移动至镀膜机处，镀膜机的两侧设置有对接组件，移动小车上的工件盘与对接组件对接，工件盘上设置有一对感应对接组件位置的感应组件；移动小车通过旋转组件转动工件盘，当一对感应组件均感应到对接组件后，移动小车将工件盘朝向镀膜机推送，使工件盘与对接组件对接，当工件盘与对接组件对接后，对接组件带动工件盘移动至镀膜机内；然后根据需要时对接组件上升至合适的位置即可。

S3:向镀膜机底部的蒸发组件内添加镀膜液，蒸发组件设置有三个蒸发源，分别为蒸发源A、蒸发源B和蒸发源C。

镀膜液按照重量份计包括：乙醇160份、木醇100份，丁内酯120份、氰基丙烯酸酯120份，浓度为28wt％的氨水溶液120份、纯水450份、环氧树脂180份、二氧化硅溶胶40份、超分散硅溶胶20份。

本发明的蒸发源A、蒸发源B和蒸发源C三点共圆；在蒸发源A和蒸发源B的上方设置有弧形罩一；蒸发源B和蒸发源C之间设置有弧形罩二；在蒸发源A和蒸发源C的上方设置有弧形罩三；弧形罩一位于蒸发源A和蒸发源B之间，弧形罩二位于蒸发源B和蒸发源C之间；弧形罩三位于蒸发源A和蒸发源C之间；弧形罩一、弧形罩二和弧形罩三构成的圆形的中心设置弧形罩四；弧形罩与蒸发组件的垂直距离为弧形罩与工件盘距离的3倍。

本发明的弧形罩的半径为工件盘直径的四分之一。

S4:关闭镀膜机，抽真空，然后向镀膜机内注入用于产生离子的气体，并加温加压。本发明的步骤S4向镀膜机内注入氮离子束。

实施例3

本发明的一种光学元件镀膜工艺，包括以下步骤：

S1:将装有光学元件的夹具固定安装至工件盘上；

S2:利用工件盘安装组件将工件盘安装至镀膜机的顶部。

本发明的工件盘安装组件包括移动小车和对接组件；将工件盘放置于移动小车上，移动小车移动至镀膜机处，镀膜机的两侧设置有对接组件，移动小车上的工件盘与对接组件对接，工件盘上设置有一对感应对接组件位置的感应组件；移动小车通过旋转组件转动工件盘，当一对感应组件均感应到对接组件后，移动小车将工件盘朝向镀膜机推送，使工件盘与对接组件对接，当工件盘与对接组件对接后，对接组件带动工件盘移动至镀膜机内；然后根据需要时对接组件上升至合适的位置即可。

S3:向镀膜机底部的蒸发组件内添加镀膜液，蒸发组件设置有三个蒸发源，分别为蒸发源A、蒸发源B和蒸发源C。

本发明的镀膜液按照重量份计包括：乙醇130份、木醇90份，丁内酯105份、氰基丙烯酸酯110份，浓度为15wt％-28wt％的氨水溶液110份、纯水430份、环氧树脂165份。

本发明的蒸发源A、蒸发源B和蒸发源C三点共圆；在蒸发源A和蒸发源B的上方设置有弧形罩一；蒸发源B和蒸发源C之间设置有弧形罩二；在蒸发源A和蒸发源C的上方设置有弧形罩三；弧形罩一位于蒸发源A和蒸发源B之间，弧形罩二位于蒸发源B和蒸发源C之间；弧形罩三位于蒸发源A和蒸发源C之间；弧形罩一、弧形罩二和弧形罩三构成的圆形的中心设置弧形罩四；弧形罩与蒸发组件的垂直距离为弧形罩与工件盘距离的2.4倍。

本发明的弧形罩的半径为工件盘直径的四分之一。

S4:关闭镀膜机，抽真空，然后向镀膜机内注入用于产生离子的气体，并加温加压。本发明的步骤S4向镀膜机内注入氮离子束。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，不用于限制本发明，本领域技术人员可以在本发明的实质和保护范围内，对本发明做出各种修改或等同替换，这种修改或等同替换也应视为落在本发明技术方案的保护范围内。