检测方法、面密度设备、检测装置和存储介质

技术领域

本申请涉及测试技术领域，尤其涉及一种检测方法、面密度设备、检测装置和存储介质。

背景技术

面密度设备是一种检测片状物体的厚度和/或密度的设备。面密度设备一般包括放射源和电离室，在面密度设备工作时，被检物体设置在放射源和电离室之间，放射源向被测物体发射射线，射线经过被测物体后进入电离室，电离室根据射线的衰减程度确定被测物体的厚度和/或密度。然而，在面密度设备的使用时间过长时，放射源和电离室之间的相对位置可能发生改变，造成测量结果不准确。

发明内容

本申请实施方式提供了一种检测方法、面密度设备、检测装置和存储介质，能够至少部分解决在面密度设备的使用时间过长时，放射源和电离室之间的相对位置可能发生改变，造成测量结果不准确的技术问题。

本申请实施方式面密度设备的检测方法中，所述面密度设备包括放射源和与所述放射源间隔设置的电离室，所述检测方法包括：

在所述面密度设备工作过程中，获取所述放射源的第一当前位姿和所述电离室的第二当前位姿；

根据所述第一当前位姿确认所述放射源的第一位姿偏差；

根据所述第二当前位姿确认所述电离室的第二位姿偏差；

根据所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差确定所述放射源相对于所述电离室是否发生位姿改变。

本申请实施方式的检测方法中，先分别获取放射源和电离室的当前位姿，再根据当前位姿确认放射源相对于电离室是否发生位姿改变，从而可以在放射源相对于电离室发生位姿改变时执行相应的措施，以提高面密度设备的测量结果的准确度。

另外，在面密度设备工作过程中对放射源和电离室的位姿进行检测，使得面密度设备无需停机，检测过程更加方便，有利于实时修正面密度设备的测量结果，使得面密度设备的检测效率更高。

在某些实施方式中，所述获取所述放射源的第一当前位姿和所述电离室的第二当前位姿，包括：

获取所述放射源和所述电离室在至少一个方向上的当前位置以确定所述第一当前位姿和所述第二当前位姿。

如此，第一当前位姿和第二当前位姿更加容易确定。

在某些实施方式中，获取所述放射源和所述电离室在至少一个方向上的当前位置以确定所述第一当前位姿和所述第二当前位姿，包括：

获取所述放射源在第一方向上的第一当前位置，所述第一方向与所述放射源的运动方向相同；

获取所述电离室在第一方向上的第二当前位置，所述第一当前位姿包括所述第一当前位置，所述第二当前位姿包括所述第二当前位置；

根据所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差确定所述放射源相对于所述电离室是否发生位姿改变，包括：

在所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差的偏差程度不同时，确定所述放射源相对于所述电离室在所述第一方向上发生位姿改变。

如此，这样可以检测电离室和放射源在第一方向上是否相对地发生位姿改变。

在某些实施方式中，所述获取所述放射源在第一方向上的第一当前位置，包括：

获取所述放射源两个不同部位在所述第一方向上的第一当前位置；

根据两个所述第一当前位置确定所述放射源的第一扭转量，所述第一当前位姿包括所述第一扭转量；

所述获取所述电离室在第一方向上的第二当前位置，包括；

获取所述电离室两个不同部位在第一方向上的第二当前位置；

根据两个所述第二当前位置确定所述电离室的第二扭转量，所述第二当前位姿包括所述第二扭转量；

根据所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差确定所述放射源相对于所述电离室是否发生位姿改变，包括：

在所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差的偏差程度不同时，确定所述放射源相对于所述电离室发生扭转位姿改变。

如此，这样可以确定放射源和电离室是否发生扭转状态的位姿改变。

在某些实施方式中，获取所述放射源和所述电离室在至少一个方向上的当前位置以确定所述第一当前位姿和所述第二当前位姿，包括：

获取所述放射源在第二方向上的第三当前位置，所述第二方向与所述放射源的运动方向垂直，所述第二方向与所述放射源和所述电离室的排布方向垂直；

获取所述放射源在第二方向上的第四当前位置，所述第一当前位姿包括所述第三当前位置，所述第二当前位姿包括所述第四当前位置；

根据所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差确定所述放射源相对于所述电离室是否发生位姿改变，包括：

在所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差的偏差程度不同时，确定所述放射源相对于所述电离室在所述第二方向上发生位姿改变。

如此，这样可以检测电离室和放射源在第二方向上是否相对地发生位姿改变。

在某些实施方式中，获取所述放射源和所述电离室在至少一个方向上的当前位置以确定所述第一当前位姿和所述第二当前位姿，包括：

获取所述放射源在第三方向上的第四当前位置，所述第三方向与所述放射源和所述电离室的排布方向相同；

获取所述放射源在第三方向上的第五当前位置，所述第一当前位姿包括所述第四当前位置，所述第二当前位姿包括所述第五当前位置；

根据所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差确定所述放射源相对于所述电离室是否发生位姿改变，包括：

在所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差的偏差程度不同时，确定所述放射源相对于所述电离室在所述第三方向上发生位姿改变。

如此，这样可以检测电离室和放射源在第三方向上是否相对地发生位姿改变。

在某些实施方式中，所述检测方法还包括：

在所述放射源相对于所述电离室发生位姿改变时，根据位姿改变量修正所述面密度设备的测量结果。

如此，根据位姿改变量修正所述面密度设备的测量结果，使得面密度设备的测量结果更加准确。

本申请实施方式的面密度设备，包括：

放射源；

与所述放射源间隔设置的电离室；

存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现以上任一实施方式所述方法的步骤。

如此，先分别获取放射源和电离室的当前位姿，再根据当前位姿确认放射源相对于电离室是否发生位姿改变，从而可以在放射源相对于电离室发生位姿改变时执行相应的措施，以提高面密度设备的测量结果的准确度。

在某些实施方式中，所述放射源和所述电离室上均设置有距离传感器，所述距离传感器用于检测所述放射源和所述电离室与预定位置之间的距离。

如此，根据距离传感器可以方便地获取到放射源和电离室的当前位姿。

一种检测装置，包括：

获取模块，用于在面密度设备工作过程中，获取所述面密度设备的放射源的第一当前位姿和所述面密度设备的电离室的第二当前位姿；

确认模块，用于根据所述第一当前位姿确认所述放射源的第一位姿偏差，及根据所述第二当前位姿确认所述电离室的第二位姿偏差；

确定模块，用于根据所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差确定所述放射源相对于所述电离室是否发生位姿改变。

如此，先分别获取放射源和电离室的当前位姿，再根据当前位姿确认放射源相对于电离室是否发生位姿改变，从而可以在放射源相对于电离室发生位姿改变时执行相应的措施，以提高面密度设备的测量结果的准确度。

一种计算机可执行指令的非易失性计算机可读存储介质，当所述计算机可执行指令被一个或多个处理器执行时，使得所述处理器执行以上任一实施方式所述的检测方法。

本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本申请其中一个实施方式的检测方法的流程示意图；

图2是本申请其中一个实施方式的面密度设备的立体图；

图3是本申请其中一个实施方式的放射源和电离室处于正常姿态的示意图；

图4是本申请其中一个实施方式的放射源相对于电离发生姿态改变的示意图；

图5是本申请其中一个实施方式的放射源相对于电离发生姿态改变的示意图；

图6是本申请其中一个实施方式的放射源相对于电离发生姿态改变的示意图；

图7是本申请其中一个实施方式的检测方法的流程示意图；

图8是本申请其中一个实施方式的检测方法的流程示意图；

图9是本申请其中一个实施方式的检测方法的流程示意图；

图10是本申请其中一个实施方式的检测方法的流程示意图；

图11是本申请其中一个实施方式的检测方法的流程示意图；

图12是本申请其中一个实施方式的检测方法中的计算原理示意图；

图13是本申请其中一个实施方式的检测方法的流程示意图；

图14是本申请其中一个实施方式的检测装置的模块示意图。

附图主要标记说明：

面密度设备100、放射源10、电离室20、第一预定位置30、第二预定位置40、第三预定位置50、第四预定位置60；

第一距离传感器101、第二距离传感器102、第三距离传感器103、第四距离传感器104、第五距离传感器105、第六距离传感器106、第七距离传感器107、第八距离传感器108；

检测装置200、获取模块210、确认模块220、确定模块230。

具体实施方式

下面将结合附图对本申请技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本申请的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本申请的保护范围。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本文中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。

在本申请实施例的描述中，技术术语“第一”“第二”等仅用于区别不同对象，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量、特定顺序或主次关系。在本申请实施例的描述中，“多个”的含义是两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

在本申请实施例的描述中，术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

在本申请实施例的描述中，术语“多个”指的是两个以上(包括两个)，同理，“多组”指的是两组以上(包括两组)，“多片”指的是两片以上(包括两片)。

在本申请实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，技术术语“安装”“相连”“连接”“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；也可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。

面密度设备是一种检测片状物体的厚度和/或密度的设备。面密度设备一般包括放射源和电离室，在面密度设备工作时，被检物体(例如电极片)设置在放射源和电离室之间，放射源向被测物体发射射线，射线经过被测物体后进入电离室，电离室根据射线的衰减程度确定被测物体的厚度和/或密度。

在面密度设备中，放射源和电离室一般安装在导轨上，在面密度设备组装、调试完成后，放射源和电离室在导轨上往复运动以对被测物体进行扫描检测。在密度设备持续使用一段时间后，如果面密度设备的导轨等零部件发生较大的变形、紧固件松动、传动件磨损等情况，会导致放射源与探测器的相对位姿出现变化，进而使得放射源发出并透过被测物体的有效射线无法被电离室全部接收，造成面密度设备的测量结果不准确。

发明人经过统计发现，若放射源和电离室横向错位4mm时，面密度设备的测量精度降低约11％；若放射源和电离室纵向错位4mm时，面密度设备的测量精度降低约5.5％；若放射源和电离室相对立面扭转2°时，面密度设备的测量精度降低约5％。

对于以上技术问题，发明人研究后，认为可以在面密度设备无需测量被测物体后，定时对面密度设备进行检修，从而保证面密度设备的测量精度。然而，这样可能出现面密度设备在两次检修过程中出现故障，致使大量的被测物体的测量结果出现错误，带来严重的经济损失。

基于此，发明人仔细研究后，发明人通过在面密度设备工作过程中实时检测放射源和电离室的相对位姿，从而确定放射源和电离室的相对位姿是否发生改变，以便及时地采取相应的措施提高面密度设备的检测精度，解决了放射源和电离室之间的相对位置可能发生改变，造成测量结果不准确的技术问题。

请参阅图1和图2，图1是本申请其中一个实施方式的检测方法的流程示意图。图2是本申请其中一个实施方式的面密度设备100的立体示意图。

本申请实施方式的检测方法用于面密度设备100，面密度设备100包括放射源10和与放射源10间隔设置的电离室20，检测方法包括：

S10，在面密度设备100工作过程中，获取放射源10的第一当前位姿和电离室20的第二当前位姿；

S20，根据第一当前位姿确认放射源10的第一位姿偏差；

S30，根据第二当前位姿确认电离室20的第二位姿偏差；

S40，根据第一位姿偏差和第二位姿偏差确定放射源10相对于电离室20是否发生位姿改变。

具体地，面密度设备100是一种检测片状物体的厚度和/或密度的设备。放射源10是用于发出探测射线的部件，探测射线例如为X射线。放射源10发出的射线朝向电离室20，或者说，放射源10向电离室20发出射线。电离室20是用于接收探测射线的部件，电离室20也称作探测器。如图2所示的方位中，电离室20设置在放射源10的上方。电离室20与放射源10之间具有间隙，被探测物体位于该间隙中。

在面密度设备100工作时，放射源10和电离室20可沿X方向(第一方向)同步往复移动，被探测物体可沿Y向(第二方向)运动，放射源10朝向Z向(第三方向)发出探测射线，使得探测射线穿过被测物体后进入电离室20被电离室20捕获，面密度设备100根据电离室20捕获到的探测射线的强度，可以计算得到被测物体单位面积上的重量(即面密度)。

在步骤S10中，面密度设备100的工作过程中指的是面密度设备100处于检测被测物体的面密度等参数的过程。放射源10的位姿为放射源10的位置和姿态，例如，放射源10相对于参照位置的距离，旋转的角度等参数。此处所说的参照位置可以为一个位置，也可以是多个不同的位置。同理，电离室20的位姿为电离室20的位置和姿态。当前位姿为实时检测到的位姿，例如，放射源10在当前时刻检测得到位姿为当前位姿。

第一当前位姿和第二当前位姿可以由距离传感器等传感器测量得到，例如，可以在放射源10上安装距离传感器，根据距离传感器测量距离传感器与面密度设备上的固定位置的距离从而得到第一当前位姿。又如，第一当前位姿和第二当前位姿可以通过陀螺仪等传感器测量得到。本申请不限制第一当前位姿和第二当前位姿的具体检测方式。

在步骤S20和S30中，第一位姿偏差可为第一当前位姿相对于第一初始位姿的偏差量。第二位姿偏差可为第二当前位姿相对于第二初始位姿的偏差量。

第一初始位姿和第二初始位姿分别为面密度设备100组装完成并经过校准后，放射源10和电离室20在运动行程上的某个位置的位姿。第一初始位姿可以由相关设备测量得到并保持在面密度设备100中，例如，第一初始位姿可以由传感器等检测部件测量得到。

可以理解，若第一当前位姿的数值与第一初始位姿的数值相等，那么，第一位姿偏差为0。也即是说，放射源10的当前位姿相对于初始位姿没有发生改变。

在步骤S40中，若第一位姿偏差和第二位姿偏差中的至少一个大于偏差阈值时，且第一位姿偏差和第二位姿偏差不能相互抵消时，则可以说明放射源10相对于电离室20发生了位姿改变。例如，若放射源10和电离室20向同一个方向改变相同的距离，那么则认为第一位姿偏差和第二位姿偏差能够相互抵消，放射源10和电离室20没有发生位姿改变。

如图3所示，图3是放射源10和电离室20处于正常位置的示意图，图3示意出了放射源10和电离室20没有发生位姿改变。图4-图6分别示意出了放射源10和电离室20发生了不同的位姿改变。

如此，本申请实施方式的检测方法中，先分别获取放射源10和电离室20的当前位姿，再根据当前位姿确认放射源10相对于电离室20是否发生位姿改变，从而可以在放射源10相对于电离室20发生位姿改变时执行相应的措施，以提高面密度设备100的测量结果的准确度。

另外，在面密度设备100工作过程中对放射源10和电离室20的位姿进行检测，使得面密度设备100无需停机，检测过程更加方便，有利于实时修正面密度设备100的测量结果，使得面密度设备100的检测效率更高。

请参阅图7，在某些实施方式中，获取放射源10的第一当前位姿和电离室20的第二当前位姿(S10)，包括：

S110，获取放射源10和电离室20在至少一个方向上的当前位置以确定所述第一当前位姿和所述第二当前位姿；

具体地，放射源10在某个方向上的当前位置可以用放射源10与某个预定位置之间的距离来表示。例如，可以在面密度设备100上设置三维坐标系，可以根据放射源10的坐标来确定放射源10的当前位置。同理地，电离室20在某个方向上的当前位置可以用电离室20与某个预定位置之间的距离来表示。

如此，第一当前位姿和第二当前位姿更加容易确定。

请参阅图8，在某些实施方式中，步骤S110包括：

S11，获取放射源10在第一方向(如图2中的X向)上的第一当前位置，第一方向与放射源10的运动方向相同；

S12，获取电离室20在第一方向上的第二当前位置，第一当前位姿包括第一当前位置，第二当前位姿包括第二当前位置；

步骤S40包括：

S41，在第一位姿偏差和第二位姿偏差的偏差程度不同时，确定放射源10相对于电离室20在第一方向上发生位姿改变。

具体地，在步骤S11中，第一当前位置可以通过距离表示，也就是说，可以获取放射源10在第一方向上与第一预定位置30之间的第一当前距离以确定第一当前位置。放射源10可以沿X向来回往复运动。第一预定位置30可以为面密度设备100的沿X向朝向放射源10的位置。例如，本申请实施方式中，第一预定位置30为位于放射源10的X正向的平面。第一当前距离可以采用第一距离传感器101检测得到。第一距离传感器101可以安装在放射源10上，也可以安装在第一预定位置30上。第一距离传感器101例如为激光传感器，第一距离传感器101可以通过发射光线并接收反射回来的光线检测得到第一当前距离。

在步骤S12中，第二当前位置可以通过距离表示，也就是说，可以获取电离室20在第一方向上与第二预定位置40之间的第二当前距离以确定第二当前位置。电离室20沿X向来回往复运动。第二预定位置40可以为面密度设备100的沿X向朝向电离室20的位置。例如，本申请实施方式中，第二预定位置40为位于电离室20的X正向的平面。第二当前距离可以采用第二距离传感器102检测得到。第二距离传感器102可以安装在电离室20上，也可以安装在第二预定位置40上。第二距离传感器102例如为激光传感器，第二距离传感器102可以通过发射光线并接收反射回来的光线检测得到第二当前距离。

在步骤S41中，可以计算第一当前距离与第一初始距离的差值并作为第一差值；并计算第二当前距离与第二初始距离的差值并作为第二差值；在第一差值与第二差值之间的差值大于第一预定差值时，确定放射源10相对于电离室20发生位姿改变。

具体地，第一初始距离是放射源10在面密度设备100校准后，测量得到的放射源10与第一预定位置30之间的距离，根据第一差值，可以确定放射源10是否在X方向上发生位置改变。在一个例子中，第一当前距离为L

第二初始距离是电离室20在面密度设备100校准后，测量得到的电离室20与第二预定位置40之间的距离，根据第二差值，可以确定电离室20是否在X方向上发生位置改变。在一个例子中，第二当前距离为L

若第一差值与第二差值之间的差值较大，则说明放射源10相对于电离室20在自身运动方向上发生了位置改变。在一个例子中，第一差值与第二差值之间的差值为ΔX，ΔX＝X

综上，通过第一当前位置和第二当前位置可以检测电离室20和放射源10在第一方向上是否相对地发生位姿改变。

请参阅图9，在某些实施方式中，步骤S110，包括：

S13，获取放射源10在第二方向(如图2中的Y向)上的第三当前位置，第二方向与放射源10的运动方向垂直，第二方向与放射源10和电离室20的排布方向垂直；

S14，获取放射源10在第二方向上的第四当前位置，第一当前位姿包括第三当前位置，第二当前位姿包括第四当前位置；

步骤S40包括：

S42，在第一位姿偏差和第二位姿偏差的偏差程度不同时，确定放射源10相对于电离室20在第二方向上发生位姿改变。

具体地，在步骤S13中，第三当前位置可以通过距离表示，也就是说，可以获取放射源10在第二方向上与第三预定位置50之间的第三当前距离以确定第三当前位置；被测物体可以沿Y向运动。第三预定位置50可以为面密度设备100的沿Y向朝向放射源10的位置。例如，本申请实施方式中，第三预定位置50可以为与放射源10的Y向垂直的平面并且Y向的负向穿过第三预定位置50。第三当前距离可以采用第三距离传感器103检测得到。第三距离传感器103可以安装在放射源10上，也可以安装在第三预定位置50上。为了减少第三距离传感器103的数量，本申请实施方式中，第三距离传感器103安装在放射源10上。第三距离传感器103例如为激光传感器，第三距离传感器103可以通过发射光线并接收反射回来的光线检测得到第三当前距离。

在步骤S14中，第四当前位置可以通过距离表示，也就是说，可以获取电离室20在第二方向上与第四预定位置60之间的第四当前距离以确定第四当前位置。

第四预定位置60可以为面密度设备100的沿Y向朝向放射源10的位置。例如，本申请实施方式中，第四预定位置60与电离室50的Y向垂直的平面并且Y向的负向穿过第三预定位置50，第三预定位置50和第四预定位置60可以为同一平面。第四当前距离可以采用第四距离传感器104检测得到。第四距离传感器104可以安装在电离室20上，也可以安装在第四预定位置60上。为了减少第四距离传感器104的数量，本申请实施方式中，第四距离传感器安装在放射源10上。第四距离传感器104例如为激光传感器，第四距离传感器104可以通过发射光线并接收反射回来的光线检测得到第四当前距离。

在步骤S42中，可以计算第三当前距离与第三初始距离的差值并作为第三差值；计算第四当前距离与第四初始距离的差值并作为第四差值；在第三差值与第四差值之间的差值大于第二预定差值时，确定放射源10相对于电离室20发生位姿改变。

其中，第三初始距离是放射源10在面密度设备100校准后，测量得到的放射源10与第三预定位置50之间的距离，根据第三差值，可以确定放射源10是否在Y方向上发生位置改变。在一个例子中，第三当前距离为L

第四初始距离是电离室20在面密度设备100校准后，测量得到的电离室20与第四预定位置60之间的距离，根据第四差值，可以确定电离室20是否在Y方向上发生位置改变。在一个例子中，第四当前距离为L

若第三差值与第四差值之间的差值较大，则说明放射源10相对于电离室20在被测物体的运动方向上发生了位置改变。在一个例子中，第三差值与第二差值之间的差值为ΔY，ΔY＝Y

如此，通过第三当前位置第四当前位置可以检测电离室20和放射源10在被测物体运动方向上是否相对地发生位姿改变。

请参阅图10，在某些实施方式中，步骤S110，包括：

S15，获取放射源10在第三方向(如图2中的Z向)上的第四当前位置，第三方向与放射源10和电离室20的排布方向相同；

S16，获取放射源10在第三方向上的第五当前位置，第一当前位姿包括第四当前位置，第二当前位姿包括第五当前位置；

步骤S40包括：

S43，在第一位姿偏差和第二位姿偏差的偏差程度不同时，确定放射源10相对于电离室20在第三方向上发生位姿改变。

在步骤S15中，第五当前位置可以通过距离表示，也就是说，可以获取放射源10与被测物体之间的第五当前距离以确定第五当前位置；被测物体位于放射源10的Z向，第五当前距离可以采用第五距离传感器105检测得到。第五距离传感器105可以安装在放射源10上。第五距离传感器105例如为激光传感器，第五距离传感器105可以通过发射光线并接收反射回来的光线检测得到第五当前距离。

在步骤S16中，第六当前位置可以通过距离表示，也就是说，可以获取电离室20与被测物体之间的第六当前距离以确定第六当前位置。第六当前距离可以采用第六距离传感器106检测得到。第六距离传感器106可以安装在电离室20上。第六距离传感器106例如为激光传感器，第六距离传感器106可以通过发射光线并接收反射回来的光线检测得到第六当前距离。

在步骤S43中，可以计算第五当前距离与第五初始距离的差值并作为第五差值；并计算第六当前距离与第六初始距离的差值并作为第六差值；在第五差值与第六差值之间的和大于预定值时，确定放射源10相对于电离室20发生位姿改变。

第五初始距离是放射源10在面密度设备100校准后，测量得到的放射源10与被测物体之间的距离，根据第五差值，可以确定放射源10是否在Z方向上发生位置改变。在一个例子中，第五当前距离为L

第六初始距离是电离室20在面密度设备100校准后，测量得到的电离室20与被测物体之间的距离，根据第六差值，可以确定电离室20是否在Z方向上发生位置改变。在一个例子中，第六当前距离为L

若第五差值与第六差值之间的差值较大，则说明放射源10相对于电离室20在被测物体的运动方向上发生了位置改变。在一个例子中，第五差值与第二差值之间的差值为ΔZ，ΔZ＝Z

如此，通过第五当前位置第六当前位置可以检测电离室20和放射源10在被测厚度运动方向上是否相对地发生位姿改变。

需要指出的是，由于被测物体的厚度差异较小，因此，被测物体的厚度差异带来的测量误差可以忽略不计。

请参阅图11，在某些实施方式中，步骤S11包括：

S111，获取放射源10两个不同部位在第一方向上的第一当前位置；

S112，根据两个第一当前位置确定放射源10的第一扭转量，第一当前位姿包括第一扭转量；

步骤S12包括：

S121，获取电离室20两个不同部位在第一方向上的第二当前位置；

S122，根据两个第二当前位置确定电离室20的第二扭转量，第二当前位姿包括第二扭转量；

步骤S40，包括：

S44，在第一位姿偏差和第二位姿偏差的偏差程度不同时，确定放射源10相对于电离室20发生扭转位姿改变。

具体地，在步骤S111和S112中，可以获取放射源1010的第一放射部位在自身运动方向上与第一预定位置30之间的第一当前距离作为其中一个第一当前位置；可以，获取放射源1010的第二放射部位在自身运动方向上与第一预定位置30之间的第七当前距离作为另一个第一当前位置，第二放射部位与第一放射部位位于放射源1010的同一侧；

如以上所讨论的，第一当前距离可以采用第一距离传感器101检测得到。第一距离传感器101可以安装在放射源10的第一放射部位上，也可以安装在第一预定位置30上。第一距离传感器101例如为激光传感器，第一距离传感器101可以通过发射光线并接收反射回来的光线检测得到第一当前距离。

类似的，如图2所示，第七当前距离可以采用第七距离传感器107检测得到。第七距离传感器107可以安装在放射源10的第二放射部位上，也可以安装在第一预定位置30上。第七距离传感器107例如为激光传感器，第七距离传感器107可以通过发射光线并接收反射回来的光线检测得到第七当前距离。

本申请实施方式中，第一放射部位和第二放射部位为放射源10上的两个不同的位置，第一放射部位和第二放射部位可以是面或者结构体等具有具体特征的实体。

可以根据第一当前距离、第七当前距离和第一预定距离计算放射源10的第一扭转角，第一预定距离为第一放射部位的中心与第二放射部位的中心之间的距离；

第一预定距离是放射源10在面密度设备100校准后，测量得到的放射源10与第一预定位置30之间的距离。请结合图12，在一个例子中，第一当前距离为L

θ

在步骤S121和S122中，可以获取电离室20的第一电离部位在自身运动方向上与第二预定位置40之间的第二当前距离作为其中一个第二当前位置；可以获取电离室20的第二电离部位在自身运动方向上与第二预定位置40之间的第八当前距离作为另一个第二当前位置；

如以上所讨论的，第二当前距离可以采用第二距离传感器102检测得到。第二距离传感器102可以安装在电离室20的第一电离部位上，也可以安装在第二预定位置40上。第二距离传感器102例如为激光传感器，第二距离传感器102可以通过发射光线并接收反射回来的光线检测得到第二当前距离。

类似地，第八当前距离可以采用第八距离传感器108检测得到。第八距离传感器108可以安装在电离室20的第二电离部位上，也可以安装在第二预定位置40上。第八距离传感器108例如为激光传感器，第八距离传感器108可以通过发射光线并接收反射回来的光线检测得到第八当前距离。

本申请实施方式中，第一电离部位和第二电离部位为电离室20上的两个不同的位置，第一电离部位和第二电离部位可以是面或者结构体等具有具体特征的实体。

可以根据第二当前距离、第八当前距离和第二预定距离计算放射源10的第二扭转角，第二预定距离为第一电离部位的中心与第二电离部位的中心之间的距离；

第二预定距离是放射源10在面密度设备100校准后，测量得到的电离室20与第二预定位置40之间的距离。在一个例子中，第二当前距离为L

需要指出的是，第一预定距离A可以等于第二预定距离B。

在步骤S44中，可以在第一扭转角与第二扭转角之间的和大于扭转角阈值时，确定放射源10相对于电离室20发生位姿改变。

若第一扭转角与第二扭转角之间的和较大，则说明放射源10相对于电离室20在自身运动方向上发生了位置改变。在一个例子中，第一扭转角与第二扭转角之间的和为θ，θ＝θ

如此，通过第一扭转角和第二扭转角可以确定放射源10和电离室20是否发生扭转状态的位姿改变。

本申请实施方式中，由于放射源10和电离室20在工作的过程中往复运动，为了可以实时检测放射源10和电离室20的当前位姿和初始位姿的关系，需要预先测定初始位姿。因此，在面密度设备100校准后，在多个位置上分别获得初始位姿，从而可以得到多个初始位姿，使得放射源10和电离室20在工作过程中处于任意一个位置上均可以检测确认放射源10和电离室20是否发生位姿改变。

在某些实施方式中，获取放射源10的第一当前位姿和电离室20的第二当前位姿(S10)，包括：

通过设置在放射源10上的距离传感器的检测结果获取第一当前位姿；

通过设置在电离室20上的距离传感器的检测结果获取第二当前位姿。

如以上所讨论的，可以通过第一至第八距离传感器检测相应的距离，从而获取得到放射源10和电离室20的当前位姿。如此，根据距离传感器可以方便地获取到放射源10和电离室20的当前位姿。

请参阅图13，在某些实施方式中，检测方法还包括：

S50，在放射源10相对于电离室20发生位姿改变时，根据位姿改变量修正面密度设备100的测量结果。

如此，根据位姿改变量修正面密度设备100的测量结果，使得面密度设备100的测量结果更加准确。例如，当确认由于放射源10相对于电离室20发生位姿改变而导致测量结果偏大时，可以将测量结果修正减小，以使测量结果更加准确。

另外，在某些实施方式中，在放射源10相对于电离室20发生位姿改变时，可以发出提示和预警，以便于对设备状态进行评估、维护保养和检修工作等工作，有效避免面密度设备100的在故障时工作，避免大批量的产品发生安全隐患。

本申请实施方式的面密度设备100包括放射源10、与放射源10间隔设置的电离室20和存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现以上任一实施方式的方法的步骤。

例如，处理器可以执行以下检测方法的步骤：

S10，在面密度设备100工作过程中，获取放射源10的第一当前位姿和电离室20的第二当前位姿；

S20，根据第一当前位姿确认放射源10的第一位姿偏差；

S30，根据第二当前位姿确认电离室20的第二位姿偏差；

S40，根据第一位姿偏差和第二位姿偏差确定放射源10相对于电离室20是否发生位姿改变。

如此，先分别获取放射源10和电离室20的当前位姿，再根据当前位姿确认放射源10相对于电离室20是否发生位姿改变，从而可以在放射源10相对于电离室20发生位姿改变时执行相应的措施，以提高面密度设备100的测量结果的准确度。

在某些实施方式中，放射源10和电离室20上均设置有距离传感器，距离传感器用于检测放射源10和电离室20与预定位置之间的距离。如此，根据距离传感器可以方便地获取到放射源10和电离室20的当前位姿。

需要指出的是，上述实施方式的检测方法的解释说明适用于本申请的检测装置，本申请实施方式的检测装置其他未展开的部分，请参考上述测试方法相应的部分，在此不再赘述。

请参阅图14，本申请实施方式的检测装置200包括获取模块210、确认模块220和确定模块230，获取模块210用于在面密度设备100工作过程中，获取面密度设备100的放射源10的第一当前位姿和面密度设备100的电离室20的第二当前位姿；确认模块220用于计算第一当前位姿与放射源10的第一初始位姿的第一位姿偏差，及用于计算第二当前位姿与电离室20的第二初始位姿的第二位姿偏差；确定模块230用于根据第一位姿偏差和第二位姿偏差确定放射源10相对于电离室20是否发生位姿改变。

如此，先分别获取放射源10和电离室20的当前位姿，再根据当前位姿确认放射源10相对于电离室20是否发生位姿改变，从而可以在放射源10相对于电离室20发生位姿改变时执行相应的措施，以提高面密度设备100的测量结果的准确度。

需要指出的是，本申请实施方式的检测装置200可以实现以上任一实施方式的检测方法，以上实施方式的检测方法的各个步骤可以由检测装置200对应的模块执行，在此不再赘述。

另外，上述实施方式的检测方法的解释说明适用于本申请的检测装置200，本申请实施方式的检测装置200其他未展开的部分，请参考上述测试方法相应的部分，在此不再赘述。

一种计算机可执行指令的非易失性计算机可读存储介质，当计算机可执行指令被一个或多个处理器执行时，使得处理器执行以上任一实施方式的检测方法。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“某些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。

流程图中或在此以其他方式描述的任何过程或方法描述可以被理解为，表示包括一个或更多个用于实现特定逻辑功能或过程的步骤的可执行指令的代码的模块、片段或部分，并且本发明的优选实施方式的范围包括另外的实现，其中可以不按所示出或讨论的顺序，包括根据所涉及的功能按基本同时的方式或按相反的顺序，来执行功能，这应被本发明的实施例所属技术领域的技术人员所理解。

在流程图中表示或在此以其他方式描述的逻辑和/或步骤，例如，可以被认为是用于实现逻辑功能的可执行指令的定序列表，可以具体实现在任何计算机可读介质中，以供指令执行系统、装置或设备(如基于计算机的系统、包括处理模块的系统或其他可以从指令执行系统、装置或设备取指令并执行指令的系统)使用，或结合这些指令执行系统、装置或设备而使用。就本说明书而言，"计算机可读介质"可以是任何可以包含、存储、通信、传播或传输程序以供指令执行系统、装置或设备或结合这些指令执行系统、装置或设备而使用的装置。计算机可读介质的更具体的示例(非穷尽性列表)包括以下：具有一个或多个布线的电连接部(电子装置)，便携式计算机盘盒(磁装置)，随机存取存储器(RAM)，只读存储器(ROM)，可擦除可编辑只读存储器(EPROM或闪速存储器)，光纤装置，以及便携式光盘只读存储器(CDROM)。另外，计算机可读介质甚至可以是可在其上打印所述程序的纸或其他合适的介质，因为可以例如通过对纸或其他介质进行光学扫描，接着进行编辑、解译或必要时以其他合适方式进行处理来以电子方式获得所述程序，然后将其存储在计算机存储器中。

应当理解，本发明的实施方式的各部分可以用硬件、软件、固件或它们的组合来实现。在上述实施方式中，多个步骤或方法可以用存储在存储器中且由合适的指令执行系统执行的软件或固件来实现。例如，如果用硬件来实现，和在另一实施方式中一样，可用本领域公知的下列技术中的任一项或他们的组合来实现：具有用于对数据信号实现逻辑功能的逻辑门电路的离散逻辑电路，具有合适的组合逻辑门电路的专用集成电路，可编程门阵列(PGA)，现场可编程门阵列(FPGA)等。

本技术领域的普通技术人员可以理解实现上述实施例方法携带的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件完成，所述的程序可以存储于一种计算机可读存储介质中，该程序在执行时，包括方法实施例的步骤之一或其组合。

此外，在本发明的各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理模块中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个模块中。上述集成的模块既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能模块的形式实现。所述集成的模块如果以软件功能模块的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，也可以存储在一个计算机可读取存储介质中。上述提到的存储介质可以是只读存储器，磁盘或光盘等。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本申请的权利要求和说明书的范围当中。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本申请并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。