显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

MLP(Micro Lens Panel，集成微透镜)由低折射率层和高折射率层组成，改变OLED的出光光路，可以将大视角的光汇聚到正视角，提高OLED的出光效率，进而达到降低OLED功耗的目的。

现有技术中，MLP的高折射率层采用喷墨打印技术制备完成，在面板上设置阻挡槽阻挡高折射率层溢流到弯折区，以及防止高折射率层的材料溢流到切割边。高折射率层的油墨从显示区域的平坦区到显示区域的截止区的距离通常在1～7mm，高折射率层往往在显示区的平坦区内截止，而这会导致显示区内高折射率层的厚度不均一，从而导致显示不均一；且厚度不均一会造成单个图案表面不平整，影响后续制程的膜材的贴附。穿戴类产品的尺寸较小，显示区域占比大，高折射率层厚度不均影响的显示面积占比增大，对显示效果影响较大。现有阻挡高折材料溢流的阻挡槽阻挡效果弱。

发明内容

针对现有技术中的问题，本发明的目的在于提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，以解决现有技术中显示面板中高折射率层在显示区域内厚度不均一造成的显示效果不佳，以及现有阻挡槽阻挡效果不佳的技术问题。

本发明实施例提供了一种显示面板，包括：

基板，包括显示区和包围所述显示区的至少一侧的非显示区；

发光层，置于所述基板的一侧，所述发光层包括多个设置在所述显示区内的发光像素；

触控层，置于所述发光层远离所述基板的一侧；所述触控层包括触控电极和与所述触控电极电连接的触控走线，所述触控走线从所述显示区延伸至所述非显示区；

第一平坦化层，具有第一折射率，置于所述触控层远离所述基板的一侧；在所述显示区内，所述第一平坦化层包括多个与所述发光像素对应的第一开口；在所述非显示区中，所述第一平坦化层包括第一类凹槽，所述第一类凹槽在所述基板上的垂直投影与在所述非显示区的所述触控走线重叠，所述第一类凹槽的槽深小于所述第一平坦化层的厚度；

第二平坦化层，具有第二折射率，设置于所述第一平坦化层远离所述基板的一侧；所述第二平坦化层填充所述第一开口及至少部分所述第一类凹槽；其中，

所述第二折射率大于所述第一折射率。

在一些实施例中，所述第一平坦化层还包括第二类凹槽，所述第二类凹槽在所述基板上的垂直投影不与在所述非显示区的所述触控走线重叠，所述第二类凹槽的槽深大于等于所述第一平坦化层的厚度。

在一些实施例中，所述第一类凹槽或所述第二类凹槽在所述基板上的垂直投影的形状包括菱形、正方形、圆形或长方形中的至少一种。

在一些实施例中，所述第一类凹槽或所述第二类凹槽在所述基板上的垂直投影的形状与所述第一开口的形状相同。

在一些实施例中，位于所述非显示区的最内侧的所述第一类凹槽或所述第二类凹槽至位于所述非显示区的最外侧的所述第一类凹槽或所述第二类凹槽的总宽度为400μm～500μm。

在一些实施例中，每一所述菱形的对角线的长度为5μm～50μm，相邻两所述菱形的间距为5μm～50μm。

在一些实施例中，每一所述长方形的宽度为5μm～50μm，相邻两所述长方形的间距为5μm～50μm。

在一些实施例中，还包括像素定义层，与所述发光层同层设置；所述像素定义层包括第二开口，所述发光像素置于所述第二开口中。

在一些实施例中，还包括像素驱动电路层，设置在所述基板与所述发光层之间，所述像素驱动电路层包括多个与相应所述发光像素电连接的像素驱动电路和与所述像素驱动电路电连接的驱动走线，所述驱动走线从所述显示区延伸至所述非显示区。

在一些实施例中，还包括驱动IC，与所述驱动走线及所述触控走线电连接。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示面板。

本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，用于制备如上所述的显示面板，包括如下步骤：

提供一基板，所述基板包括所述显示区和包围所述显示区至少一侧的非显示区；

在所述基板的一侧形成所述发光层，所述发光层在所述显示区形成多个所述发光像素；

在所述发光层远离所述基板的一侧形成所述触控层；

在所述触控层远离所述基板的一侧形成第一平坦化层；

采用第一透过率的掩膜板且经曝光、显影及刻蚀后，在所述显示区的第一平坦化层上形成多个与所述发光像素对应的第一开口；

采用第二透过率的掩膜版且经曝光、显影及刻蚀后，在所述非显示区的第一平坦化层上形成所述第一类凹槽；第一透过率大于第二透过率；

在所述第一平坦化层远离所述基板的一侧制备所述第二平坦化层，所述第二平坦化层填充所述第一开口及至少部分所述第一类凹槽。

在一些实施例中，所述第一透过率为100％，所述第二透过率为20％～50％。

在一些实施例中，所述在所述触控层远离所述基板的一侧制备第一平坦化层之后，还包括如下步骤：

采用所述第一透过率的掩膜版且经曝光、显影及刻蚀后，在所述非显示区的所述第一平坦化层上形成第二类凹槽，所述第二类凹槽在所述基板上的垂直投影不与所述触控走线重叠。

本发明所提供的显示面板及其制备方法、显示装置具有如下优点：

显示面板包括基板、发光层、触控层、具有第一折射率的第一平坦化层和具有第二折射率的第二平坦化层，其中，第二折射率大于第一折射率；触控层包括触控电极和与触控电极电连接的触控走线，触控走线从显示区延伸至非显示区；第一平坦化层在显示区内包括与发光像素对应的第一开口；在非显示区，第一平坦化层上设有第一类凹槽，第一类凹槽在基板上的垂直投影与触控走线重叠，第一类凹槽的槽深小于第一平坦化层的厚度；第二平坦化层填充多个第一开口和至少部分第一类凹槽。本申请通过在非显示区上的第一平坦化层上设置第一类凹槽，使显示区内的第二平坦化层厚度均匀，且阻挡第二平坦化层外溢范围，提高显示面板的显示均匀性，改善显示面板的显示效果。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显。

图1是本发明一实施例的显示面板的平面示意图；

图2是图1中显示区A处的放大图；

图3是图1中非显示区B处的放大图；

图4是本发明一实施例的显示面板的显示区A的剖面示意图；

图5是本发明一实施例的显示面板的非显示区B的剖面示意图；

图6是本发明一实施例的显示面板的第一类凹槽或第二类凹槽的在基板上的垂直投影的形状示意图；

图7是本发明另一实施例的显示面板的第一类凹槽或第二类凹槽的在基板上的垂直投影的形状示意图；

图8是本发明另一实施例的显示面板的第一类凹槽或第二类凹槽的在基板上的垂直投影的结构示意图；

图9是本发明另一实施例的显示面板的一类凹槽或第二类凹槽的在基板上的垂直投影的结构示意图；

图10是本发明一实施例的显示面板的非显示区设置第一类凹槽与第二类凹槽的示意图；

图11是本发明另一实施例的显示面板的非显示区设置第一类凹槽和第二类凹槽的示意图；

图12是本发明另一实施例的显示面板的制备方法的示意图。

附图标记：

10 基板

11 显示区

12 非显示区

20 像素驱动电路层

30 发光层

31 发光像素

40 触控层

41 绝缘层

42 触控金属层

421 触控引线

50 第一平坦化层

51 第一开口

52 第一类凹槽

53 第二类凹槽

60 第二平坦化层

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。说明书中的“或”、“或者”均可能表示“和”或者“或”。

在本申请的表示中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的表示意指结合该实施例或示例表示的具体特征、结构、材料或者特点包括于本申请的至少一个实施例或示例中。而且，表示的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本申请中表示的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于表示目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或隐含地包括至少一个该特征。在本申请的表示中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

图1示出了本发明实施例提供的显示面板的示意图；图2示出了图1中显示区A处的放大图；图3示出了图1中非显示区B处的放大图；图4示出了本发明实施例提供的显示面板的显示区A的剖面图；图5示出了本发明实施例提供的显示面板的非显示区B的剖面图；图6至图9示出了本发明实施例提供的第一类凹槽或第二类凹槽在基板上的垂直投影的形状；图10和图11示出了显示面板的非显示区设置的第一类凹槽和第二类凹槽的示意图。如图1至图11所示，显示面板包括：

基板10，包括显示区11和包围显示区11的至少一侧的非显示区12；

发光层30，置于基板10的一侧，发光层30包括多个设置在显示区11内的发光像素31；

触控层40，置于发光层30远离基板10的一侧；触控层40包括触控电极和与触控电极电连接的触控走线411；

第一平坦化层50，具有第一折射率，置于触控层远离基板10的一侧；在显示区11内，第一平坦化层50包括多个与发光像素对应的第一开口51；在非显示区12中，第一平坦化层50远离基板10的一侧设有第一类凹槽52，且第一类凹槽52在基板10上的垂直投影与在非显示区12的触控走线411重叠，第一类凹槽52的槽深小于第一平坦化层50的厚度；

第二平坦化层60，具有第二折射率，设置于第一平坦化层50远离基板10的一侧，第二平坦化层60填充第一开口51及至少部分第一类凹槽52，其中，

第二折射率大于第一折射率。

本发明中第一平坦化层50从显示面板的显示区11延伸至非显示区12，在显示区11上，第一平坦化层50上设有第一开口51，每一第一开口51的下方皆对应一像素开口，像素开口中置有发光像素31；第二平坦化层60同样从显示面板的显示区11延伸至非显示区12，第二平坦化层60填充多个第一开口51，第二平坦化层60在显示区11厚度均匀以在多个第一开口51处形成多个微透镜单元，进而可以对其对应的发光像素31起到聚光作用，提高第一开口对应的发光像素的出光效果，提高显示面板的出光率；第二平坦化层60填充第一开口51，使显示区11内第二平坦化层60厚度均匀，进而使显示面板的显示区11显示均匀，提高显示面板的显示效果；通过在第一平坦化层50上设置第一类凹槽52，相邻两第一类凹槽52之间设有阻隔体，第二平坦化层60填充至少部分第一类凹槽52，在阻隔体的阻挡作用下，阻挡第二平坦化层60的溢流范围，使第二平坦化层60在切割边内截止；第一类凹槽52的槽深小于第一平坦化层50的厚度，则第一平坦化层50可作为保护层覆盖在触控走线411的上方，提高触控走线的可靠性。

本实施例中，基板10的材料可以为硬质基板和柔性基板，硬质基板可以为玻璃、石英等材料；柔性基板可以为聚酰亚胺等材料。

显示面板还包括像素驱动电路层20，设置在基板10与发光层30之间，像素驱动电路层20包括多个与相应发光像素电连接的像素驱动电路和驱动电路电连接的驱动走线(图中未示出)，驱动走线从显示区延伸至非显示区，像素电路层驱动发光像素发光显示。驱动电路层包括多个薄膜晶体管，薄膜晶体管可以为刻蚀阻挡型、背沟道刻蚀型，或者根据栅极与有源层的位置划分为底栅薄膜晶体管、顶栅薄膜晶体管等结构，薄膜晶体管的具体结构不做限制。

进一步地，显示面板还包括像素定义层(图中未示出)，与发光层30同层设置；像素定义层包括第二开口，发光像素31置于第二开口中，像素定义层用于限定发光像素位置。换言之，在垂直于基板10的所在的平面的方向，第二开口在基板10的垂直投影包含发光像素31在基板10上的垂直投影，第二开口包围发光像素31。示例性地，发光像素31包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素等。

进一步地，显示面板还包括封装层(图中未示出)，位于发光层30远离基板10的一侧，封装层用于封装发光层30，以防止水氧等侵蚀发光层，造成显示失效，提高显示面板寿命。在一些实施例中，封装层可以至少包括交叠设置的无机封装层和有机封装层。

显示面板还包括驱动IC，与像素驱动电路走线及触控走线421电连接。驱动IC向驱动电路走线提供电信号，以驱动发光像素的发光；驱动IC向触控走线421提供电信号，以实现触控功能。

请继续参阅图4和图5，本实施例中，触控层40为自容式触控，触控层40包括绝缘层41和触控金属层42，触控金属层42包括多个触控电极以及位于相邻的触控电极之间的多个触控走线421，且每一触控走线421对应连接至一触控电极，触控走线421与触控电极同层设置。在另一实施例中，触控走线421可以与触控电极分两层设置。在又一实施例中，触控层40也可设置为互容式触控，触控电极包括多个沿第一方向设置的第一电极和多个沿第二方向设置的第二电极，第一方向和第二方向交叉；多个第一电极之间通过第一连接桥连接，多个第二电极之间通过第二连接桥连接。具体触控电极的类型和结构可根据实际需求设置，此处不做具体限定。

在本实施例中，第一平坦化层50和第二平坦化层60的材料可以为高透光性材料，其透过率一般大于90％，第一平坦化层50和第二平坦化层60的透过率远大于常规偏光片的透过率，通过设置高透过率的材料替代偏光片，能够有效提升显示面板的出光效率。第一平坦化层50的材料例如可以为丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂等。第二平坦化层60的材料例如可以为聚(3，4-乙撑二氧噻吩)(PEDOT)、4，4’-双[N-(3-甲基苯基)-N-苯基氨基]联苯(TPD)等。

请参阅图9和图10，在一些实施例中，在非显示区12中，第一平坦化层50还设有第二类凹槽53，第二类凹槽53在基板10上的投影不与触控走线421重叠，第二类凹槽53的深度大于等于第一平坦化层50的厚度。第二类凹槽53与基板10相对位置无触控走线421，则第二类凹槽53的槽深设置相对于第一类凹槽52的槽深可增大，可提高对非显示区12上的第二平坦化层60的阻挡溢流效果，提高阻止第二平坦化层60的外溢到切割边的可靠性。

通过第一类凹槽52和第二类凹槽53的设置，第二平坦化层60的边界可以在第一类凹槽52中，或第二类凹槽53中，或第一类凹槽52与第二类凹槽53之间。

第一类凹槽52或第二类凹槽53在基板10上的垂直投影的形状可根据需求设置，此处并不做具体限制，示例性的可以为菱形、正方形、圆形或长方形中的至少一种。如图6至图9示例性的示出第一类凹槽52或第二类凹槽53在基板10上的垂直投影的形状。

如图6所示，第一类凹槽52或第二类凹槽53在基板10上的垂直投影的形状与图2中示出的第一开口51的形状相同，此处第一开口51的形状与发光像素31的形状相同，即第一类凹槽52或第二类凹槽53与发光像素31在基板10上的垂直投影形状相同。

第一类凹槽52或第二类凹槽53的设计可以为菱形状的凹槽设计，示例性如图7所示。在一些实施例中，一菱形的两对角线的长度为5μm～50μm，相邻两菱形的间距为5～50μm。

第一类凹槽52或第二类凹槽53的设计可以为长方形状的凹槽设计，示例性如图8所示。在一些实施例中，每一长方形状的凹槽的宽度为5～50μm，相邻两长方形条的间距为5～50μm。

第一类凹槽52或第二类凹槽53的设计可以为菱形状的凹槽与长方形状的凹槽的交替设计。示例性如图9所示，菱形状凹槽与长方形状凹槽的交替设置。

请参阅10，显示面板的非显示区12上设有菱形状的第一类凹槽52、圆弧状的第一类凹槽52和圆弧状的第二类凹槽53，其中，圆弧状的第一类凹槽52和圆弧状的第二类凹槽53形成一圆环状。第一类凹槽52在基板10上的垂直投影与触控走线421重叠，第二类凹槽53在基板10上的垂直投影与触控走线421不重叠。

请参阅图11，显示面板的非显示区12上设有菱形状的第一类凹槽52和第二类凹槽53，圆弧状的第一类凹槽52和圆弧状的第二类凹槽53，其中，圆弧状的第一类凹槽52和圆弧状的第二类凹槽53形成一圆环状。第一类凹槽52在基板10上的垂直投影与触控走线421重叠，第二类凹槽53在基板10上的垂直投影与触控走线421不重叠。上述对第一类凹槽52和第二类凹槽53的形状设置仅为举例说明，具体可根据实际需求进行设计，此处不做具体限制。

关于第一类凹槽52或第二类凹槽53的宽度范围设置，在一些实施例中，围绕显示区11的最内侧的第一类凹槽52或第二类凹槽53至围绕显示区11的最外侧的第一类凹槽52或第二类凹槽53的总宽度大于等于400μm～500μm。相当于在显示区11外扩400μm～500μm范围内设置第一类凹槽52和/第二类凹槽53，使显示区11的第二平坦化层60平坦，使非显示12的第二平坦化层60的在面板的切割边内截止，提高显示区11的显示效果，且不影响显示面板的正常切割。

本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，用于制备上述显示面板。图12示出了本发明一实施例提供的显示面板的制备方法。结合图1至图12可得，该制备方法包括如下步骤：

S100：提供一基板10，基板10包括显示区11和包围显示区11至少一侧的非显示区12；

S200：在基板10的一侧形成发光层30，发光层30在显示区11包括多个发光像素31；

S300：在发光层30远离基板10的一侧形成触控层40，触控层40包括触控电极和与所述触控电极电连接的触控走线421；

S400：在触控层40远离基板10的一侧形成第一平坦化层50；

S500：采用第一透过率的掩膜板且经曝光、显影及刻蚀后，在显示区11的第一平坦化层50上形成多个与发光像素31对应的第一开口51；

S600：采用第二透过率的掩膜版且经曝光、显影及刻蚀后，在非显示区12的第一平坦化层50上形成第一类凹槽52；其中第一透过率大于第二透过率；

S700：在第一平坦化层50远离基板10的一侧制备第二平坦化层60，第二平坦化层60填充第一开口51和至少部分第一类凹槽52。

在非显示区12上，通过第二透过率(低透过率)的掩膜版在第一平坦化层50上制备第一类凹槽52，控制第一类凹槽52的槽深，使得第一平坦化层50可作为保护层覆盖在触控走线上421上，既避免刻蚀对触控走线421的造成的失效，提高了触控走线421的可靠性。同时，相邻两第一类凹槽52之间设有阻隔体，第一类凹槽52的设置还可阻挡第二平坦化层60外溢至显示面板的切割边，使第二平坦化层60在显示区内厚度均匀，提高显示面板的显示效果。

具体地，在一些实施例中，在制备第一类凹槽52时，第一透过率为100％，第二透过率为20％～50％。

在一些实施例中，在制备第一开口51和第一类凹槽52之前，首先在第一平坦化层50上通过涂布等工艺形成光刻胶层作为掩膜，然后将掩膜版置于掩膜上方，经曝光显影后将待刻蚀的第一开口51的区域和第一类凹槽52的区域的光刻胶去除，最后利用刻蚀工艺形成第一开口51和第一类凹槽52。由于第一透过率的掩膜版的透过率高，经曝光显影后可将设置第一开口51处的光刻胶完全去除，而第二透过率的掩膜版的透过率较低，受光照强度影响，经曝光显影后仅可将设置在第一类凹槽52处的光刻胶部分去除。当刻蚀第一开口51和第一类凹槽52时，同等刻蚀时间下，第一开口51的槽深大于第一类凹槽52的槽深，即第一开口51刻穿第一平坦化层50时，而第一类凹槽52未刻穿第一平坦化层50，第一类凹槽52处的第一平坦化层50可作为与其交叠的触控走线421的保护层，提高触控走线的可靠性。

刻蚀方法可采用湿法刻蚀或干法刻蚀，此处不做具体限定。关于第一开口51和第一类凹槽52的具体刻蚀时间、刻蚀工艺可根据实际需求进行设置，具体不做限定。

进一步地，在触控层40远离基板10的一侧制备第一平坦化层50之后，还包括如下步骤：

采用第一透过率的掩膜版且经曝光、显影及刻蚀后，在非显示区12的第一平坦化层50上形成第二类凹槽53，第二类凹槽53在基板10上的垂直投影不与触控走线421重叠。第二类凹槽53的设置可进一步提高阻挡第二平坦化层60外溢效果，提高阻挡第二平坦化层60溢流的可靠性。

在制备第二类凹槽53时，掩膜版的第一透过率为100％。同样，利用高透过率的掩膜版可在曝光显影后，使得设置第二类凹槽53的区域的光刻胶完全去除，使得同样刻蚀时间时，第二类凹槽53的槽深大于等于第一平坦化层50的厚度。在一些实施例中，对于第一开口51、第一类凹槽52和第二类凹槽53的曝光显影及刻蚀可同步完成，掩膜版不同区域的透过率不同，可简化工艺流程。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示面板，因此，可取得上述显示面板的所有技术效果，此处不予赘述。显示装置可以为手机、平板、笔记本电脑、电子手表、电子广告牌等电子设备。

综上所示，本发明所提供的显示面板及其制备方法、显示装置具有如下优点：

显示面板包括基板、发光层、触控层、具有第一折射率的第一平坦化层和具有第二折射率的第二平坦化层，其中，第二折射率大于第一折射率；触控层包括触控电极和与触控电极电连接的触控走线，触控走线从显示区延伸至非显示区；第一平坦化层在显示区内包括与发光像素对应的第一开口；在非显示区，第一平坦化层上设有第一类凹槽，第一类凹槽在基板上的垂直投影与触控走线重叠，第一类凹槽的槽深小于第一平坦化层的厚度；第二平坦化层填充多个第一开口和至少部分第一类凹槽。本申请通过在非显示区上的第一平坦化层上设置第一类凹槽，使显示区内的第二平坦化层厚度均匀，且在非显示区阻挡第二平坦化层外溢范围，提高显示面板的显示均匀性，改善显示面板的显示效果。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。