一种液晶显示面板及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其设计一种液晶显示面板及其制作方法。

背景技术

在液晶显示面板主要由彩色滤光片(Color Filter，CF)基板和薄膜晶体管(ThinFilm Transistor,TFT)阵列基板(array)间隔一定距离对组且密封周边形成，这种由两块基板对盒形成的结构也称为液晶盒，盒内填充液晶材料。液晶显示面板还包括隔垫物(PostSpacer,PS)，PS用于维持TFT基板与CF基板之间的间隙稳定。

进一步地，随着显示技术的不断发展，大量新技术不断涌现，如把CF上的色阻放置在array上的技术(CF on Array,COA)。在采用COA技术的液晶显示面板中，会把原本设置在CF中的有机物全部或部分去除，并在阵列基板的钝化层上制作新的有机绝缘平坦层(Polymer Film on Array,PFA)，经过研究发现PFA产品在低温低压环境下，液晶滴下量安全区间(LC Margin)会减小。

目前液晶显示面板(Liquid Crystal Display,LCD)PFA的产品在客户端长时间使用后存在气泡，不良现象确认是真空气泡(液晶量相对不足)。具体的，由于这三种膜层(色阻、PFA、PS)均能够在外界环境发生变化时(温度或者压力)发生弹性形变，导致液晶盒内空间在外界压力减小时，由于3层膜的反弹作用，液晶盒空间变大，液晶量相对不足，进而易产生真空气泡，使得LC Margin过小。

发明内容

本发明的目的在于提供一种液晶显示面板及其制作方法，通过减小液晶盒在低压下厚度的变化，以解决液晶量相对不足导致的气泡问题。

一方面，本发明提供一种液晶显示面板，包括：

相对设置的第一基板和第二基板；

位于所述第一基板上靠近所述第二基板一侧的有机物层，所述有机物层具有开口；

一端嵌入所述开口内的隔垫物，所述隔垫物支撑于所述第一基板和第二基板之间；

其中，所述隔垫物的高度大于所述有机物层的厚度。

进一步优选的，所述有机物层包括色阻层和设于所述色阻层上的有机绝缘平坦层。

进一步优选的，所述开口的深度与所述有机绝缘平坦层的厚度相等。

进一步优选的，所述开口的深度与所述色阻层和有机绝缘平坦层的厚度相等。

进一步优选的，所述第一基板和第二基板其中之一为阵列基板，另一个为彩膜基板；所述阵列基板上靠近所述彩膜基板的一侧设有栅极绝缘层；所述第二基板上靠近所述第一基板的一侧设有黑色矩阵。

另一方面，本发明提供一种液晶显示面板的制作方法，包括：

提供第一基板和第二基板；

在所述第一基板上靠近所述第二基板一侧形成具有开口的有机物层；

形成一端嵌入所述开口的隔垫物，所述隔垫物的高度大于所述有机物层的厚度；

结合所述第一基板和第二基板，使得所述隔垫物支撑于所述第一基板和第二基板之间。

进一步优选的，所述有机物层包括色阻层和设于所述色阻层上的有机绝缘平坦层。

进一步优选的，在所述第一基板上靠近所述第二基板一侧形成具有开口的有机物层的步骤包括：

刻蚀所述有机绝缘平坦层形成所述开口，使得所述开口的深度与所述有机绝缘平坦层的厚度相等。

进一步优选的，在所述第一基板上靠近所述第二基板一侧形成具有开口的有机物层的步骤包括：

刻蚀所述色阻层和有机绝缘平坦层形成所述开口，使得所述开口的深度与所述色阻层和有机绝缘平坦层的厚度相等。

进一步优选的，形成一端嵌入所述开口的隔垫物的步骤包括：

在所述开口内和所述有机物层上沉积一层隔垫物薄膜，所述隔垫物薄膜的厚度大于所述有机物层的厚度；

采用光刻工艺形成所述隔垫物。

本发明的有益效果是：提供一种液晶显示面板及其制作方法，包括：相对设置的第一基板和第二基板，位于所述第一基板上靠近所述第二基板一侧的有机物层，所述有机物层具有开口，一端嵌入所述开口内的隔垫物，所述隔垫物支撑于所述第一基板和第二基板之间，其中，所述隔垫物的高度大于所述有机物层的厚度。由于隔垫物的高度大于有机物层的厚度，而且该隔垫物是嵌入在有机物层的开口中，由此当液晶盒在外界压力减小时，有机物层的弹性形变对液晶盒空间没有影响，只有隔垫物的弹性形变才对液晶盒的大小有所改变，所以反弹的力会变小从而液晶盒厚度变化小，从而提高了LC Margin，因此可以减少发生液晶量相对不足导致真空气泡的不良问题。

附图说明

下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1是本发明实施例提供的液晶显示面板的剖面结构示意图；

图2是本发明实施例的变形例提供的液晶显示面板的剖面结构示意图；

图3是本发明实施例提供的液晶显示面板的另一剖面结构示意图；

图4是本发明实施例提供的液晶显示面板的制作方法。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

本发明实施例提供了一种液晶显示面板，请参阅图1，图1是本发明实施例提供的液晶显示面板的剖面结构示意图。该液晶显示面板包括：相对设置的第一基板10和第二基板20，位于第一基板10上靠近第二基板20一侧的有机物层30，该有机物层具有开口31；一端嵌入开口31内的隔垫物(Post Spacer,PS)40，该隔垫物40支撑于第一基板10和第二基板20之间，其中，该隔垫物40的高度h0大于有机物层的厚度h1。

进一步的，该有机物层30可以包括色阻层32和设于该色阻层32上的有机绝缘平坦层33。在本实施例中，开口31的深度h2与色阻层32和有机绝缘平坦层33的厚度相等，通过将PS站立位置下面有机物层30全部去除，那么开口31的深度h2就等于该有机物层30的厚度h1。这样使支撑液晶盒厚度H的膜层只有隔垫物40，这样在外界条件发生变化时，反弹的力会变小从而液晶盒厚度H变化小，不会发生液晶量相对不足导致的真空气泡不良。

优选的，该隔垫物40的高度h0为6微米，该色阻层32的厚度为3微米，该有机绝缘平坦层33的厚度为1.5微米。

在其他实施例中，也可以将PS站立位置下面的有机物层30部分去除，此时开口31的深度会小于该有机物层30的厚度h1，这样也可以减小一部分有机物层30的弹性形变对液晶盒厚度H的影响。

请参阅图2，图2是本发明实施例的变形例提供的液晶显示面板的剖面结构示意图，与图1不同的是，开口31’的深度h3与有机绝缘平坦层33的厚度相同，即开口31’的深度h3小于该有机物层30的厚度h1。此时只有色阻层32和隔垫物40的弹性形变才会使液晶盒厚度H发生变化，相比于隔垫物40、有机绝缘平坦层33及色阻层32三层的弹性形变，此结构可以减小低压情况下液晶盒厚度的变化。

在本实施例中，第一基板10和第二基板20其中之一为阵列基板，另一个为彩膜基板。该阵列基板上靠近彩膜基板的一侧设有栅极绝缘层(Gate Insulation,GI)50。

在本实施例中，第一基板10可以为阵列基板，其中阵列基板可以为薄膜晶体管阵列基板(TFT Array Substrate)，第二基板20则为彩膜基板(CF Substrate)。可以在彩膜基板侧设置黑色矩阵60，由于栅极绝缘层50和黑色矩阵60都是刚性的，所以不会在外界环境改变的情况下发生弹性形变。第一基板10为阵列基板，第二基板20为彩膜基板，色阻层32和有机绝缘平坦层33设置在阵列基板上，是采用了COA技术。另外隔垫物40是在第一基板10即阵列基板上形成，是采用了POA技术。

请参阅图3，图3是本发明实施例提供的液晶显示面板的另一剖面结构示意图，第一基板10为彩膜基板，第二基板20为阵列基板，色阻层32和有机绝缘平坦层33都是设置在彩膜基板上，此时黑色矩阵60可以设置阵列基板一侧，为BOA(Black Matrix on Array)技术。在其他实施例中，黑色矩阵60也可以设置在彩膜基板侧，即色阻层32和彩膜基板之间形成有黑色矩阵60。

其中，阵列基板上还设置有栅极绝缘层50，而色阻层32和有机绝缘平坦层33设置在彩膜基板侧。隔垫物40形成在彩膜基板上，其一端嵌入色阻层32和有机绝缘平坦层33的开口31中。

本发明实施例提供的液晶显示面板，包括相对设置的第一基板10和第二基板20，位于第一基板10上靠近第二基板20一侧的有机物层30，该有机物层30具有开口31；一端嵌入该开口31内的隔垫物40，该隔垫物40支撑于第一基板10和第二基板20之间，其中，隔垫物40的高度h0大于有机物层30的厚度h1，使得在外界环境改变时，只有隔垫物40的弹性形变对液晶盒厚度H有所影响，可以提高LC Margin，减少发生液晶量不足而导致真空气泡的不良现象。

请参阅图4，图4是本发明实施例提供的液晶显示面板的制作方法，该方法用于制作上述液晶显示面板，因此结合图1作描述。该液晶显示面板的制作方法包括：

步骤S1：提供第一基板10和第二基板20。

在本实施例中，第一基板10和20其中一个为阵列基板，另一个为彩膜基板。其中，还可以在阵列基板上靠近彩膜基板的一侧沉积栅极绝缘层50；在第二基板20上靠近第一基板10的一侧形成黑色矩阵60。

步骤S2：在第一基板10上靠近第二基板20一侧形成具有开口31的有机物层30。

具体地，先采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)或物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)在第一基板10上沉积有机物层，该有机物层30可以包括依次沉积的色阻层32和有机绝缘平坦层33。

在本实施例中，可以刻蚀色阻层32和有机绝缘平坦层33形成开口31，使得开口31的深度h2与色阻层32和有机绝缘平坦层33的厚度相等。

在本实施例的变形例中，请同时参阅图2，也可以刻蚀有机绝缘平坦层33形成开口31’，使得开口31’的深度h3与有机绝缘平坦层33的厚度相等。

在本实施例中，色阻层32可以为红色(R)光阻、绿色(G)光阻、蓝色(B)光阻，背光源发出的光经过色阻层32的滤光作用，分别显示红、绿、蓝三种光线。有机绝缘平坦层33是起保护和平坦化的作用，其材料可以为聚四氟乙烯(Polyfluoroalkoxy)。

步骤S3：形成一端嵌入开口31的隔垫物40，该隔垫物40的高度h0大于有机物30层的厚度h1。

其中，步骤S3包括：

步骤S31：在开口31内和有机物层30上沉积一层隔垫物薄膜，该隔垫物薄膜的厚度大于有机物层30的厚度h1；

步骤S32：采用光刻工艺形成隔垫物40。

在本实施例中，可以使用CVD法沉积隔垫物薄膜，该隔垫物薄膜可以为感光树脂材料，且其厚度大于有机物层30的厚度h1。然后用掩模版通过曝光、显影等构图工艺处理，形成隔垫物40。

步骤S4：结合第一基板10和第二基板20，使得该隔垫物40支撑于第一基板10和第二基板20之间。

在本实施例中，可以先形成第一基板10和第二基板20周围的框胶，再通过液晶滴下技术向液晶盒中滴入液晶，形成液晶层，最后将第一基板10和第二基板20在高精度范围内进行贴合，使得该隔垫物40支撑于第一基板10和第二基板20之间。

本发明实施例提供的液晶显示面板的制作方法，包括：先提供第一基板10和第二基板20，在第一基板10上靠近第二基板20一侧形成具有开口31的有机物层30，然后形成一端嵌入开口31的隔垫物40，该隔垫物40的高度h0大于有机物层30的厚度h1，最后结合第一基板10和第二基板20，使得隔垫物40支撑于第一基板10和第二基板20之间。这样在外界条件发生变化时，反弹的力会变小从而液晶盒厚度变化小，可以提高LC Margin，因此可以减少发生液晶量相对不足导致真空气泡的不良现象。

以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。