用于制造窗的方法

技术领域

本发明涉及用于制造窗的方法，并且更具体地，涉及用于制造用作电子装置的盖玻璃的窗的方法。

背景技术

电子装置包括窗、壳体和电子元件。电子元件可以包括响应于电信号激活的各种类型的元件，例如显示元件、触摸元件或检测元件。

窗保护电子元件并且向使用者提供有源区域。因此，使用者通过窗向电子元件提供输入或接收在电子元件中产生的信息。此外，电子元件可以通过窗被稳定地保护免受外部冲击。

与电子装置的纤薄化的当前趋势一致，窗也需要是轻且薄，并且，为了克服产生的结构易损性，正在研究强化窗以使其提供有优异的强度和表面耐久性的方法。

发明内容

本发明的目的在于提供用于制造在保持强度特性的同时具有改善的耐化学性的窗表面的窗的方法。

此外，本发明的另一个目的在于提供用于通过跳过用于提高强化的窗的表面特性的单独的后加工工艺来制造具有改善的工艺经济可行性的窗的方法。

实施方案提供了用于制造窗的方法，所述方法包括以下步骤：提供基体玻璃；以及通过向所述基体玻璃提供混合熔体来强化所述基体玻璃，并且所述混合熔体包含强化熔融盐和添加剂，其中所述添加剂包含Al

相对于所述混合熔体的总重量，可以以大于0wt％至10wt％的量包含所述添加剂。

所述添加剂可以是Al

所述基体玻璃可以包含SiO

所述基体玻璃可以进一步包含P

所述基体玻璃可以包含50wt％至80wt％的量的SiO

所述基体玻璃可以包含SiO

所述强化熔融盐可以是包含选自由Li

所述强化步骤可以包括：提供第一强化熔融盐和添加剂以强化所述基体玻璃的第一强化步骤；以及提供不含添加剂的第二强化熔融盐以强化所述基体玻璃的第二强化步骤。

所述第一强化步骤可以在第一温度下进行；以及所述第二强化步骤可以在低于所述第一温度的第二温度下进行。

所述第一强化步骤可以在380℃至约440℃下进行；以及所述第二强化步骤可以在380℃至410℃下进行。

所述第一强化熔融盐可以包含KNO

用于制造窗的方法可以进一步包括在经受所述强化步骤的所述基体玻璃的上表面和下表面中的至少一个上形成印刷层的步骤。

实施方案提供了用于制造窗的方法，包括：提供含有SiO

所述强化熔融盐可以包含KNO

相对于所述混合熔体的总重量，可以以大于0wt％至10wt％的量包含所述添加剂。

实施方案提供了用于制造窗的方法，包括：提供基体玻璃的步骤；向所述基体玻璃提供包含第一强化熔融盐和添加剂的混合熔体以强化所述基体玻璃的第一强化步骤；以及在所述第一强化步骤中被强化的所述基体玻璃中提供包含不含添加剂的第二强化熔融盐的熔体以强化所述基体玻璃的第二强化步骤，其中所述添加剂包含Al

所述基体玻璃可以包含SiO

所述混合熔体可以包含Al

用于制造窗的方法可以进一步包括在第二强化步骤之后被强化的所述基体玻璃的上表面和下表面中的至少一个上形成印刷层的步骤，以及在所述第二强化步骤与所述印刷层形成步骤之间，可以不包括抛光所述基体玻璃的至少一个表面的抛光处理步骤。

实施方案可以提供用于制造窗的方法，所述方法通过使用包含强化熔融盐和添加剂的混合熔体强化基体玻璃来提供在保持良好的压缩应力值的同时具有优异的表面耐久性的窗。

通过在强化步骤中除了强化熔融盐之外还包含添加剂以最小化在强化步骤中引起的窗表面上的缺陷，实施方案可以提供用于制造在其表面上具有优异的可印刷性的窗的方法。

附图说明

图1是根据实施方案的电子装置的透视图；

图2是图1中例示的电子装置的分解透视图；

图3是示出根据实施方案的窗的横截面视图；

图4是根据实施方案的用于制造窗的方法的流程图；

图5是示意性地示出根据实施方案的用于制造窗的方法中的强化步骤的视图；

图6是示出根据实施方案的用于制造窗的方法中的强化步骤的流程图；

图7是根据实施方案的用于制造窗的方法的流程图；

图8是示意性地示出根据实施方案的用于制造窗的方法的框图；

图9是示出根据实施方案的窗的一部分的横截面视图；

图10是示出用于制造窗的常规方法的流程图；

图11是评价通过使用常规强化步骤强化来制造的窗的耐化学性的图；

图12a至图12f各自是评价使用根据实施方案的制造窗的方法制造的窗的耐化学性的图；

图13是例示出根据实施方案的窗的透视图；以及

图14a和图14b是例示出根据实施方案的窗的透视图。

具体实施方式

本发明可以修改成许多替代的形式，并且因此将在附图中例示并且详细地描述具体实施方案。然而，还应理解，不旨在将本发明局限于公开的具体形式，而是旨在涵盖落入本发明的主旨和范围内的所有修改、等同和替代。

在本说明书中，当元件(或区、层、部分等)被称为在另一个元件“上”、“连接至”另一个元件或“联接至”另一个元件时，其意指该元件可以直接设置在其它元件上/连接至其它元件/联接至其它元件，或者第三个元件可以设置在其间。

相同的参考数字是指相同的元件。此外，在附图中，为了有效描述技术内容，放大了元件的厚度、比例和尺寸。

术语“和/或”包括相关配置可以限定的一个或多于一个的所有组合。

应理解，尽管术语“第一”、“第二”等可以在本文用于描述各种元件，但这些元件不应受到这些术语限制。这些术语仅用于区分一个元件与另一个。例如，在不背离本发明的示例性实施方案的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件可以被称为第一元件。单数形式的术语可以包括复数形式，除非上下文另外明确指出。

此外，诸如“下方”、“下”、“上方”、“上”等的术语用于描述附图中示出的配置的关系。术语被用作相对概念并且参考附图中指明的方向进行描述。

除非另外定义，本文使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同含义。还应理解，在常用词典中定义的术语应被解释为具有与在相关领域的背景下的含义相符的含义，并且在本文明确定义，除非以理想的或过于形式的含义来解释它们。

应理解，术语“包括”或“具有”旨在指明本公开内容中的规定的特征、整数、步骤、操作、元件、构件或其组合的存在，但不排除一个或多于一个的其它的特征、整数、步骤、操作、元件、构件或其组合的存在或增添。

在下文，将参考附图描述本发明的实施方案。图1是示出电子装置的透视图。图1是示出了包括使用根据实施方案的用于制造窗的方法制造的窗的电子装置的实施方案的视图。图2是图1中例示的电子装置的分解透视图。图3是使用根据实施方案的用于制造窗的方法制造的窗的横截面视图。

电子装置EA可以是响应于电信号激活的装置。电子装置EA可以包括各种实施方案。例如，电子装置EA可以包括平板电脑、笔记本电脑、计算机、智能电视等。在本实施方案中，电子装置EA示例性地呈现为智能电话。

电子装置EA可以在平行于由第一方向轴DR1和第二方向轴DR2限定的平面的显示表面IS上在第三方向轴DR3的方向上显示图像IM。其上显示图像IM的显示表面IS可以对应于电子装置EA的前表面并且可以对应于窗CW的上表面FS。此外，电子装置EA可以具有在为垂直于由第一方向轴DR1和第二方向轴DR2限定的平面的方向的第三方向轴DR3的方向上具有预定厚度的三维形状。

同时，在图1中例示的实施方案的电子装置EA中，显示表面IS可以包括显示区域DA和与显示区域DA相邻的非显示区域NDA。将非显示区域NDA例示为围绕显示区域DA设置，但实施方案不限于此。显示区域DA是其中提供图像IM的部分并且可以是对应于电子面板DP的有源区域AA的部分。同时，图像IM可以包括静止图像以及动态图像。图1将因特网检索窗例示为图像IM的实例。

在本实施方案中，相对于其中显示图像IM的方向定义各个构件的上表面(或前表面)和下表面(或后表面)。上表面和下表面可以相对于第三方向轴DR3彼此相反，并且上表面和下表面中的每一个的法线方向可以平行于第三方向轴DR3。同时，由第一方向轴至第三方向轴DR1、DR2和DR3表示的方向是相对概念，并且因此可以改变成其它方向。在下文，第一方向至第三方向分别对应于由第一方向轴至第三方向轴DR1、DR2和DR3表示的方向，并且给予相同的参考数字。

电子装置EA包括窗CW、电子面板DP和壳体HAU。在图1和图2中例示的根据实施方案的电子装置EA中，窗CW和壳体HAU可以结合在一起以形成电子装置EA的外观。

如以上描述，窗CW的上表面FS限定了电子装置EA的上表面。窗CW的上表面FS可以包括透射区域TA和挡板区域BZA。

透射区域TA可以是光学透明区域。例如，透射区域TA可以是具有约90％或高于90％的可见光透射率的区域。

挡板区域BZA可以是具有比透射区域TA相对更低的光透射率的区域。挡板区域BZA可以限定透射区域TA的形状。挡板区域BZA可以与透射区域TA相邻，并且可以围绕透射区域TA。

挡板区域BZA可以具有预定的颜色。挡板区域BZA可以覆盖电子面板DP的周围区域NAA，以防止从外部观察到周围区域NAA。同时，这作为实例例示，并且在根据本发明的实施方案的窗CW中，可以省略挡板区域BZA。

窗CW可以包括玻璃衬底。例如，窗CW可以包括经受强化处理的强化的玻璃衬底。窗CW可以通过使用玻璃的光透射率来提供透射区域TA，并且可以通过包括强化的表面来稳定地保护电子面板DP免受外部冲击。

可以使用根据实施方案的用于制造窗的方法来制造窗CW。根据实施方案的用于制造窗的方法包括强化基体玻璃的强化步骤，并且在所述强化步骤中，可以向基体玻璃提供包含强化熔融盐和不同于所述强化熔融盐的添加剂的混合熔体。之后将描述根据实施方案的用于制造窗的方法的详细描述。

电子面板DP可以是响应于电信号激活的装置。在本实施方案中，电子面板DP被激活以在电子装置EA的显示表面IS上显示图像IM。通过透射区域TA向使用者提供图像IM，并且使用者可以通过图像IM接收信息。然而，这作为实例例示，并且电子面板DP可以被激活以检测应用于其上表面的外部输入。外部输入可以包括使用者的触摸、无形物体的接触或接近、压力、光或热，并且不局限于任一个实施方案。

即，电子面板DP可以包括有源区域AA和周围区域NAA。有源区域AA可以是提供图像IM的区域。透射区域TA可以重叠有源区域AA的至少一部分。

周围区域NAA可以是被挡板区域BZA覆盖的区域。周围区域NAA与有源区域AA相邻。周围区域NAA可以围绕有源区域AA。用于驱动有源区域AA的驱动电路或驱动线可以设置在周围区域NAA中。

电子面板DP可以包括多个像素PX。像素PX响应于电信号显示光。通过像素PX显示的光实现图像IM。像素PX可以包括显示元件。例如，显示元件可以是有机发光元件、量子点发光元件、液晶电容器、电泳元件或电润湿元件。

壳体HAU可以设置在电子面板DP下方。壳体HAU可以包含具有相对高刚性的材料。例如，壳体HAU可以包括由玻璃、塑料或金属形成的多个框架和/或板。壳体HAU提供预定的用于容纳的位置。电子面板DP可以被容纳在容纳位置中并且因此被保护免受外部冲击。

图3是根据实施方案的窗的横截面视图。参考图3，窗CW可以包括强化的玻璃衬底BS和印刷层BZ。强化的玻璃衬底BS可以是光学透明的。在本实施方案中，强化的玻璃衬底BS可以是指被强化之后的基体玻璃BG(图5)。在本说明书中，本文描述的强化的玻璃衬底BS是指在用于制造窗的方法的强化步骤中强化的基体玻璃BG(图5)。

强化的玻璃衬底BS的上表面FS暴露于电子装置EA的外部，并且限定了窗CW的上表面FS和电子装置EA的上表面。强化的玻璃衬底BS的下表面RS在第三方向轴DR3的方向上面对上表面FS。

印刷层BZ可以设置在强化的玻璃衬底BS的下表面RS上以限定挡板区域BZA。印刷层BZ可以具有比强化的玻璃衬底BS相对更低的光透射率。例如，印刷层BZ可以具有预定的颜色。因此，印刷层BZ可以仅选择性地透射/反射特定颜色的光。替代地，例如，印刷层BZ可以是吸收入射光的光阻挡层。根据电子装置EA的类型和设计，可以不同地提供印刷层BZ的光透射率和颜色。

印刷层BZ可以通过印刷或沉积形成在强化的玻璃衬底BS的下表面RS上。在这种情况下，印刷层BZ可以直接形成在强化的玻璃衬底BS的下表面RS上。替代地，印刷层BZ可以通过单独的粘合构件等结合至强化的玻璃衬底BS的下表面RS。在这种情况下，粘合构件可以接触强化的玻璃衬底BS的下表面RS。

图4是根据实施方案的用于制造窗的方法的流程图。根据实施方案的用于制造窗的方法可以包括提供基体玻璃的步骤S100和通过向基体玻璃提供混合熔体来强化基体衬底的步骤S300。

在根据实施方案的用于制造窗的方法中，在提供基体玻璃的步骤S100中提供的基体玻璃可以通过浮法工艺制造。此外，提供的基体玻璃可以通过下拉工艺方法或融合工艺方法制造。然而，实施方案不限于此，并且提供的基体玻璃可以通过未作为实例例示的各种方法制造。

在提供基体玻璃的步骤S100中提供的基体玻璃可以在用于预期用途的强化步骤S300之前被切割。然而，实施方案不限于此，并且提供的基体玻璃可以以与最终应用的产品的尺寸不一致的尺寸来提供，并且然后在实施方案的窗制造过程之后通过切割成适用于最终产品的尺寸来加工。

基体玻璃可以是平坦的。此外，基体玻璃可以是弯曲的。例如，根据最终应用的产品的尺寸切割和提供的基体玻璃可以相对于中心部分是弯曲凸面或弯曲凹面的。替代地，基体玻璃可以包括在外面部分中弯曲的部分。然而，实施方案不限于此，并且基体玻璃可以以各种形状提供。

在提供基体玻璃的步骤S100中提供的基体玻璃可以包含SiO

在实施方案中，基体玻璃可以包含SiO

强化步骤S300可以是通过向基体玻璃提供混合熔体来化学强化基体玻璃的步骤。即，强化步骤S300可以是将基体玻璃浸入混合熔体中以通过离子交换方法强化基体玻璃的表面的步骤。向基体玻璃提供的混合熔体可以包含强化熔融盐和添加剂。添加剂可以不同于强化熔融盐。

通过离子交换方法的强化步骤S300可以通过将在基体玻璃的表面上的具有相对较小离子半径的碱金属离子交换为具有较大离子半径的碱金属离子来进行。例如，表面强化可以通过将在基体玻璃的表面上的诸如Li

在强化步骤S300中作为混合熔体提供的强化熔融盐可以是混合盐或单盐。混合盐可以是包含选自由Li

包含在混合熔体中的添加剂可以包含Al

添加剂可以在强化步骤S300中与强化熔融盐一起提供。相对于包含添加剂和强化熔融盐的混合熔体的总重量，可以以大于0wt％至10wt％的量包含添加剂。在强化步骤S300中，通过在混合熔体中以大于0wt％的量包含添加剂，可以改善窗的表面耐久性。即，当在强化步骤中添加添加剂时，可以最小化在表面强化步骤中使用强化熔融盐引起的对窗表面的损伤。此外，当在强化步骤S300中在混合熔体中以大于10wt％的量包含添加剂时，可以降低强化熔融盐的离子与基体玻璃的表面上的离子之间的离子交换，从而劣化强化性质。

强化步骤S300可以通过在高温下向基体玻璃提供混合熔体来进行。图5示意性地示出在根据实施方案的用于制造窗的方法中的提供混合熔体以强化基体玻璃的强化步骤S300。

在图5中，将其中进行强化步骤S300的强化处理单元HU作为实例例示。示意性地例示图5的强化处理单元HU以描述强化步骤S300，并且强化处理单元HU的形式不限于图5中示出的形式。

参考图5，强化步骤S300可以通过将基体玻璃BG浸入强化处理单元HU中的混合熔体ML来进行。在这种情况下，混合熔体ML可以包含以上描述的强化熔融盐和添加剂中的至少一种。

在图5的示例中，强化处理单元HU可以包括包含熔融混合熔体ML的槽HT、围绕槽HT设置并且向槽HT中的混合熔体ML施加热量的加热部件HP、固定基体玻璃BG并且垂直移动基体玻璃BG以将提供的基体玻璃BG浸入混合熔体ML中的驱动部件HD、以及控制强化处理单元HU的操作的控制部件HC。控制部件HC可以控制包含在槽HT中的混合熔体ML的温度。例如，控制部件HC可以控制加热部件HP以在预定的温度下加热混合熔体ML并且将混合熔体ML的温度保持在加热的温度下。例如，加热部件HP可以用于提供热量以加热混合熔体ML，或者用作热绝缘器以保持经加热的混合熔体ML的温度。基体玻璃BG可以设置成完全浸入混合熔体ML中。

同时，在图5中，仅例示出固定至驱动部件HD并且在混合熔体ML中加工的两片基体玻璃BG，但这作为实例呈现并且实施方案不限于此。在混合熔体ML中加工的基体玻璃BG可以是一片或多片。

强化基体玻璃的步骤S300可以作为一个强化步骤进行。此外，与以上步骤不同，强化步骤S300可以分成多个步骤，并且化学强化基体玻璃的强化步骤S300可以作为多级强化步骤进行。

同时，当强化步骤S300作为多级强化步骤进行时，用于每个强化步骤的强化熔融盐的配置可以不同。然而，实施方案不限于此，并且用于每个强化步骤的强化熔融盐可以相同，或者可以在一些熔融盐的配置上是不同的。

图6示意性地示出了其中强化基体玻璃的强化步骤S300作为多级强化步骤进行的情况。参考图6，强化步骤S300可以包括依次进行的第一强化步骤S310和第二强化步骤S320。

当强化步骤S300作为多级强化步骤进行时，第一强化步骤S310可以是通过向基体玻璃提供强化熔融盐和添加剂来强化基体玻璃的步骤。此外，第二强化步骤S320可以是通过提供不含添加剂的强化熔融盐来强化基体玻璃的步骤。

第一强化步骤S310可以是向基体玻璃提供包含第一强化熔融盐和添加剂的混合熔体以强化基体玻璃的步骤，并且例如，第一强化熔融盐可以包含KNO

当强化步骤S300作为多级强化步骤进行时，第一强化步骤S310可以在第一温度下进行，并且第二强化步骤S320可以在第二温度下进行。即，强化步骤S300可以包括在第一温度下进行离子交换处理的第一强化步骤S310和在第二温度下进行离子交换处理的第二强化步骤S320。第一温度可以是380℃至440℃，并且第二温度可以是380℃至410℃。例如，第一强化步骤S310可以在380℃至440℃的第一温度下进行2小时至5小时，并且第二强化步骤S320可以在380℃至410℃的第二温度下进行30分钟至2小时。

同时，在根据实施方案的用于制造窗的方法中，第二强化步骤S320的第二温度可以等于或低于第一强化步骤S310的第一温度。具体而言，当在根据实施方案的用于制造窗的方法中提供的基体玻璃包含SiO

图7是根据实施方案的用于制造窗的方法的流程图。根据实施方案的用于制造窗的方法可以包括提供基体玻璃的步骤S100和强化基体玻璃的步骤S300，以及在强化的基体玻璃上形成印刷层的步骤S500。

在形成印刷层的步骤S500中形成的印刷层可以提供在强化的基体玻璃的上表面和下表面中的至少一个上。印刷层可以是提供图3中描述的挡板区域BZA的印刷层BZ。在形成印刷层的步骤S500中，印刷层BZ可以例如提供在强化玻璃衬底BS(图3)的下表面RS(图3)上，所述强化玻璃衬底BS是强化的基体玻璃。

图8是示意性地示出根据实施方案的用于制造窗的方法的框图。在图8中，将对应于图7的流程图中的每一个步骤的进行提供基体玻璃BG的步骤S100、强化提供的基体玻璃BG的强化步骤S300和在强化的玻璃衬底BS上形成印刷层的印刷层形成步骤S500的每一个单元表示为框。将基体玻璃BG提供至强化处理单元，并且将在强化处理单元中化学强化之后的强化的玻璃衬底BS转移至印刷单元。在印刷单元中形成印刷层之后，可以最终提供包括强化玻璃衬底BS和印刷层BZ的窗CW。

同时，尽管附图中未示出，但在强化步骤S300与印刷层形成步骤S500之间可以进一步包括冷却强化的玻璃衬底BS的冷却步骤、清洁强化的玻璃衬底BS的清洁步骤等，并且因此，在强化处理单元与印刷单元之间可以进一步包括冷却单元、清洁单元等。

图9是示出使用根据实施方案的用于制造窗的方法制造的窗的一部分的横截面视图。图9可以是示出图3的区域AA的横截面视图。压缩应力层CSL可以形成在使用根据实施方案的用于制造窗的方法制造的窗的表面上。压缩应力层CSL可以定义为从窗的上表面FS或下表面RS至其中压缩应力CS值变为零的点的层。

同时，使用根据实施方案的用于制造窗的方法制造的窗可以包括与上表面FS和下表面RS相邻形成的压缩应力层CSL，并且限定上表面FS和下表面RS的窗的表面可以甚至在强化步骤S300之后提供而没有损伤。

即，根据实施方案的用于制造窗的方法在强化步骤中包含添加剂与强化熔融盐一起以强化基体玻璃，从而最小化窗表面上的压缩应力层的压缩应力值的降低，以提供具有改善的表面耐久性的窗。例如，使用根据实施方案的用于制造窗的方法制造的窗在强化步骤中包含添加剂以强化基体玻璃，从而最小化制造的窗的表面上的缺陷或在强化步骤期间可能由于从基体玻璃的内部逸出的离子的空位而形成的空缺，以表现出优异的耐化学性以及改善的表面强度。

此外，在根据实施方案的用于制造窗的方法中，当通过在强化步骤中包含添加剂来强化基体玻璃时，窗表面上的缺陷可以最小化，并且因此，甚至当跳过用于改善窗表面性质的单独的后加工工艺时也可以提供均匀的窗表面。此外，因此，当在窗表面上形成印刷层时，可以良好地保持印刷层的印刷品质。

图10是示出用于制造窗的常规方法的流程图。用于制造窗的常规方法可以包括提供基体玻璃的步骤S100'，强化基体玻璃的步骤S300'，进行抛光处理的步骤S400'，以及形成印刷层的步骤S500'。即，用于制造窗的常规方法与根据实施方案的用于制造窗的方法的步骤的不同之处在于，常规方法在强化步骤S300'之后进一步包括抛光处理步骤S400'。

同时，在用于制造窗的常规方法中，强化基体玻璃的步骤S300'可以是向基体玻璃提供强化熔融盐以化学强化基体玻璃的步骤。即，在根据用于制造窗的常规方法的强化基体玻璃的步骤S300'中，差别在于，当使用强化熔融盐化学强化基体玻璃时，不包含在根据实施方案的用于制造窗的方法中建议的添加剂。

在下文，图11和图12a至图12f是示出关于制造的窗的耐化学性评价结果的图。图11示出了关于使用用于制造窗的常规方法制造的窗的耐化学性评价结果，以及图12a至图12f示出了关于使用根据实施方案的用于制造窗的方法制造的示例性窗的耐化学性评价结果。图12a是包含Al

在图11和图12a至图12f中，“REF”是示出在制造之后酸处理之前窗的每个波长的透射率值的图。此外，在图11和图12a至图12f中，“EXP1”表示在通过将制造的窗在50℃下浸入具有1或小于1的pH的硝酸(HNO

同时，在为了图11和图12a至图12f中示出的评价制造的窗中，强化步骤作为多级强化步骤进行。第一强化步骤包含KNO

参考图11，当使用用于制造窗的常规方法制造窗时，可以看出，与酸处理之前的窗透射率相比，酸处理之后的窗透射率增加。据信这是由于在被称为酸处理的耐化学性评价期间一些化学组分从窗表面洗脱时，窗透射率增加，表明窗表面的物理性质在酸处理之后改变。

参考图12a至图12f，当使用根据实施方案的用于制造窗的方法制造窗时，即使在酸处理之后，透射率的变化很小，或者透射率的变化比使用用于制造窗的常规方法制造的窗的透射率的变化更小。据信这是由于在通过在强化步骤中包含添加剂以及强化熔融盐来进行强化处理时，窗表面的化学耐久性增加。

同时，在图12a至图12c中，考虑到在酸处理之前和之后的透射率的变化很小，可以看出强化的窗具有优异的耐化学性。即，可以看出当通过在根据实施方案的用于制造窗的方法中的强化步骤期间包含作为添加剂的Al

图13是例示出使用根据本发明的实施方案的用于制造窗的方法制造的窗CW-a的透视图。图14a和图14b是例示出使用根据本发明的实施方案的用于制造窗的方法制造的窗CW-b1和窗CW-b2的透视图。在下文，在参考图13和图14a至图14b描述的窗的描述中，除了与图1至图10中记载的描述重叠的描述之外，将主要描述差别。

如图13中例示，窗CW-a可以包括绕弯曲轴BX弯曲的弯曲部分BA。在实施方案中，窗CW-a可以包括平坦部分FA和弯曲部分BA。

在实施方案中，弯曲轴BX可以沿第二方向轴DR2延伸并且可以提供在窗CW-a的后表面上。平坦部分FA可以是平行于由第一方向轴DR1和第二方向轴DR2限定的平面的部分。弯曲部分BA可以是与平坦部分FA相邻并且具有弯曲形状的弯曲部分。例如，参考图13，弯曲部分BA是与平坦部分FA的两个边相邻的部分，并且可以是从平坦部分FA向下弯曲的部分。然而，实施方案不限于此，并且弯曲部分BA可以与平坦部分FA的仅一个边相邻设置，或者可以在平面上与平坦部分FA的所有四个边相邻设置。

根据实施方案的窗CW-a包括在包含添加剂以及强化熔融盐的混合熔体中强化的基体玻璃，并且具有良好的表面压缩应力值和优异的表面耐化学性，而在强化步骤之后无需单独的后加工步骤。

此外，根据实施方案的用于制造窗的方法制造的窗CW-b1和窗CW-b2可以绕折叠轴FX折叠或展开，如图14a和图14b中例示。为了便于描述，在图14a中示出处于展开状态的窗CW-b1并且在图14b中示出处于折叠状态的窗CW-b2。

折叠轴FX可以沿第一方向轴DR1延伸并且可以限定在窗CW-b1的上表面FS上。即，在图14a至图14b中，例示出其中当被折叠时窗CW-b2的下表面RS暴露于外部的向内折叠的窗，但实施方案不限于此。例如，根据实施方案的窗可以是其中折叠轴FX限定在窗CW-b1的下表面RS下方的窗，并且不同于图14a和图14b中示出的窗而向外折叠。同时，在使用期间形状可改变的窗CW-b1和窗CW-b2也可以使用根据实施方案的用于制造窗的方法制造，并且通过在强化步骤中包含添加剂以及强化熔融盐来进行强化步骤S300，以具有良好的表面压缩应力值和优异的表面耐化学性，而在强化步骤之后无需单独的后加工步骤。

使用根据实施方案的用于制造窗的方法制造的具有弯曲部分BA的窗CW-a或者形状可改变的窗CW-b1和窗CW-b2可以表现出良好的表面压缩应力值和优异的耐久性，甚至在强化步骤之后无需抛光处理步骤，并且可以因此适用于各种电子装置。

根据实施方案的用于制造窗的方法可以通过在强化步骤中使用包含添加剂以及强化熔融盐的混合熔体强化基体玻璃来提供优异的表面耐化学性和良好的表面压缩应力特性。此外，根据实施方案的用于制造窗的方法即使在强化步骤之后没有提供抛光处理步骤的情况下也提供了良好的表面压缩应力特性和优异的表面耐久性，以便去除了强化的玻璃衬底的表面缺陷，从而显示出改善的可加工性。此外，根据实施方案的用于制造窗的方法通过在强化步骤中使用包含添加剂以及强化熔融盐的混合熔体强化基体玻璃来提供良好的表面特性，并且提供了在强化的基体玻璃的表面上提供的增强的印刷品质以及印刷层对基体玻璃的表面的增加的耐久性。

尽管已经参考本发明的优选实施方案描述了本发明，但应理解，本发明不应局限于这些优选实施方案，而在不背离本发明的主旨和范围的情况下可以由本领域技术人员进行各种改变和修改。

因此，本发明的技术范围不旨在局限于说明书的详细描述中阐述的内容，而旨在由所附权利要求来限定。

本发明涉及用于制造窗的方法，其提供了用作电子装置的盖玻璃并且具有优异的表面耐久性的窗，并且因此具有高的工业实用性。