一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备。

背景技术

在显示面板技术领域，为了得到需要的版图，需要对光刻胶进行曝光。在曝光的过程中，当高段差区域的剂量接收量存在差异时，为了可以使段差下方的光刻胶完全反应，需要增大曝光剂量。由于段差和曝光工艺需求，或者同一张基板上要进行不同图形的曝光，基板上不同区域的曝光剂量会有所区别。另外，经常面临同一张基板内部存在多种PPI产品，不同PPI产品对工艺曝光量的需求不相同，这也导致同一张基板上需要曝光多种剂量的图形。

现有技术中，数字曝光技术具备无需掩膜版、高分辨率等特点，但是，现有的数字曝光设备在一次扫描曝光过程中，无法实现多种剂量曝光。目前，为了实现多种剂量曝光，对应的方案是根据不同的剂量需求，进行多次曝光，这样会严重浪费节拍时间(TackTime)，而且对精度也产生一定影响。

发明内容

本公开实施例提供一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备，以解决或缓解现有技术中的一项或更多项技术问题。

作为本公开实施例的第一个方面，本公开实施例提供一种扫描曝光方法，应用于数字曝光设备，方法包括：

根据待曝光基板的多个待曝光版图，确定目标扫描速度和各待曝光版图分别对应的预设曝光剂量；

根据各待曝光版图和各预设曝光剂量，确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域；

根据各预设曝光剂量，确定参考曝光剂量；

基于目标扫描速度对待曝光基板进行扫描，在扫描至各曝光区域的情况下，调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量；

其中，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。

在一些可能的实现方式中，目标剂量关系式包括曝光能量、数字微镜单元的开启次数、数字微镜单元的脉冲时间和目标扫描速度；

根据曝光能量、数字微镜单元的开启次数、数字微镜单元的脉冲时间和目标扫描速度，确定目标曝光剂量。

在一些可能的实现方式中，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量，包括：

计算曝光区域对应的预设曝光剂量和参考曝光剂量的比值；

根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。

在一些可能的实现方式中，目标剂量关系式包括数字微镜单元的开启次数，根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量；调节数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量，包括：

根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标开启次数；

调节数字微镜单元在曝光区域的开启次数为对应的目标开启次数，以获得目标曝光剂量。

在一些可能的实现方式中，数字微镜单元的开启次数包括参考开启次数和第一变量系数，目标开启次数为第一变量系数与参考开启次数的乘积，第一变量系数与比值相同。

在一些可能的实现方式中，目标剂量关系式包括数字微镜单元的脉冲时间，根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量；调节数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量，包括：

根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标脉冲时间；

调节数字微镜单元在曝光区域的脉冲时间为对应的目标脉冲时间，以获得目标曝光剂量。

在一些可能的实现方式中，数字微镜单元的脉冲时间包括参考脉冲时间和第二变量系数，目标脉冲时间为第二变量系数与参考脉冲时间的乘积，第二变量系数与比值相同。

在一些可能的实现方式中，目标剂量关系式包括曝光能量，根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量；调节数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量，包括：

根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光能量；

调节数字微镜单元在曝光区域的曝光能量为对应的目标曝光能量，以获得目标曝光剂量。

在一些可能的实现方式中，曝光能量包括参考曝光能量和第三变量系数，目标曝光能量为第三变量系数与参考曝光能量的乘积，第三变量系数与比值相同。

在一些可能的实现方式中，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量，包括：

计算曝光区域对应的预设曝光剂量和参考曝光剂量的比值；

根据比值和目标剂量关系式，调节在曝光区域的曝光能量、开启次数和脉冲时间中的至少两个，以获得对应的目标曝光剂量。

在一些可能的实现方式中，根据各预设曝光剂量，确定参考曝光剂量，包括：

将各预设曝光剂量中的最大曝光剂量确定为参考曝光剂量。

在一些可能的实现方式中，根据待曝光基板的多个待曝光版图，确定目标扫描速度，包括：

将各预设曝光剂量中的最大值对应的待曝光版图确定为基准曝光版图；

根据扫描速度表达式，确定基准曝光版图的第一扫描速度；

根据基准曝光版图的预设曝光剂量和预设的剂量与速度对应关系，确定基准曝光版图的第二扫描速度；

将第一扫描速度和第二扫描速度中的最小值确定为目标扫描速度。

在一些可能的实现方式中，目标剂量关系式为：

Dose＝(λ*P

其中，Dose为目标曝光剂量；α为第一变量系数，M

在一些可能的实现方式中，根据各待曝光版图和各预设曝光剂量，确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域，包括：

根据各待曝光版图在待曝光基板上的区域位置，对待曝光基板进行区域划分，以确定各待曝光版图在待曝光基板上对应的各曝光区域；

采用各待曝光版图分别对应的各预设曝光剂量，对各曝光区域进行标定。

作为本公开实施例的第二方面，本公开实施例提供一种扫描曝光装置，应用于数字曝光设备，装置包括：

速度和预设剂量确定模块，用于根据待曝光基板的多个待曝光版图，确定目标扫描速度和各待曝光版图分别对应的预设曝光剂量；

曝光区域确定模块，用于根据各待曝光版图和各预设曝光剂量，确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域；

参考剂量确定模块，用于根据各预设曝光剂量，确定参考曝光剂量；

曝光调节模块，用于基于目标扫描速度对待曝光基板进行扫描，在扫描至各曝光区域的情况下，调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量；

其中，装置还包括：目标剂量确定模块，用于根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。

在一些可能的实现方式中，目标剂量确定模块包括：

计算子模块，用于计算曝光区域对应的预设曝光剂量和参考曝光剂量的比值；

目标剂量确定子模块，用于根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。

作为本公开实施例的第三方面，本公开实施例提供一种数字曝光设备，包括本公开任一实施例中的扫描曝光装置。

本公开实施例的技术方案，实现了一次扫描过程中的多剂量曝光，避免为了实现多剂量曝光对待曝光基板进行多次扫描，避免了Tack Time的浪费，节约了曝光时间。由于是一次扫描中的多剂量曝光，避免了多次扫描对精度的影响，提高了数字曝光的精度。

上述概述仅仅是为了说明书的目的，并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外，通过参考附图和以下的详细描述，本公开进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。

附图说明

在附图中，除非另外规定，否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解，这些附图仅描绘了根据本公开的一些实施方式，而不应将其视为是对本公开范围的限制。

图1为本公开一实施例中扫描曝光方法的示意图；

图2为本公开一实施例中对待曝光基板的各曝光区域进行标定后的示意图；

图3为本公开一实施例中获得目标曝光剂量的流程示意图

图4为本公开一实施例中扫描曝光装置的结构框图。

具体实施方式

在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本公开的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。

数字曝光设备的图形化处理是依靠数字微镜单元(DMD单元)中的微棱镜对图形进行打点式扫描曝光。DMD单元是由2560*1600个微型棱镜组成的阵列单元。DMD单元中的所有微型棱镜被固定在一个基座上，微型棱镜的开启和关闭遵循微机电系统(MEMS)原理，在微型棱镜为+12度的时候，微型棱镜为开启状态，光源照射过来的光可以反射到基板上，实现曝光；当微型棱镜为-12度的时候，微型棱镜为关闭状态，光源照射过来的光会射入无用光束收集板，无法实现曝光。DMD单元中的微型棱镜被数字曝光设备的中央处理器控制，中央处理器会按照版图中的图形控制DMD单元中的微型棱镜进行开关组合，实现曝光。

图1为本公开一实施例中扫描曝光方法的示意图。在一种实施方式中，如图1所示，扫描曝光方法应用于数字曝光设备，扫描曝光方法可以包括：

S110、根据待曝光基板的多个待曝光版图，确定目标扫描速度和各待曝光版图分别对应的预设曝光剂量；

S120、根据各待曝光版图和各预设曝光剂量，确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域；

S130、根据各预设曝光剂量，确定参考曝光剂量；

S140、基于目标扫描速度对待曝光基板进行扫描，在扫描至各曝光区域的情况下，调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量；

其中，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。

示例性地，多个待曝光版图可以是确定的，可以是根据设计需求确定出的。需要在同一个待曝光基板上形成多个版图。

目标扫描速度可以为数字曝光设备中DMD单元在待曝光基板上的扫描速度，在扫描过程中，对待曝光基板进行曝光。

示例性地，可以根据待曝光版图的图形密度和/或曝光经验值，确定出待曝光版图对应的预设曝光剂量。

本公开实施例的扫描曝光方法，基于目标扫描速度对待曝光基板进行扫描，在扫描至各曝光区域的情况下，调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量；其中，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。从而，在一次扫描过程中，当DMD单元扫描至任一曝光区域时，DMD单元产生与该曝光区域对应的目标曝光剂量，实现了一次扫描过程中的多剂量曝光，避免为了实现多剂量曝光对待曝光基板进行多次扫描，避免了Tack Time的浪费，节约了曝光时间。由于是一次扫描中的多剂量曝光，避免了多次扫描对精度的影响，提高了数字曝光的精度。

示例性地，可以在对待曝光基板进行扫描前，确定出各曝光区域对应的目标曝光剂量。示例性地，可以在扫描至各曝光区域的情况下，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定出对应的目标曝光剂量，并调节在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量。

在一种实施方式中，根据待曝光基板的多个待曝光版图，确定目标扫描速度，可以包括：将各预设曝光剂量中的最大值对应的待曝光版图确定为基准曝光版图；根据扫描速度表达式，确定基准曝光版图的第一扫描速度；根据基准曝光版图的预设曝光剂量和预设的剂量与速度对应关系，确定基准曝光版图的第二扫描速度；将第一扫描速度和第二扫描速度中的最小值确定为目标扫描速度。

示例性地，待曝光版图图形越复杂，其对应的预设曝光剂量越大；曝光剂量越大，DMD单元为了实现该曝光剂量，DMD单元的扫描速度越小。

确定出基准曝光版图后，可以根据扫描速度表达式，计算出实现该基准曝光版图的第一扫描速度。

示例性地，随着数字曝光设备的长期使用，或者数字曝光设备的产品说明，可以获得预设的剂量与速度对应关系，例如预设的剂量与速度关系表。通过查询预设的剂量与速度对应关系，可以确定出实现基准曝光版图的预设曝光剂量的第二扫描速度。

示例性地，将第一扫描速度和第二扫描速度中的最小值确定为目标扫描速度，可以进一步减小DMD单元的扫描速度，以便有利于实现多种曝光剂量。

需要说明的是，扫描速度越小，可以实现的曝光剂量越大。并且在较小的扫描速度下，可以通过调节DMD单元的脉冲时间和开启次数，可以获得更多种的不同曝光剂量。因此，当版图需要的曝光剂量越大，对应地扫描速度越小；当版图需要的曝光剂量越小，对应地扫描速度可以增大。

本公开实施例中，将各预设曝光剂量中的最大值对应的待曝光版图确定为基准曝光版图，并且将第一扫描速度和第二扫描速度中的最小值确定为目标扫描速度，这样的方式，不仅可以实现最大曝光剂量的版图，而且在较小的扫描速度下，可以通过调节DMD单元的曝光能量、脉冲时间或开启次数等，实现比基准曝光版图的预设曝光剂量更小的曝光剂量，有利于实现一次扫描过程中的多剂量曝光。

在一种实施方式中，扫描速度表达式可以为：

其中，DMD exposure length为DMD单元的曝光长度；M为DMD单元的开启次数；max_rast_cnt为版图的最大数据量，与版图的复杂程度相关；T为DMD单元的脉冲时间，也可以叫做DMD单元的开启状态持续时间；DMD reset time为DMD单元的开启间隔时间，即DMD单元从开启状态到下一次开启状态间隔的时间。

示例性地，对于2560*1600的DMD单元，DMD exposure length为2560与单个微型棱镜宽度尺寸的乘积。示例性地，数字曝光设备中的M的标准值可以为70，在具体应用中，M的数值可以根据经验设置。示例性地，数字曝光设备中的T的标准值约为2μs，在具体应用中，T的数值可以根据经验设置。数字曝光设备中的DMD reset time可以是确定的。

在一种实施方式中，根据各待曝光版图和各预设曝光剂量，确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域，可以包括：根据各待曝光版图在待曝光基板上的区域位置，对待曝光基板进行区域划分，以确定各待曝光版图在待曝光基板上对应的各曝光区域；采用各待曝光版图分别对应的各预设曝光剂量，对各曝光区域进行标定。

示例性地，在设计待曝光版图时，待曝光版图在待曝光基板上的区域位置可以是确定的，从而，可以根据各待曝光版图在待曝光基板上的区域位置，对待曝光基板进行区域划分，便可以确定出各待曝光版图在待曝光基板上对应的各曝光区域。可以采用各待曝光版图分别对应的各预设曝光剂量，对各曝光区域进行标定，从而，当DMD单元扫描至任一曝光区域时，DMD单元便可以根据标定信息产生对应的目标曝光剂量。

需要说明的是，可以在数字曝光设备的操作系统中，采用各预设曝光剂量对各曝光区域进行标定。可以理解的是，数字曝光设备可以模拟真实的扫描曝光过程，技术人员可以在数字曝光设备中绘制与实际待曝光基板相对应的模拟待曝光基板，并绘制各待曝光版图，进而在数字曝光设备中采用各预设曝光剂量对各曝光区域进行标定。

图2为本公开一实施例中对待曝光基板的各曝光区域进行标定后的示意图。如图2所示，待曝光版图的数量为4个，对应4个曝光区域，采用各预设曝光剂量对各曝光区域进行了标定，例如，第一待曝光版图对应区域A，区域A的预设曝光剂量为45mj；第二待曝光版图对应区域B，区域B的预设曝光剂量为28mj；第三待曝光版图对应区域C，区域C的预设曝光剂量为38mj；第四待曝光版图对应区域D，区域D的预设曝光剂量为50mj。

在一种实施方式中，根据各预设曝光剂量，确定参考曝光剂量，可以包括：确定各预设曝光剂量中的最大曝光剂量为参考曝光剂量。例如，图2中，可以将区域D的预设曝光剂量50mj确定为参考曝光剂量。在其它实施例中，可以根据需要，确定各预设曝光剂量中的任意一个曝光剂量为参考曝光剂量。

在一种实施方式中，目标剂量关系式可以包括曝光能量、数字微镜单元的开启次数、数字微镜单元的脉冲时间和目标扫描速度。根据曝光能量、数字微镜单元的开启时间、数字微镜单元的脉冲时间和目标扫描速度，确定目标曝光剂量。

在一种实施方式中，目标剂量关系式可以为：

Dose＝(λ*P

其中，Dose为目标曝光剂量；α为第一变量系数，M

在一种实施方式中，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量，可以包括：计算曝光区域对应的预设曝光剂量和参考曝光剂量的比值；根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。

这样的方式，根据比值和目标剂量关系式，便可以确定出数字微镜单元在曝光区域的目标曝光剂量，确定目标曝光剂量的方式简单，容易实现，有利于当DMD单元扫描至各曝光区域时，方便快捷地调节出对应的目标曝光剂量，提高曝光精度。

在一种实施方式中，目标剂量关系式包括数字微镜单元的开启次数，根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量；调节数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量，包括：根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标开启次数；调节数字微镜单元在曝光区域的开启次数为对应的目标开启次数，以获得目标曝光剂量。这样的方式，只需要确定并调节出目标开启次数，便可以获得曝光区域对应的目标曝光剂量，调节过程简单，容易实现。

示例性地，数字微镜单元的开启次数包括参考开启次数和第一变量系数，目标开启次数为第一变量系数与参考开启次数的乘积，第一变量系数与比值相同。

示例性地，目标剂量关系式可以采用表达式(2)，其中，α为第一变量系数，M

对于50mj的预设曝光剂量，预设曝光剂量与参考曝光剂量的比值为1，为了实现50mj的目标曝光剂量，可以根据数字曝光设备的要求和经验，确定出DMD单元的参考开启次数M

对于一个曝光区域，α可以等于该曝光区域对应的预设曝光剂量与参考曝光剂量的比值。例如，在DMD单元扫描至曝光区域B时，曝光区域B的第一变量系数α

例如，在DMD单元扫描至曝光区域A时，曝光区域A的第一变量系数α

例如，在DMD单元扫描至曝光区域C时，曝光区域C的第一变量系数α

例如，在DMD单元扫描至曝光区域D时，曝光区域D的第一变量系数α

在一种实施方式中，目标剂量关系式包括数字微镜单元的脉冲时间，根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量；调节数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量，包括：根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标脉冲时间；调节数字微镜单元在曝光区域的脉冲时间为对应的目标脉冲时间，以获得目标曝光剂量。这样的方式，只需要确定出目标脉冲时间，便可以获得曝光区域对应的目标曝光剂量，确定过程简单，容易实现。

示例性地，数字微镜单元的脉冲时间包括参考脉冲时间和第二变量系数，目标脉冲时间为第二变量系数与参考脉冲时间的乘积，第二变量系数与比值相同。

示例性地，目标剂量关系式可以采用表达式(2)，其中，β为第二变量系数，T

对于50mj的预设曝光剂量，预设曝光剂量与参考曝光剂量的比值为1，为了实现50mj的目标曝光剂量，可以根据数字曝光设备的要求和经验，确定出DMD单元的参考开启次数M

对于一个曝光区域，β可以等于该曝光区域对应的预设曝光剂量与参考曝光剂量的比值。例如，在DMD单元扫描至曝光区域B时，曝光区域B的第二变量系数β

例如，在DMD单元扫描至曝光区域A时，曝光区域A的第二变量系数β

例如，在DMD单元扫描至曝光区域C时，曝光区域C的第二变量系数β

例如，在DMD单元扫描至曝光区域D时，曝光区域D的第二变量系数β

在一种实施方式中，目标剂量关系式包括曝光能量，根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量；调节数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量，包括：根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光能量；调节数字微镜单元在曝光区域的曝光能量为对应的目标曝光能量，以获得目标曝光剂量。这样的方式，只需要调节出目标曝光能量，便可以获得曝光区域对应的目标曝光剂量，调节过程简单，容易实现。

示例性地，曝光能量包括参考曝光能量和第三变量系数，目标曝光能量为第三变量系数与参考曝光能量的乘积，第三变量系数与比值相同。

示例性地，目标剂量关系式可以采用表达式(2)，其中，λ为第三变量系数，P

对于50mj的预设曝光剂量，预设曝光剂量与参考曝光剂量的比值为1，为了实现50mj的目标曝光剂量，可以根据数字曝光设备的要求和经验，确定出DMD单元的参考开启次数M

对于一个曝光区域，λ可以等于该曝光区域对应的预设曝光剂量与参考曝光剂量的比值。例如，在DMD单元扫描至曝光区域B时，曝光区域B的第三变量系数λ

例如，在DMD单元扫描至曝光区域A时，曝光区域A的第三变量系数λ

例如，在DMD单元扫描至曝光区域C时，曝光区域C的第三变量系数λ

例如，在DMD单元扫描至曝光区域D时，曝光区域D的第三变量系数λ

示例性地，选择各预设曝光剂量中的最大剂量作为参考曝光剂量，从而，得到的第一变量系数α、第二变量系数β或第三变量系数λ均小于或等于1，可以避免各曝光区域的目标开启次数、目标脉冲时间或目标曝光能量超过对应的允许剂量，方便调节得到目标曝光剂量。

在一种实施方式中，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量，可以包括：计算曝光区域对应的预设曝光剂量和参考曝光剂量的比值；根据比值和目标剂量关系式，调节在曝光区域的曝光能量、开启次数和脉冲时间中的至少两个，以获得对应的目标曝光剂量。

示例性地，在预设曝光剂量和参考曝光剂量的比值大于1的情况下，可以调节在曝光区域的曝光能量、开启次数和脉冲时间中的至少两个，以获得对应的目标曝光剂量。

示例性地，目标剂量关系式可以采用表达式(2)，可以确定多个预设曝光剂量中的任意一个为参考曝光剂量，例如，可以将曝光区域C的预设曝光剂量38mj确定为参考曝光剂量。对于曝光区域C，预设曝光剂量与参考曝光剂量的比值为1，因此，对于曝光区域C，第一变量系数α、第二变量系数β和第三变量系数λ可以均为1。为了实现38mj的目标曝光剂量，可以根据数字曝光设备的要求和经验，确定出DMD单元的参考开启次数M

示例性地，可以将第三变量系数设置为可调节的，将第一变量系数α和第二变量系数β设定为1。也就是说，DMD单元在对待曝光基板的各个曝光区域进行扫描曝光过程中，曝光能量为可调节的，DMD单元的开启次数保持为参考开启次数M

需要说明的是，第一变量系数α、第二变量系数β和第三变量系数λ均为小于1或等于1的数值。

例如，在DMD单元扫描至曝光区域B时，曝光区域B的第三变量系数λ

例如，在DMD单元扫描至曝光区域A时，曝光区域A的第三变量系数λ

示例性地，为了使得λ

对于曝光区域C，λ

对于曝光区域D，λ

图3为本公开一实施例中获得目标曝光剂量的流程示意图。如图3所示，确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域；确定目标扫描速度；基于曝光能量的第三变量系数为可调节系数，可以通过调节脉冲时间和调节开启次数两种方式来实现目标曝光剂量。

如图3所示，在脉冲时间的方案中，当曝光区域的预设曝光剂量小于或等于参考曝光剂量时，只需要调节曝光能量即可实现目标曝光剂量；当曝光区域的预设曝光剂量大于参考曝光剂量时，同时调节曝光能量和脉冲时间来实现目标曝光剂量。

如图3所示，在开启次数的方案中，当曝光区域的预设曝光剂量小于或等于参考曝光剂量时，只需要调节曝光能量即可实现目标曝光剂量；当曝光区域的预设曝光剂量大于参考曝光剂量时，同时调节曝光能量和开启时间来实现目标曝光剂量。

图4为本公开一实施例中扫描曝光装置的结构框图。本公开实施例还提供一种扫描曝光装置，应用于数字曝光设备，装置包括：

速度和预设剂量确定模块41，用于根据待曝光基板的多个待曝光版图，确定目标扫描速度和各待曝光版图分别对应的预设曝光剂量；

曝光区域确定模块42，用于根据各待曝光版图和各预设曝光剂量，确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域；

参考剂量确定模块43，用于根据各预设曝光剂量，确定参考曝光剂量；

曝光调节模块45，用于基于目标扫描速度对待曝光基板进行扫描，在扫描至各曝光区域的情况下，调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量；

其中，装置还包括：目标剂量确定模块44，用于根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。

在一种实施方式中，目标剂量确定模块包括：计算子模块，用于计算曝光区域对应的预设曝光剂量和参考曝光剂量的比值；目标剂量确定子模块，用于根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。

示例性地，目标剂量关系式包括数字微镜单元的开启次数，目标剂量确定子模块还用于根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标开启次数；曝光调节模块还用于调节数字微镜单元在曝光区域的开启次数为对应的目标开启次数，以获得目标曝光剂量。

示例性地，目标剂量关系式包括数字微镜单元的脉冲时间，目标剂量确定子模块还用于根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标脉冲时间；曝光调节模块还用于调节数字微镜单元在曝光区域的脉冲时间为对应的目标脉冲时间，以获得目标曝光剂量。

示例性地，目标剂量关系式包括曝光能量，目标剂量确定子模块还用于根据比值和目标剂量关系式，确定对应的目标曝光能量；曝光调节模块还用于调节数字微镜单元在曝光区域的曝光能量为对应的目标曝光能量，以获得目标曝光剂量。

本公开实施例还提供一种数字曝光设备，包括本公开任一实施例中的扫描曝光装置。

在本说明书的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。在本公开的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本公开中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。

在本公开中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

上文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本公开的不同结构。为了简化本公开，上文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本公开。此外，本公开可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。

以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到其各种变化或替换，这些都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。