基板处理装置

技术领域

本发明涉及一种对半导体晶片、液晶显示器或有机EL(Electroluminescence：场致发光)显示装置用基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等基板(以下，仅称作基板)进行正面清洗、反面清洗等清洗处理的基板处理装置。

背景技术

以往，作为这种装置存在具有分度器部、处理部、反转路径部的装置。例如，参考日本特开2014-72490号公报(图2)。

分度器部具有容纳架承载部和分度机械手。处理部具有正面清洗单元和反面清洗单元作为处理单元。容纳架承载部对容置了多张基板的容纳架进行承载。分度机械手在容纳架与反转路径部之间搬运基板。反转路径部具有反转路径单元。反转路径单元具有承载基板的多层搁板，并与处理部之间交接基板或使基板的正面和反面反转。

从分度器部观察，处理部的左侧具有两台反面清洗单元。处理部的两台反面清洗单元的上方具有两台正面清洗单元。也就是说，从分度器部观察，处理部的左侧具有四层结构的第一处理部列。从分度器部观察，处理部的右侧具有两台反面清洗单元。处理部的两台反面清洗单元的上方具有两台正面清洗单元。也就是说，从分度器部观察，处理部的右侧具有四层结构的第二处理部列。处理部具有一台主机器人，所述主机器人在正面清洗单元及反面清洗单元与反转路径单元之间搬运基板。

在该装置中，处理部只设置了一台主机器人。但是，近来，为了提高生产能力，存在具有如下结构的装置，即，处理部的上部的两层处理单元具有一台主机器人，处理部的下部的两层处理单元具有一台主机器人。换言之，处理部具有两台主机器人。例如，参考日本特开2016-201526号公报(图10)。

但是，具有这样的结构的现有装置存在下述问题。

即，如果现有装置的上部或下部的一方的主机器人发生故障，或者，上部或下部的处理单元全部发生故障，则只能进行正面清洗或反面清洗中的一者。因此，存在这样的问题，即，如果发生上述这样的故障，则现有装置无法进行完整的正反面清洗处理。

发明内容

本发明是鉴于这样的情况而提出的，其目的在于提供一种基板处理装置，其采用能够提高生产能力的结构，并且，即使在上部或下部的结构中任一方发生故障时，也能够进行完整的正反面清洗处理。

为达到这样的目的，本发明采用如下结构。

本发明是一种对基板进行清洗处理的基板处理装置，所述装置具有：分度器部，具有容纳架承载部和分度机械手，所述容纳架承载部对容置有多张基板的容纳架进行承载，所述分度机械手在与所述容纳架承载部的所述容纳架之间搬运基板；处理部，具有正面清洗单元和反面清洗单元作为处理单元，所述正面清洗单元执行基板的正面清洗处理，所述反面清洗单元执行基板的反面清洗处理；以及反转路径部，配置在所述分度器部与所述处理部之间，具有承载基板的多层搁板，并具有反转基板的正反面的反转功能。所述处理部具备至少一个塔单元，所述塔单元在上部和下部分别具有多个所述处理单元，所述上部具有至少一个所述正面清洗单元和至少一个所述反面清洗单元，所述下部具有至少一个所述正面清洗单元和至少一个所述反面清洗单元。所述基板处理装置具有搬运部，所述搬运部在所述上部和所述下部分别具有中心机器人，所述中心机器人在所述塔单元中的各个所述处理单元与所述反转路径部之间搬运基板。

根据本发明，处理部具有至少一个塔单元。该塔单元的上部和下部分别具有多个处理单元。该塔单元的上部具有至少一个正面清洗单元和至少一个反面清洗单元。该塔单元的下部具有至少一个正面清洗单元和至少一个反面清洗单元。另外，搬运部在处理器的上部和下部分别具有中心机器人。因此，能够提高生产能力。在该结构中，能够在上部或下部中的一方的中心机器人发生故障，或者，上部或下部中的一方的全部处理单元发生故障时，通过上部或下部中的另一方来进行完整的正反面清洗处理。因此，采用能够提高生产能力的结构，并且，在上部或下部中的任一方的结构发生故障場合时也能够进行完整的正反面清洗处理。

另外，在本发明中，优选所述反转路径部在所述上部和所述下部分别具有至少两个独立的反转路径单元，所述反转路径单元分别具有承载基板的多层搁板，并且具有使基板的正反面反转的反转功能。

反转路径部在上部和下部分别具有至少两个独立的反转路径单元。因此，能够在各上下部同时实施交接基板W的动作和反转基板W的动作，所述交接基板W的动作是用于进行正面清洗处理，无需反转基板的正反面而仅交接基板W的动作，所述反转基板W的动作是用于进行反面清洗处理而使基板W反转的动作。因此，能够高效地进行上部和下部中的完整的正反面清洗处理。

在本发明中，优选所述处理部具有多个所述塔单元，靠近所述反转路径部的塔单元比远离所述反转路径部的塔单元具有更多的所述正面清洗单元。

通常，相比反面清洗处理，实施正面清洗处理的比例更高。因此，通过靠近反转路径部的塔单元具有更多的正面清洗单元，能够缩短中心机器人的搬运时间。因此，能够高效地实施正面清洗处理。

本发明优选各个所述塔单元在隔着所述中心机器人而相对的相同高度位置上具有所述正面清洗单元和所述反面清洗单元。

因为当经由反转路径部在正面清洗单元与反面清洗单元之间搬运基板时，能够省略中心机器人在上下方向的移动，所以，能够提高基板的搬运效率。

在本发明中，优选各个所述塔单元中，靠近所述反转路径部的塔单元具有至少一个在上下方向上所述正面处理单元和所述反面处理单元相邻的组。

塔单元中靠近反转路径部的塔单元的正面处理单元与反面处理单元在上下方向上相邻配置。因此，当进行完整的正反面清洗处理时，能够缩短中心机器人在前后方向上移动的距离，因此，能够高效地搬运基板。

在本发明中，优选靠近所述反转路径部的塔单元中，所述上部与所述下部在两者的界限处分别具有所述正面清洗单元。

通常，相比反面清洗处理，实施正面清洗处理的比例更高。因此，通过将正面清洗单元配置在上部与下部的界限处，能够在利用上部和下部这两部分来进行正面清洗处理时，缩短分度机械手在上下方向的移动距离。因此，能够提高正面清洗处理的处理效率。

在本发明中，优选靠近所述反转路径部的塔单元中，所述上部与所述下部在两者的界限处分别具有所述反面清洗单元。

因为将反面清洗单元配置在上部与下部的界限处，能够在进行多个反面清洗处理时缩短分度机械手在上下方向上的移动距离。因此，能够提高反面清洗处理的处理效率。

在本发明中，优选所述塔单元中，以与所述上部所具有的多个处理单元配置相同地，所述下部具有多个处理单元。

即使在上部或下部中的一方的处理单元发生故障时，也能够以上下方向上的相同的搬运路径由另一方继续执行相同的处理。因此，即使由另一方进行处理，也依然能够保证生产能力。

附图说明

为了说明本发明，在附图中示出了目前优选的几种形式，但是应当理解，本发明不限于所示的具体布置和手段。

图1是表示实施例的基板处理装置的整体结构的立体图。

图2是基板处理装置的俯视图，表示处理部的上部的上层。

图3是基板处理装置的俯视图，表示处理部的上部的下层。

图4是基板处理装置的侧面图。

图5是表示分度机械手整体的立体图。

图6A、图6B是表示分度机械手的手部的立体图，图6A表示设置为四片的手部主体，图6B表示设置为两片的手部主体。

图7是从背面观察分度器部的状态下的反转路径部的立体图。

图8是表示从左侧面观察分度器部和反转路径部的状态的图。

图9是表示反转路径单元的关键部分的立体图。

图10A～图10D是反转路径单元的动作说明图。

图11是表示搬运基板处理装置时的状态的分解立体图。

图12是表示搬运部的关键部分的立体图。

图13是表示处理部的处理单元的配置例1的示意图。

图14是表示处理部的处理单元的配置例2的示意图。

图15是表示处理部的处理单元的配置例3的示意图。

图16是表示处理部的处理单元的配置例4的示意图。

具体实施方式

下面，参考附图对本发明的一个实施例进行说明。

图1是表示实施例的基板处理装置的整体结构的立体图。图2是基板处理装置的俯视图，表示处理部的上部的上层。图3是基板处理装置的俯视图，表示处理部的上部的下层。图4是基板处理装置的侧面图。

本实施例的基板处理装置1是一种能够执行正面清洗处理和反面清洗处理的装置，正面清洗处理清洗基板W的正面，反面清洗处理清洗基板的反面。该基板处理装置1具有分度器部3、反转路径部5、处理部7、搬运部9、应用部11。

分度器部3在与反转路径部5之间交接处理对象即基板W。反转路径部5配置在分度器部3与处理部7之间。反转路径部5无需反转基板的正反面，而直接在分度器部3与搬运部9之间交接基板W。另外，反转路径部5反转基板的正反面并在与搬运部9之间交接基板W。搬运部9对反转路径部5与处理部7之间的基板W进行搬运。处理部7具有正面清洗单元SS和反面清洗单元SSR，正面清洗单元SS清洗基板W的正面，反面清洗单元SSR清洗基板W的反面。应用部11具有向处理部7供给药液或纯水等处理液、氮气或空气等气体的结构等。

基板处理装置1按照分度器部3、反转路径部5、处理部7及搬运部9、应用部11的顺序排列配置。

在下述说明中，将分度器部3、反转路径部5、处理部7及搬运部9、应用部11的排列方向作为“前后方向X”(水平方向)。尤其，将从应用部11朝向分度器部3的方向作为“前方XF”，将与前方XF方向相反的方向作为“后方XB”。将在水平方向上与前后方向X垂直的方向作为“宽度方向Y”。进而，在从分度器部3的正面观察时，适当地将宽度方向Y的一个方向作为“右侧YR”，将与右侧YR相反的另一个方向作为“左侧YL”。另外，将垂直方向作为“上下方向Z”(高度方向、垂直方向)。此外，在仅记载“侧向”或“横向”等时，不为前后方向X及宽度方向Y的任一个所限制。

分度器部3具有容纳架承载部13、搬运空间AID、分度机械手TID。本实施例中的基板处理装置1例如具有四个容纳架承载部13。具体而言，在宽度方向Y上具有四个容纳架承载部13。各个容纳架承载部13承载容纳架C。容纳架C层叠并收纳多张(例如，二十五张)基板W。各个容纳架承载部13例如在与未图示的OHT(Overhead Hoist Transport：高架提升输送)之间交接容纳架C。OHT利用无尘室的顶棚搬运容纳架C。作为容纳架C，例如可以列举出FOUP(Front Opening Unified Pod：前开式标准舱)。

搬运空间AID配置在容纳架承载部13的后方XB。搬运空间AID中配置有分度机械手TID。分度机械手TID在与容纳架C之间交接基板W。分度机械手TID在与反转部5之间交接基板W。在搬运空间AID仅配置一台分度机械手TID。

在此，参考图5，图5是表示分度机械手整体的立体图。

如图5所示，分度机械手TID具有导轨15、基台部17、多关节臂部19、手部21。导轨15沿上下方向Z配置其长度方向。基台部17在未图示的驱动部的驱动下沿导轨15升降。此时，导轨15沿上下方向Z引导基台部17。导轨15在前后方向X和宽度方向Y上的位置是固定的。具体而言，导轨15配置在从分度器部3的容纳架承载部13一侧观察时，与反转路径部5中的基板W的承载位置在宽度方向Y上不重合的位置上。并且，导轨15设置在分度器部3中的反转路径部5一侧的内壁侧。在此，定义俯视时连接宽度方向Y上的分度器部3的中央与宽度方向Y上的反转路径部5的中央的假想线VL(参考图2、图3)。导轨15和基台部17配置在从该假想线VL向一侧偏离的位置。在本实施例中，导轨15和基台部17配置在向右侧YR偏离的位置。俯视时从分度器部3的背面向容纳架承载部13侧留出空间SP来配置基台部17。该空间SP的大小可以容置反转路径部5的至少一部分。

基台部17具有基台部主体17a、固定臂部17b。基台部主体17a可移动地配置于导轨15。固定臂部17b从基台部主体17a侧向延伸。固定臂部17b以其前端侧位于四个容纳架承载部13的宽度方向Y的中央的方式，从基台部主体17a向前方XF延伸配置。也就是说，固定臂部17b以其前端侧位于上述假想线VL的方式从基台部主体17a向前方XF延伸地配置。多关节臂部19由第一臂部19a、第二臂部19b、第三臂部19c组成。其中，将配置有手部21的第三臂部19c作为前端部侧，将第一臂部19a作为基端部侧。多关节臂部19的作为基端部侧的第一臂部19a的基端部安装在固定臂部17b的前端部侧。

第一至第三臂部19a、19b、19c分别通过旋转轴P1、旋转轴P2、旋转轴P3可旋转地构成多关节臂部19。旋转轴P1是第一臂部19a的基端部侧旋转轴。旋转轴P2是第二臂部19b的基端部侧的旋转轴。旋转轴P3是第三臂部19c的基端部侧的旋转轴。多关节臂部19的手部21在前后方向X和宽度方向Y上可自由移动。基台部17沿着导轨15升降。手部21与基台部17一同沿导轨15升降。如此，手部21能够在上下方向Z上移动。另外，从容纳架承载部13一侧观察，多关节臂部19的基端部侧即第一臂部19a的旋转轴P1在宽度方向Y上比导轨15更向反转路径部5侧偏离。也就是说，旋转轴P1位于上述假想线VL。另外，若以基台部17为标准，则旋转轴P1位于左侧YL。如此构成的分度机械手TID通过多关节臂部19能够到达四个容纳架C和后述反转路径部5。

在此，参考图6A、图6B，图6A、图6B是表示分度机械手的手部的立体图，图6A表示设置为四片的手部主体，图6B表示设置为两片的手部主体。

上述分度机械手TID具有手部21。如图6A所示，手部21从上至下依次具有手部主体21a、手部主体21b、手部主体21c、手部主体21d。手部21的四片手部主体21a～21d安装于第三臂部19c。如图6B所示，该四片手部主体21a～21d中，最上部的手部主体21a与最下部的手部主体21d能够沿上下方向Z升降。在与容纳架C之间搬运基板W时，例如，当容纳架C收纳有二十五张基板W时，分度机械手TID利用四片手部主体21a～21d依次搬运基板W，每次搬运四张基板W。在收纳于容纳架C的基板W剩余一张的情况下，例如，通过将手部主体21a与手部主体21b一体化的手部主体21a与手部主体21b来搬运一张基板W，并通过将手部主体21c与手部主体21d一体化的手部主体21c与手部主体21d来搬运下一个容纳架C剩余的一张基板W。由此，通过具有四片手部主体21a～21d的分度机械手TID，能够高效地进行与收纳有二十五张基板W的容纳架C之间的基板搬运。

在此，参考图7和图8，图7是从背面观察分度器部的状态下的反转路径部的立体图，图8是表示从左侧面观察分度器部和反转路径部的状态的图。

反转路径部5相对于分度器部3一体安装在分度器部3的处理部7一侧。具体而言，在分度器部3的背面侧(后方XB)具有从分度器部3向处理部7一侧延伸的承载框架25、承载悬挂框架27、悬挂框架29。反转路径部5具有反转路径单元31。在分度器部3的背面一侧形成有与搬运空间AID连通的上部接入口3a和下部接入口3b。反转路径单元31具有上部反转路径单元33、下部反转路径单元35。上部反转路径单元33配置在与上部接入口3a对应的位置上，下部反转路径单元35配置在与下部接入口3b对应的位置上。下部反转路径单元35的下部被螺钉固定在承载框架25上。下部反转路径单元35的上部通过固定件37固定在承载悬挂框架27上。另外，上部反转路径单元33的下部被螺钉固定在承载悬挂框架27上。上部反转路径单元33的上部通过固定件39固定在悬挂框架29上。

俯视时，上部反转路径单元31与下部反转路径单元33在前后方向X和宽度方向Y上无偏离地重合配置。因此，能够减小基板处理装置1的占用面积。

虽然反转路径部5与分度器部3一体构成，但是，当搬运基板处理装置1时，反转路径部5的至少一部分能够收纳进分度器部3的内部。

具体而言，首先，卸下分别固定上部反转路径单元33的下部和下部反转路径单元35的下部的螺钉。其次，卸下固定件37、39。进而，将上部反转路径单元33从上部接入口3a压入位于分度器部3的内部的空间SP。最后，将下部反转路径单元35从下部接入口3b压入位于分度器部3的内部的空间SP。由此，反转路径部5的至少一部分能够可靠地收纳进分度器部3的内部。

上部反转路径单元33具有反转路径筐体部33a、筐体部隔板33b。在由筐体部隔板33b分隔的上部配置有上部反转路径部33U。在由筐体部隔板33b分隔的下部配置有下部反转路径部33D。另外，下部反转路径单元35具有反转路径筐体部35a、筐体部隔板35b。在由筐体部隔板35b分隔的上部配置有上部反转路径部35U。在由筐体部隔板33b分隔的下部配置有下部反转路径部35D。

在此，参考图9和图10A～图10D来详细说明反转路径单元31，图9是表示反转路径单元的关键部分的立体图，图10A～图10D是反转路径单元的动作说明图。

反转路径单元31具有上部反转路径单元33和下部反转路径单元35。上部反转路径单元33和下部反转路径单元35具有上部反转路径部33U、35U和下部反转路径部33D、35D。在下述说明中，以上部反转路径部33U为例进行说明。此外，上部反转路径部35U、下部反转路径部33D、35D也具有同样的结构。

上部反转路径部33U具有引导部41、旋转保持部43。引导部41承载基板W。旋转保持部43旋转以使承载于引导部41的基板W的正反面反转。此外，在右侧YR侧相向配置有同样的引导部41和旋转保持部43，但为了图示方便而省略。引导部41具有在前后方向X上分离的多层(例如，五层加五层合计十层)搁板45。多层搁板45以水平姿势层叠保持多张基板W。在向右侧YR凸出的承载位置(未图示)和图9所示向左侧YL退避的退避位置之间，通过驱动部(未图示)驱动该引导部41。退避位置是从基板W的下表面向左侧YL下降的斜下方。由此，退避时，基板W的下表面不会因引导部41而产生滑动。此外，未图示的引导部41在向左侧YL凸出的承载位置和向右侧YR的斜下方退避的退避位置之间被驱动。

旋转保持部43配置在引导部41之间。旋转保持部43具有层数与引导部41相同的多层(合计十层)搁板47。搁板47在上下方向Z上配置的高度位置与引导部41位于承载位置时的引导部41的各个搁板45相同。各个搁板47具有轻轻把持基板W的表反面的把持构件(未图示)。因此，在使基板W旋转时，能够防止基板W从各个搁板47掉落。旋转保持部43安装在旋转构件49上。旋转保持部43配置有在前后方向X分离的各个搁板47。在本实施例中，旋转构件49呈字母H形。在位于旋转构件49的H形的两端的I形部分配置有各个搁板47。旋转构件49与未图示的旋转驱动部和进退驱动部相连接。旋转构件49以沿宽度方向Y的旋转轴P4为中心旋转。进而，旋转构件49被驱动而在向图9所示右侧YR凸出的把持位置与向左侧YL退避的退避位置(未图示)之间进退。通过这些动作，使各个搁板47旋转或进退。此外，未图示的旋转构件49被驱动而在向左侧YL凸出的把持位置与向右侧YR退避的退避位置之间进退。

上述上部反转路径部33U在图10A的状态下，承载多张基板W，并无需反转基板的正反面而直接进行交接。另外，通过如图10A～图10D所示般的动作，使多张基板的正反面反转并进行交接。

使基板的正反面反转时，例如，如下述般，驱动引导部41和旋转保持部43。

在初始状态下被移动至承载位置，所述承载位置是各个引导部41在宽度方向Y上相隔大致基板W的直径长度的位置。旋转保持部43被移动至退避位置(图10A)。在该状态下，引导部41承载多张基板W。然后，旋转保持部43移动至把持位置(图10B)。接着，引导部41移动至退避位置(图10C)。进而，旋转保持部43以旋转轴P4为中心仅旋转半周(图10D)。通过这一系列的动作，能够同时反转多张基板W的正反面。

此外，上述上部反转路径部33U及下部反转路径部33D、上部反转路径部35U及下部反转路径部35D相当于本发明的“独立的反转路径单元”。

返回图2～图4。进一步参考图11，图11是表示搬运基板处理装置时的状态的分解立体图。

在反转路径部5的后方XB配置处理部7和搬运部9。处理部7夹着搬运部9分别在左侧YL与右侧YR相向配置。

各个处理部7例如在上部UF和下部DF分别具有两层的处理单元PU。另外，各个处理部7在前后方向X上具有两个处理单元PU。也就是说，一个处理部7具有八台处理单元PU。因此，两个处理部7共具有十六台处理单元PU。如图11所示，在下述说明中，在需要区分各个处理单元PU的情况下，将位于左侧YL前方XF的处理单元PU的自上而下配置的四台处理单元PU分别称作处理单元PU11～PU14。将位于右侧YR前方XF的处理单元PU的自上而下配置的四台处理单元PU分别称作处理单元PU21～PU24。将位于左侧YL后方XB的处理单元PU的自上而下配置的四台处理单元PU分别称作处理单元PU31～PU34。将位于右侧YR后方XB的处理单元PU的自上而下配置的四台处理单元PU分别称作处理单元PU41～PU44。

将位于左侧YL前方XF的四台处理单元PU11～PU14称作塔单元TW1。将位于右侧YR前方XF的四台处理单元PU21～PU24称作塔单元TW2。将位于左侧YL后方XB的四台处理单元PU31～PU34称作塔单元TW3。将位于右侧YR后方XB的四台处理单元PU41～PU44称作塔单元TW4。此外，虽然两个处理单元7由四个塔单元TW1～TW4组成，但是采用的是塔单元TW1～TW4各自进行控制或管理，且能够容易地将电线或流体的管路与各个塔单元TW1～TW4分离或连接的结构。

处理部7的上部UF的上层，例如，如图2所示，配置有正面清洗单元SS。正面清洗单元SS清洗处理基板W的正面。通常，基板W的正面形成有电子电路图案等。正面清洗单元SS例如具有吸引卡盘51、挡板53、处理喷嘴55。吸引卡盘51通过真空吸引来吸附基板W的反面的中心附近。吸引卡盘51被未图示的电动马达驱动而旋转。由此，吸引卡盘51在水平面内驱动基板W使其旋转。挡板53以围绕吸引卡盘51的周围的方式配置。挡板53防止从处理喷嘴55供给至基板W的处理液向周围飞溅。处理喷嘴55例如以喷气方式向基板W正面供给处理液。由此，处理喷嘴55清洗基板W的正面。

如图3所示，处理部7的上部UF中的下层例如配置有反面清洗单元SSR。反面清洗单元SSR清洗基板W的反面。通常，基板W的反面没有电子电路图案等。反面清洗单元SSR例如具有机械卡盘57、挡板59、清洗刷61。机械卡盘57抵接支撑基板W的周缘，无需与基板W的下表面的大部分接触，而以水平姿势支撑基板W。机械卡盘57被未图示的电动马达驱动而旋转。由此，机械卡盘57在水平面内驱动基板W使其旋转。挡板59以围绕机械卡盘57的周围的方式配置。挡板59防止处理液因清洗刷61而向周围飞溅。清洗刷61例如具有绕纵轴旋转的刷。清洗刷61通过刷的旋转力使供给的处理液作用于基板W的反面而进行清洗。

本实施例中的处理部7的下部DF例如形成为与上述上部UF的上层和下层相同的结构。也就是说，处理部的下部DF的上层具有正面清洗单元SS。处理部的下部DF中的下层具有反面清洗单元SSR。也就是说，处理部7的全部十六台处理单元PU具有八台正面清洗单元SS和八台反面清洗单元SSR。

在此，除参考图2～图4外另参考图12，图12是表示搬运部的关键部分的立体图。

搬运部9在与上部UF和下部DF对应的位置上分别配置有中心机器人CR1、CR2。搬运部9在上部UF与下部DF的边界位置未配置隔板等。因此，装置内的下行气流能够从搬运部9的上部UF向下部DF流通。中心机器人CR1在反转路径部5的上部反转路径单元33与上部UF的各个处理单元PU之间搬运基板W。另外，中心机器人CR2在反转路径部5的下部反转路径单元35与下部DF的各个处理单元PU之间搬运基板W。如此，经由反转路径部5的上部反转路径单元33和下部反转路径单元35，能够针对上部UF和下部DF的处理部7，利用各个中心机器人CR1、CR2将基板W分成两部分。因此，能够提高生产能力。

因为中心机器人CR1和中心机器人CR2结构相同，所以，在此以中心机器人CR1为例进行说明。

中心机器人CR1具有固定框63、可动框65、基台部67、旋转底座69、臂部71。固定框63具有能够到达上部UF的全部处理单元PU的开口。可动框65沿前后方向X可移动地安装在固定框63内。基台部67安装在构成可动框65的四个框中的下框上。基台部67的上部装载有旋转底座69。旋转底座69相对于基台部67在水平面内可旋转。臂部71相对于旋转底座69可进退地装载在旋转底座69的上部。臂部71以臂部主体71b与臂部主体71a的上部重叠的方式配置。臂部71能够在与旋转底座69重叠的第一位置和从旋转底座69凸出的第二位置之间进退。通过该结构，中心机器人CR1例如在接入处理单元PU时，在旋转底座69朝向处理单元PU的状态下，通过臂部主体71a接收在处理单元PU处理完毕的基板W。中心机器人CR1能够将臂部主体71b支撑的未处理的基板W交接给处理单元PU。

搬运部9如上述般构成，与宽度方向Y上相邻的两个处理部7没有共同框架。因此，搬运部9能够与相邻的处理部7分离。另外，如图11所示，在搬运时，具有上述结构的基板处理装置1能够分离为一体地安装有反转路径部5的分度器部3、处理部7、搬运部9、应用部11。另外，处理部7能够进一步分离为四个塔单元TW1～TW4。因此，能够克服飞机运输时对高度、宽度和进深的限制。进而，如图8所示，一体地安装于分度器部3上的反转路径部5能够将其一部分容置于分度器部3的内部。因此，不仅能够克服飞机运输时对高度、宽度和进深的限制外，还能够克服对体积的限制。

＜配置例1＞

在此，参考图13，图13是表示处理部的处理单元的配置例1的示意图。

上述处理部7由四个塔单元TW1～TW4组成。各个塔单元TW1～TW4例如优选如下述般构成。

塔单元TW1具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU11。塔单元TW1具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU12。塔单元TW1具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU13。塔单元TW1具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU14。塔单元TW2具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU21。塔单元TW2具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU22。塔单元TW2具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU23。塔单元TW2具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU24。塔单元TW3具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU31。塔单元TW3具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU32。塔单元TW3具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU33。塔单元TW3具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU34。塔单元TW4具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU41。塔单元TW4具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU42。塔单元TW4具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU43。塔单元TW4具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU44。

也就是说，具有上述结构的配置例1中，各个塔单元TW1～TW4的每个上部UF和每个下部DF均具有两个处理单元PU。各个塔单元TW1～TW4的上部UF具有一个正面清洗单元SS和一个反面清洗单元SSR。各个塔单元TW1～TW4的下部DF具有一个正面清洗单元SS和一个反面清洗单元SSR。此外，上部UF和下部DF的正面清洗单元SS和反面清洗单元SSR的上下位置关系可以调换。

如此，在配置例1中，处理部7具有四个塔单元TW1～TW4。各个塔单元TW1～TW4的每个上部UF和每个下部DF均具有两个处理单元PU。各个塔单元TW1～TW4的上部UF具有一个正面清洗单元SS和一个反面清洗单元SSR。各个塔单元TW1～TW4的下部DF具有一个正面清洗单元SS和一个反面清洗单元SSR。搬运部9具有与处理部7中的上部UF和下部DF分别对应的中心机器人CR1、CR2。因此，能够提高生产能力。在该配置例1中假想了上部UF或下部DF中的一方的中心机器人CR1、CR2发生故障，或者，上部UF的全部处理单元PU11、PU12、PU21、PU22、PU31、PU32、PU41、PU42发生故障或下部DF的全部处理单元PU13、PU14、PU23、PU24、PU33、PU34、PU43、PU44发生故障的情况。于是，能够通过上部UF或下部DF中没有发生故障的另一方的处理单元PU执行完整的正反面清洗处理。因此，即使上部UF或下部DF中任一方发生故障，也能够执行完整的正反面清洗处理。

另外，如上所述，反转路径部5在上部UF具有上部反转路径单元33，在下部DF具有下部反转路径单元35。因此，能够分别在上部UF和下部DF进行完整的正反面清洗处理。进而，上部UF的上部反转路径单元33具有上部反转路径部33U和下部反转路径部33D。下部DF的下部反转路径单元35具有上部反转路径部35U和下部反转路径部35D。每个上部UF和每个下部DF至少两个部位具有多层搁板45、47和反转功能。因此，能够分别在上部UF和下部DF同时实施交接动作和反转动作，所述交接动作是为了进行正面清洗处理、无需反转基板的正反面而仅交接基板W的动作，所述反转动作是为了进行反面清洗处理而使基板W反转的动作。其结果，能够高效地在上部UF和下部DF执行完整的正反面清洗处理。

＜配置例2＞

在此，参考图14，图14是表示处理部的处理单元的配置例2的示意图。

处理部7所具有的四个塔单元TW1～TW4例如可以如下述般构成。

塔单元TW1具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU11。塔单元TW1具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU12。塔单元TW1具有正面清洗单元SS作为下部UF的处理单元PU13、PU14。塔单元TW2与塔单元TW1同样地具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU21。塔单元TW2具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU22。塔单元TW2具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU23、PU24。塔单元TW3具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU31。塔单元TW3具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU32。塔单元TW3具有正面清洗单元SS作为下部UF的处理单元PU33。塔单元TW3具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU34。塔单元TW4与塔单元TW3同样地具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU41。塔单元TW4具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU42。塔单元TW4具有正面清洗单元SS作为下部UF的处理单元PU43。塔单元TW4具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU44。

也就是说，该配置例2的处理部7具有四个塔单元TW1～TW4。靠近反转路径部5的塔单元TW1、TW2比塔单元TW3、TW4具有更多的正面清洗单元SS，所述塔单元TW3、TW4配置在比塔单元TW1、TW2更远离转器部5的位置上。

通常，在清洗基板W的正反面的清洗处理中，相比反面清洗处理实施正面清洗处理的比例更高。因此，通过靠近反转路径部5的塔单元TW1、TW2具有更多的正面清洗单元SS，能够缩短中心机器人CR1、CR2在前后方向X上的搬运时间。因此，能够高效地实施对基板W的正面清洗处理。

＜配置例3＞

在此，参考图15，图15是表示处理部的处理单元的配置例3的示意图。

处理部7所具有的四个塔单元TW1～TW4例如优选如下述般构成。

塔单元TW1与上述配置例1同样地具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU11。塔单元TW1具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU12。塔单元TW1具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU13。塔单元TW1具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU14。塔单元TW2具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU21。塔单元TW2具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU22。塔单元TW2具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU23。塔单元TW2具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU24。塔单元TW3与上述配置例1同样地具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU31。塔单元TW3具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU32。塔单元TW3具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU33。塔单元TW3具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU34。塔单元TW4具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU41。塔单元TW4具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU42。塔单元TW4具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU43。塔单元TW4具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU44。

也就是说，上述配置例3中，塔单元TW1和塔单元TW2在隔着中心机器人CR1、CR2相向的相同高度位置上具有正面清洗单元SS和反面清洗单元SSR。塔单元TW3和塔单元TW4在隔着中心机器人CR1、CR2相向的相同高度位置上具有正面清洗单元SS和反面清洗单元SSR。因此，当经由反转路径部5在正面清洗单元SS与反面清洗单元SSR之间搬运基板W时，能够省略中心机器人CR1、CR2在上下方向Z的移动。其结果，能够提高基板W的搬运效率。

＜配置例4＞

在此，参考图16，图16是表示处理部的处理单元的配置例4的示意图。

处理部7所具有的四个塔单元TW1～TW4例如优选如下述般构成。

塔单元TW1具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU11。塔单元TW1具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU12。塔单元TW1具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU13。塔单元TW1具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU14。塔单元TW2具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU21。塔单元TW2具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU22。塔单元TW2具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU23。塔单元TW2具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU24。塔单元TW3具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU31。塔单元TW3具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU32。塔单元TW3具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU33。塔单元TW3具有反面清洗单元SSR作为下部DF的处理单元PU34。塔单元TW4具有正面清洗单元SS作为上部UF的处理单元PU41。塔单元TW4具有反面清洗单元SSR作为上部UF的处理单元PU42。塔单元TW4具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU43。塔单元TW4具有正面清洗单元SS作为下部DF的处理单元PU44。

也就是说，在该配置例4中，靠近反转路径部5的塔单元TW1中，上部UF和下部DF在两者的界限处分别具有反面清洗单元SSR。

如此，在上部UF和下部DF的界限处配置反面清洗单元SSR，因此，能够缩短执行多个反面清洗处理时分度机械手TID在上下方向的移动距离。其结果，能够提高反面清洗处理的处理效率。

另外，在上述配置例1中，各个塔单元TW1～TW4中靠近反转路径部5的塔单元TW1具有在上下方向Z上正面处理单元SS与反面处理单元SSR相邻的组。具体而言，塔单元TW1具有处理单元PU11、PU12和处理单元PU13、PU14。与塔单元TW1同样地，靠近反转路径部5的塔单元TW2具有在上下方向Z上正面处理单元SS与反面处理单元SSR相邻的组。具体而言，塔单元TW2具有处理单元PU21、PU22和处理单元PU23、PU24。

另外，在上述配置例2中，各个塔单元TW1～TW4中靠近反转路径部5的塔单元TW1具有在上下方向Z上反面处理单元SSR与正面处理单元SS相邻的组。具体而言，塔单元TW1具有处理单元PU11、PU12。靠近反转路径部5的塔单元TW2具有在上下方向Z上反面处理单元SSR与正面处理单元SS相邻的组。具体而言，塔单元TW2具有处理单元PU21、PU22。

在上述配置例3、4中，各个塔单元TW1～TW4中靠近反转路径部5的塔单元TW1具有在上下方向Z上正面处理单元SS与反面处理单元SSR相邻的组。具体而言，塔单元TW1具有处理单元PU11、PU12和处理单元PU13、PU14。靠近反转路径部5的塔单元TW2具有在上下方向Z上反面处理单元SSR与正面处理单元SS相邻的组。具体而言，塔单元TW2具有处理单元PU21、PU22和处理单元PU23、PU24。

如上述配置例1～4所示，塔单元TW1～TW4中靠近反转路径部5的塔单元中，在上下方向Z上正面处理单元SS与反面处理单元SSR相邻配置。因此，当进行完整的正反面清洗处理时，能够缩短中心机器人CR1、CR2在前后方向X上移动的距离。其结果，能够高效地搬运基板W。

另外，上述配置例1中，各个塔单元TW1～TW4的配置与上部UF所具有的两个处理单元PU11、PU12的配置相同。也就是说，以上层具有正面处理单元SS、其下层具有反面处理单元SSR的方式，下部DF具有两个处理单元PU13、PU14。

上述配置例3中，各个塔单元TW1、TW3的配置与上部UF所具有的两个处理单元PU11、PU12和PU31、PU32的配置相同。也就是说，以上层具有正面处理单元SS、其下层具有反面处理单元SSR的方式，下部DF具有两个处理单元PU13、PU14和PU33、PU44。另外，各个塔单元TW2、TW4的配置与上部UF所具有的两个处理单元PU21、PU22和PU41、PU44的配置相同。也就是说，以上层具有反面处理单元SSR、其下层具有正面处理单元SS的方式，下部DF分别具有两个处理单元PU23、PU24和PU43、PU44。

根据这样的结构，即使上部UF或下部DF中的一方中的处理单元PU发生故障，也能够以上下方向Z上的相同的搬运路径由另一方继续执行相同的处理。因此，即使在由另一方进行处理的情况下，也能够保证生产能力。

根据本实施例，处理部7具有至少一个塔单元TW1(或TW2、TW3、TW4)。该塔单元TW1在每个上部UF和每个下部DF具有两个处理单元PU。塔单元TW1的上部UF具有一个正面清洗单元SS和一个反面清洗单元SSR。塔单元TW1的下部UF具有一个正面清洗单元SS和一个反面清洗单元SSR。另外，搬运部9在与处理部7的上部UF和下部DF对应的位置分别具有中心机器人CR1、CR2。因此，能够提高生产能力。在这样的结构中，即使上部UF或下部DF中的一方的中心机器人CR1、CR2发生故障，或者，上部UF或下部DF中的一方的全部处理单元PU发生故障，也能够通过上部UF或下部DF中的另一方进行完整的正反面清洗处理。因此，采用了能够提高生产能力的结构，并且，在上部UF或下部DF中任一方的结构发生故障时也能够进行完整的正反面清洗处理。

本发明并不限于上述实施方式，能够如下述般进行变形。

(1)在上述实施例中，处理部7由四个塔部TW1～TW4组成。但是，本发明并不必须是这样的结构。本发明具有至少一个塔单元即可。另外，本发明也可以具有五个以上的塔部。

(2)在上述实施例中，处理部7的每个上部UF和每个下部DF具有两层处理单元PU。但是，本发明并不限于这样的结构。本发明例如可以具有三层以上的处理单元PU。由此，能够处理更多的基板W。

(3)在上述实施例中，反转路径部5具有上部反转路径单元33和下部反转路径单元35。上部反转路径单元33具有上部反转路径部33U和下部反转路径部33D。下部反转路径单元35具有上部反转路径部35U和下部反转路径部35D。但是，本发明并不限于这样的结构。例如，上部反转路径单元33和下部反转路径单元35可以分别具有一个反转路径部。由此，能够减少结构部件，所以，能够抑制装置成本。

在不脱离本发明的精神或实质的情况下，本发明可以以其他具体形式来体现，因此，应指出所附权利要求书，而不是前述说明书，以指示本发明的范围。