蒸镀方法

技术领域

本发明涉及将蒸镀材料蒸镀到基板上的技术。

背景技术

有机EL显示装置包括的有机EL元件在阳极(anode)与阴极(cathode)之间设置有由有机EL材料构成的发光层。有机EL材料例如是高分子材料或低分子材料，当前较多使用低分子有机EL材料。

使用低分子有机EL材料构成的发光层通常利用蒸镀法形成在基板上。即，对有机EL材料加热使其蒸发，通过使蒸发的有机EL材料附着在基板上来形成薄膜。作为这样的蒸镀装置之一例，已知将基板竖立配置在蒸镀装置内的立式蒸镀装置(例如专利文献1和专利文献2)。采用立式蒸镀装置能够使大型基板竖立着进行处理，因此具有能够减小蒸镀装置占地面积之优点。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-84544号公报

专利文献2：日本特开2014-70239号公报

发明内容

发明要解决的问题

在使用立式蒸镀装置的情况下，蒸镀掩模也需要与基板相应地竖立配置。此时，随着基板的大型化，蒸镀掩模也变得大型化，因此存在因自重导致蒸镀掩模发生挠曲(弯曲)的问题。

本发明的技术问题之一是，提供一种抑制因掩模挠曲引起的蒸镀不良的技术。

解决问题的技术手段

在本发明的一个实施方式的蒸镀方法中，一种使用掩模将蒸镀材料蒸镀到基板上的蒸镀方法，将设置了掩模且包含彼此相对的第一边和第二边的掩模框，以在重力方向上所述第一边位于比所述第二边高的位置方式，与所述基板相对地配置，在配置了所述掩模框之后，校正所述掩模框上产生的重力方向上的挠曲。

附图说明

图1是第一实施方式的蒸镀掩模的主视图。

图2是表示第一实施方式的蒸镀装置内的结构的主视图。

图3是将第一实施方式的校正机构及其周围放大表示的图。

图4是将第一实施方式的校正机构及其周围放大表示的图。

图5是表示第二实施方式的蒸镀装置内的结构的主视图。

图6是第二实施方式的基板的截面图。

图7是表示第二实施方式的蒸镀装置内的结构的主视图。

图8是表示第二实施方式的蒸镀掩模与基板的对位方法之一例的图。

图9是表示第二实施方式的蒸镀掩模的挠曲的校正方法之一例的图。

图10是说明第二实施方式的校正机构与掩模框的连接方法之一例的图。

图11是说明第二实施方式的校正机构与掩模框的连接方法之一例的图。

图12是第二实施方式的有机EL显示装置的截面图。

图13是表示校正机构的结构之另一例的图。

图14是表示将蒸镀掩模竖立配置时的外观之一例的主视图。

图15是表示蒸镀掩模未发生挠曲时的蒸镀掩模的对位状况的平面图。

图16是表示蒸镀掩模发生了挠曲时的蒸镀掩模的对位状况的平面图。

具体实施方式

下面参照附图对本发明实施方式进行说明。不过，本发明在不脱离其宗旨的范围内能够以各种形态实施，不应被限定解释为以下示例说明的实施方式的记载内容。附图中为了使说明更加明确，与实际的形态相比，各部分的宽度、厚度、形状等有些给出的是示意性的表示，但它们至多仅为一例，并不限定本发明的解释。在本说明书和各附图中，对于与针对已出现的图进行过说明的部分具有同样功能的要素，有时会标注同一标记省略重复的说明。

在本说明书中，“上”和“下”指的是以基板上形成有发光元件的一侧的面(下面简称“正面”)为基准的相对的位置关系。例如，在本说明书中，从基板的正面去往发光元件的方向称为“上”，其相反方向称为“下”。在本说明书中，在表述某结构体之上配置其他结构体的形态时，在仅表述为“之上”的情况下，如果没有特别的说明，则包括以与某结构体接触的方式在上方配置其他结构体的情况，和在某结构体的上方隔着另外的结构体而配置其他结构体的情况这两者。

在下面的说明中，在说明方向时，将重力方向称作“-D1方向”，将重力方向的相反方向称作“+D1方向”。另外，将水平方向上的一个方向称作“-D2方向”，将-D2方向的相反方向称作“+D2方向”。

[第一实施方式]

图1是本实施方式的蒸镀掩模10的主视图。蒸镀掩模10是在立式蒸镀装置中使用的蒸镀用的掩模。用于形成有机EL显示装置的发光层的蒸镀材料是有机EL材料。蒸镀掩模10包括掩模框12和多个掩模14。掩模框12是具有多个开口部的框体。因此掩模框12包括用于将掩模框12内侧的空间划分为多个开口部的间隔壁。本实施方式中，掩模框12的外缘和多个开口部在正视时为矩形。多个开口部分别设置在与掩模14相对的位置上。掩模框12在整个蒸镀工序的期间被置于温度变化较大的环境下，因此优选由热膨胀系数较小的材料构成。

蒸镀掩模10在蒸镀时是竖立配置的。此时的掩模框12的上边为第一边122，下边为第二边124。第一边122与第二边124彼此相对。第一边122位于比第二边124高的位置，即以第二边124为基准位于+D1方向上。在不存在挠曲的状态下，第一边122和第二边124在水平方向上延伸。第一边122的-D2方向侧的一端为角部122A，+D2方向侧的一端为角部122B。第二边124的-D2方向侧的一端为角部124A，+D2方向侧的一端为角部124B。将掩模框12的间隔壁之中与第一边122和第二边124交叉的间隔壁称作间隔壁126。将通过掩模框12的第一边122的中心和第二边124的中心的轴线称作轴线C。轴线C通过间隔壁126的位置。如图1所示，在本实施方式中，掩模框12在正视时为线对称的图形，轴线C位于该图形的对称轴的位置上。

多个掩模14设置于掩模框12。掩模14是由电铸形成的金属膜构成的电铸掩模。掩模14通过焊接而固定在掩模框12上。掩模14可以各自对应于1个有机EL显示装置，在用于制造小型有机EL显示装置的情况下，掩模14也可以各自对应于多个有机EL显示装置。掩模14采用在金属膜上设置有多个开口部(省略图示)的结构，不过图1省略了图示。具体而言，掩模14具有与有机EL显示装置的各像素的位置对应配置的多个开口部。

图14是表示将蒸镀掩模10竖立配置时的外观之一例的主视图。如图14所示，蒸镀掩模10会因自重而向-D1方向挠曲。其结果，在第一边122上，与角部122A、122B相比，中央附近向-D1方向弯曲。并且，在第二边124上，与角部124A、124B相比，中央附近向-D1方向弯曲。例如在掩模框12为左右对称结构的情况下，挠曲在间隔壁126所处的位置为最大。

图15是表示蒸镀掩模10未发生挠曲时的蒸镀掩模的对位状况的平面图。此处所示的放大图示意性地表示了设置在掩模14上的开口部，该开口部是为了实际蒸镀有机EL材料而设置的。图15表示了发红光的发光区域20Ra、发绿光的发光区域20Ga和发蓝光的发光区域20Ba。此处“发光区域”指的是像素中实际发光的区域。具体而言，指的是后述像素电极的上表面之中位于围堤内侧的区域。

在图15所示的例子中，设置在构成掩模14的金属膜142上的多个开口部144被对位于发光区域20Ra。从而，在图14所示的状态下进行发红光的有机EL材料的蒸镀，就能够在发光区域20Ra形成发红光的发光层。

图16是表示掩模14发生了挠曲时的蒸镀掩模的对位状况的主视图。此时，因自重引起的掩模14的挠曲导致开口部144的位置向-D1方向错位，发光区域20Ra与开口部144的位置不再对准。其结果，在图16中，发红光的发光层可能会跨发光区域20Ra和发光区域20Ga而形成。这种发光层的形成不良将成为发生像素混色或制造工艺成品率降低的原因。下面说明的蒸镀装置1具有用于解决该问题的结构。

图2是表示第一实施方式的蒸镀装置1内的结构的主视图。蒸镀装置1是有机EL器件制造装置，能够在真空环境下蒸镀用于制造有机EL器件的薄膜。蒸镀装置1包括蒸镀掩模10、基架20、校正机构30和控制机构40。在蒸镀时，蒸镀掩模10被配置成与基架20相对。掩模框12例如在角部122A、122B、124A、124B这四处使用栓销(pin)固定在基架20上。在蒸镀时，供蒸镀材料蒸镀的基板60被配置成与蒸镀掩模10相对。基架20由刚度高的材料形成。基架20的刚度至少比掩模框12高，比掩模框12难以变形。基板60中有代表性的是玻璃基板，或采用以玻璃基板为支承基板并在表面形成有树脂基板层的结构。与具有开口部144且在该开口部144设置有电铸形成的掩模14的蒸镀掩模10相比，基板60在竖立配置时较蒸镀掩模10不容易在重力方向上变形。校正机构30是用于校正掩模框12上产生的重力方向的挠曲的机构。掩模框12的挠曲指的是因掩模框12的自重而产生的掩模框12的变形。校正机构30通过对掩模框12的规定位置施加力来校正挠曲。挠曲的校正包括对掩模框12的发生挠曲的位置施加减轻挠曲的方向即+D1方向的力。在本实施方式中，校正机构30对掩模框12的第二边124上的位置之中的轴线C所通过的位置施加力。校正机构30在本实施方式中为1个，但也可以存在多个。控制机构40用于对校正机构30的驱动进行控制。

图3是将校正机构30及其周围放大表示的图。校正机构30包括第一移动部件32、缩小机构34和第二移动部件36。校正机构30被固定于基架20。第一移动部件32随着在控制机构40的控制下施加的外力而向+D2方向或-D2方向移动。第一移动部件32可以是测微头(micrometer head)。第二移动部件36设置在与掩模框12接触的位置。本实施方式中，第二移动部件36与第二边124之中处于轴线C上的位置接触。缩小机构34在第一移动部件32移动了第一移位量的情况下，使第二移动部件36以比第一移位量小的第二移位量移动。

缩小机构34包括第一部件342和第二部件344。第一部件342在上表面具有倾斜面342A。第二部件344在下表面具有倾斜面344A。第一部件342的倾斜面342A与第二部件344的倾斜面344A彼此接触。第二部件344随着第一移动部件32的移动而沿第一部件342的倾斜面342A移动。第二移动部件36随着第二部件344的移动而移动。第一移动部件32的+D2方向或-D2方向上的移位量与第二移动部件36的+D1方向或-D1方向上的移位量之间的关系，根据倾斜面342A和倾斜面344A的梯度而决定。

如图4所示，在第一移动部件32向+D2方向移动了距离L1的情况下，第二移动部件36向+D1方向移动距离L2(其中L2＜L1)。由此，第二移动部件36提供将掩模框12向+D1方向顶起的力。即，第二移动部件36减轻掩模框12的挠曲。反之，在第一移动部件32向-D2方向移动了距离L1的情况下，第二移动部件36向-D1方向移动距离L2。由此，被第二移动部件36支承的掩模框12向-D1方向下降距离L2。

之所以使用缩小机构34，是为了高精度地校正掩模框12上产生的微小的挠曲。例如，第一移动部件32的移动量被缩小至1/50而传递到第二移动部件36。由此，能够更加精细地控制第二移动部件36的移位。此外，校正机构30之所以对第二边124之中与间隔壁126交叉的位置施加力，是为了抑制在对掩模框12施加力时引起掩模框12发生挠曲，并同时将第二边124向+D1方向顶起。

倾斜面342A和倾斜面344A是彼此接触的滑动面。倾斜面342A和倾斜面344A没有涂覆油等润滑剂。其理由是校正机构30要在真空环境下使用。为了使该情况下第二部件362相对于第一部件342也能够顺畅地移动，倾斜面342A和344A的至少一部分优选使用能够减小摩擦系数的材料来形成涂层。更优选的是，涂层使用的材料不会因倾斜面342A与344A的滑动而产生粉末。涂层的材料是二硫化钼、特氟龙(注册商标)、类金刚石碳或这之外的材料。

控制机构40在蒸镀之前确定掩模框12在-D1方向上的挠曲的大小，并基于该挠曲的大小控制校正机构30的驱动，以将掩模框12向+D1方向顶起。挠曲大小的确定方法没有特别限制，例如存在这样的方法，即，使用对位摄像机确定基板上的预定位置和掩模框12上的预定位置之间在-D1方向上的距离(即错位量)，将其确定为挠曲的大小。

采用以上说明的第一实施方式，与蒸镀装置1不具有校正机构30的情况相比，能够减轻掩模框12的因自重而产生的挠曲。其结果是，在蒸镀装置1中，能够抑制因蒸镀掩模的挠曲而引起的蒸镀不良。

[第二实施方式]

第二实施方式说明有机EL显示装置的制造方法。图5和图7～图9是表示蒸镀装置1内的结构的主视图。首先如图5所示，将基板60配置成与基架20相对。基板60可以固定于基架20，也可以由另设的基板保持部(省略图示)保持。基板60是为了形成发光层而在其上蒸镀有机EL材料的基板。基板60通过前端工序的处理而具有例如图6所示的结构。

图6是基板60的截面图。在支承基板602之上隔着基底膜604设置有薄膜晶体管606。支承基板602例如是玻璃基板，但也可以是丙烯树脂、聚酰亚胺树脂及其他树脂材料构成的基板。基底膜604例如是氧化硅膜、氮化硅膜或氧氮化硅膜等无机绝缘膜。

薄膜晶体管606是所谓的顶栅型的薄膜晶体管。不过并不限定于此，可以是任意类型的薄膜晶体管。薄膜晶体管606作为对有机EL元件640供给电流的驱动用晶体管发挥作用。本实施方式使用N沟道型晶体管作为薄膜晶体管606。薄膜晶体管606的结构是公知的，故省略此处的详细说明。

薄膜晶体管606与保持电容608电连接。保持电容608能够利用构成薄膜晶体管606的2个导电膜和设置在它们之间的绝缘膜构成。例如，本实施方式的保持电容608能够使用构成薄膜晶体管606的活性层的半导体层、栅极绝缘膜和电容电极(与栅极电极同时形成的电极)形成。不过保持电容608的结构不限于此。

薄膜晶体管606被有机绝缘膜620覆盖。有机绝缘膜620起到平坦化膜的作用，使因薄膜晶体管606的形状引起的起伏变得平坦。有机绝缘膜620例如是包含丙烯酸酯树脂、聚酰亚胺树脂等树脂材料的绝缘膜。

有机绝缘膜620上设置有开口部610。开口部610被氧化物导电膜612覆盖。氧化物导电膜612例如具有由ITO(Indium Tin Oixde)、IZO(Indium Zinc Oixde)等金属氧化物材料构成的薄膜经图案化得到的结构。氧化物导电膜612与通过开口部610露出的薄膜晶体管606的一部分(具体而言是源极电极)电连接。

在有机绝缘膜620的上表面，使用与氧化物导电膜612同时形成的氧化物导电膜形成有保持电容628的下部电极614。下部电极614设置于有机EL元件的下方。如后文所述，本实施方式的有机EL元件640采用向上方出射光的结构，因此能够利用有机EL元件下方的空间形成保持电容628。

在氧化物导电膜612和下部电极614之上设置有无机绝缘膜616。无机绝缘膜616例如是氮化硅膜，但不限于此，也可以是氧化硅膜、氧氮化硅膜等其他无机绝缘膜。无机绝缘膜616上设置有使有机绝缘膜620露出的开口部622。开口部622作为水分逃逸区域624发挥作用。水分逃逸区域624起到的作用是，使因形成有机绝缘膜620后的加热工序而从有机绝缘膜620产生的水分等逃逸到外部。

无机绝缘膜616之上设置有像素电极626。像素电极626经由设置在无机绝缘膜616上的开口部618与氧化物导电膜612连接。即，像素电极626经氧化物导电膜612与薄膜晶体管606连接。像素电极626还作为保持电容628的上部电极发挥作用，并且作为有机EL元件的阳极(anode电极)发挥作用。

像素电极626例如使用由氧化物导电膜夹着含银层的层叠结构的导电膜。具体而言，像素电极626由IZO层、银层和IZO层构成。也可以代替IZO层使用ITO层。为了使有机EL元件发出的光向上方出射，像素电极626优选包括具有反射性的导电膜。为此，在本实施方式中，像素电极626的一部分使用由含有反射率高的银或银合金的金属材料构成的层。并且，在本实施方式中，用作保持电容628的电介质的无机绝缘膜616使用的是氮化硅膜。氮化硅膜的介电常数比氧化硅膜等大，因此具有容易确保较大容量之优点。进而，由于能够有效利用有机EL元件下方的空间进行配置，因此能够确保较大的保持电容628的占用面积。

像素电极626的一部分被有机材料构成的围堤632覆盖。具体而言，围堤632覆盖像素电极626的端部，并且具有使像素电极626的上表面的一部分露出的开口部634。于是，露出的像素电极626的上表面的一部分(即像素电极626的上表面之中位于围堤632的开口部634内侧的区域)成为像素20a的实际发光区域。即，围堤632界定像素20a的发光区域。构成围堤632的有机材料例如是感光性丙烯酸酯树脂或聚酰亚胺树脂等树脂材料，但不限于此。

在像素电极626的上表面之中的不与围堤632重叠的区域(即开口部634内侧的区域)形成有发光层(后述发光层636)。本实施方式在形成发光层时，使用蒸镀装置1通过蒸镀方法按每个像素分别形成。发光层能够使用发红光、蓝光和绿光之任一种的有机EL材料。发光层以外的电子传输层或空穴传输层等功能层可设置成由多个像素共用。本实施方式可使用的发光层没有特别的限制，能够使用公知的材料。基板60的结构的说明如上。

接着，如图7所示，将掩模框12(换而言之是蒸镀掩模10)配置成与基板60相对。在将掩模框12与基板60相对配置的情况下，进行基板60上的预定的第一位置与掩模框12上的预定的第二位置之间的对位。图8是表示掩模框12与基板60的对位方法之一例的图。该例中，在掩模框12的角部122A、122B、124A、124B附近的预定的各个位置(第一位置)分别设置有对位标记128A、128B、128C、128D。之所以将对位标记设置在角部122A、122B、124A、124B的附近，是为了在掩模框12上挠曲较小的位置进行对位。

在基板60的上表面的预定的各个位置(第二位置)分别设置有对位标记64A、64B、64C、64D。设置4个对位摄像机以对角部122A、122B、124A、124B各自的附近进行拍摄。对位摄像机100A拍摄对位标记128A和对位标记64A。对位摄像机100B拍摄对位标记128B和对位标记64B。对位摄像机100C拍摄对位标记128C和对位标记64C。对位摄像机100D拍摄对位标记128D和对位标记64D。基于它们的拍摄结果，利用比蒸镀掩模10设置在靠-D1方向上的对位机构70A、70B，控制蒸镀掩模10的+D1方向或-D1方向上的位置和倾斜。并且，利用位于蒸镀掩模10的+D2方向侧的对位机构80，调整蒸镀掩模10的+D2方向或-D2方向上的位置。对位的方法不限于此，也可以使用其他方法。并且，对位位置也可以为3个以下或5个以上。

接着，如图9所示对掩模框12的挠曲进行校正。该例中，除了上述第一实施方式中说明的校正机构30之外，还设置了校正机构30A、30B、30C。校正机构30A、30B、30C各自设置在比掩模框12靠+D1方向侧的位置。校正机构30A、30B、30C通过对掩模框12上产生挠曲的位置施加力来校正该挠曲。校正机构30B对掩模框12的第一边122上的位置之中的轴线C上的位置施加力。校正机构30B在第一边122与间隔壁126交叉的位置上对掩模框12施加力。校正机构30A、30C通过对掩模框12的第一边122之中的隔着轴线C而处于两侧的位置施加力，来对挠曲进行校正。例如，校正机构30A、30B、30C可以配置各自相距掩模框12的水平方向尺寸的1/4的位置上。校正机构30A、30B、30C可以固定于基架20。在将掩模框12向+D1方向侧提拉的情况下，与从-D1方向侧顶起的情况相比，校正机构的配置位置的自由度较高。

校正机构30A、30B、30C在对掩模框12施加+D1方向的力这一点与校正机构30相同，不同点在于，校正机构30A、30B、30C施加的是向上方提升的力。即，在要将掩模框12向+D1方向提升的情况下，使校正机构30A、30B、30C各自的第一移动部件32向-D2方向移动。在要将掩模框12向-D1方向下拉的情况下，使校正机构30A、30B、30C各自的第一移动部件32向+D2方向移动。

图10是说明校正机构30A、30B、30C各自与掩模框12的连接方法之一例的图。在图10的例子中，掩模框12的上端面形成有凹部127A。凹部127A具有向-D2方向延伸的部分，此处为L字形状。凹部127A在掩模框12的厚度方向，即在与+D1方向和+D2方向交叉的方向上，从掩模框12的一端设置至另一端。校正机构30A、30B、30C除了校正机构30的结构之外，还具有能够插入凹部127A中的插入部38A。插入部38A设置于第二移动部件36，为能够勾挂于凹部127A的形状。插入部38A具有与凹部127A同样向-D2方向延伸的部分，此处为L字形状。插入部38A具有与凹部127A对应的形状和尺寸。插入部38A插入到凹部127A，使得掩模框12固定于校正机构30A、30B、30C。在配置掩模框12时，将插入部38A从凹部127A的一端侧的开口插入，来使掩模框12与校正机构30A、30B、30C各自连接。插入部38A可以与第二移动部件36形成为一体。

图11是说明校正机构30A、30B、30C各自与掩模框12的连接方法之另一例的图。图11的例子中，掩模框12上形成有贯通正反面的孔127B。孔127B在此为圆柱形状，但也可以是这以外的形状。校正机构30A、30B、30C具有能够插入到孔127B中的插入部38B。插入部38A为能够插入到孔127B中，并且能够勾挂于孔127B的形状。在配置掩模框12时，将插入部38B从孔127B的一端侧的开口插入，来使掩模框12与校正机构30A、30B、30C各自连接。插入部38B可以与上述第二移动部件36形成为一体。图10和图11说明的校正机构30A、30B、30C各自与掩模框12的连接方法不过为一例，可以使用其他的连接方法。

对蒸镀掩模10的挠曲的校正方法进行说明。如图9所示，在掩模框12中校正机构30附近的预定位置(第三位置)设置有对位标记129。在基板60的上表面的预定位置(第四位置)设置有对位标记66。在掩模框12中校正机构30A、30B、30C各自附近的预定位置(第三位置)设置有对位标记129A、129B、129D。在基板60的上表面的预定位置设置有对位标记66A、66B、66C(第四位置)。对位标记129、129A、129B、129D至少设置在与对位标记128A、128B、128C、128D不同的位置。因此，对位标记129、129A、129B、129D设置在掩模框12上能够产生因自重引起的挠曲的位置。对位摄像机200至少对形成有对位标记129、129A、129B、129C的位置进行拍摄。此处，对位摄像机200在省略图示的移动机构的作用下移动而拍摄整个蒸镀掩模10，但也可以与各对位位置对应地设置对位摄像机。基于它们的拍摄结果，控制机构40确定各对位位置处的挠曲的大小，基于该挠曲的大小控制校正机构30、30A、30B、30C的驱动。掩模框12的各位置处的挠曲的大小是基于对位标记129与对位标记66的距离、对位标记129A与对位标记66A的距离、对位标记129B与对位标记66B的距离、对位标记129C与对位标记66C的距离而确定的。控制机构40控制校正机构30、30A、30B、30C各自的驱动，以减轻对位标记129、129A、129B、129D各位置处的挠曲。在该校正之后，蒸镀装置1使用省略图示的蒸镀源，将作为蒸镀材料的有机EL材料蒸镀到基板60上。

通过蒸镀有机EL材料而形成发光层，进而经过后端工序的处理，完成有机EL显示装置300。图12是有机EL显示装置300的截面图。如图12所示，在发光层636之上设置有共用电极638，其由包含第一主族元素或第二主族元素的导电膜构成。这样的导电膜例如能够使用镁(Mg)膜、锂(Li)膜等。共用电极638作为有机EL元件640的阴极(cathode电极)发挥作用。共用电极638以遍及多个像素的方式设置。

在构成从上表面一侧即共用电极638一侧取出来自发光层636的出射光的顶部发光型显示装置的情况下，共用电极638要求具有光透射性。在使用上述含第一主族元素或第二主族元素的导电膜作为共用电极638的情况下，为了实现光透射性，共用电极638的膜厚薄至能够使出射光透射的程度。上述像素电极626、发光层636和共用电极638构成有机EL元件640。

共用电极638之上(即有机EL元件640之上)设置有密封膜642。本实施方式的密封膜642为三层结构，从下方起依次是由无机材料构成的第一密封膜642A、由有机材料构成的第二密封膜642B和由无机材料构成的第三密封膜642C。这些密封膜起到防止水分从外部入侵，防止发光层636和共用电极638劣化的作用。第一密封膜642A和第三密封膜642C例如是氮化硅膜，但也可以是氧化硅膜或氧氮化硅膜。即，第一密封膜642A能够使用无机绝缘膜。作为无机绝缘膜尤其优选含有硅氮化物的绝缘膜。第二密封膜642B例如是树脂材料构成的有机绝缘膜。

采用上面说明的第二实施方式，能够校正掩模框12的因自重而产生的挠曲，形成有机EL显示装置300的发光层636。

[其他实施方式]

校正机构30不限于上述结构，例如可以是图13所示的结构。该情况下的校正机构30包括第一移动部件302、旋转凸轮304和第二移动部件306。第一移动部件302随外力的施加而移动。第二移动部件306设置在与掩模框12接触的位置。旋转凸轮304将第一移动部件302的直线运动变换为箭头A方向的旋转运动，将其传递到第二移动部件306。由此，旋转凸轮304在第一移动部件302移动了第一移位量的情况下，使第二移动部件306以比第一移位量小的第二移位量移动。旋转凸轮304的滑动面没有使用润滑剂，优选形成能够减小摩擦系数的涂层。

校正机构30只要能够校正掩模框12的挠曲即可，可以不具有缩小机构。

上述实施方式中说明的校正机构的数量、校正机构的位置、对位位置和对位位置的数量不过为一例，在能够校正掩模框12的挠曲的前提下，可采用各种变形。

本发明的蒸镀方法能够应用于将有机EL材料以外的蒸镀材料蒸镀到基板上的立式蒸镀装置。

并且，在上述实施方式的蒸镀掩模的基础上，由本领域技术人员适当增加、删除构成要素或进行设计变更而得到的方案，或进行了工序的增加、省略或条件变更而得到的方案，只要包含本发明的主旨，就属于本发明的范围。

即使是与基于各实施方式的形态所带来的作用效果不同的其他的作用效果，只要是根据本说明书的记载能够明确的，或是本领域技术人员能够容易地预测得到的，当然应当理解为都是本发明所带来的。

附图标记说明

1：蒸镀装置，10：蒸镀掩模，12：掩模框，14：掩模，20：基架，20a：像素，20Ba：发光区域，20Ga：发光区域，20Ra：发光区域，30、30A、30B、30C：校正机构，32：第一移动部件，34：缩小机构，36：第二移动部件，38A：插入部，38B：插入部，40：控制机构，60：基板，64A、64B、64C、64D、66、66A、66B、66C、66D、129A、129B、129C、129D：对位标记，70A、70B、80：对位机构，100A、100B、100C、100D：对位摄像机，122：第一边，122A、122B、124A、124B：角部，124：第二边，126：间隔壁，127A：凹部，127B：孔，142：金属膜，144：开口部，200：对位摄像机，300：有机EL显示装置，302：第一移动部件，304：旋转凸轮，306：第二移动部件，342：第一部件，342A：倾斜面，344：第二部件，344A：倾斜面，360：发光层，362：第二部件。