质子束流的测量装置和方法

技术领域

本公开涉及质子束检测技术领域，具体涉及一种质子束流的测量装置和方法。

背景技术

在质子单粒子效应和辐射生物效应实验研究中，质子束流强度及均匀性的测量关系着实验结果的可靠性和准确性。现有技术中质子束流的测量方法主要分为在线测量和离线测量两种方式。但是，离线测量方式的时效性比较差，不能实时反映束流的状态。因此，在束流强度及均匀性的监督测量方面，通常以在线测量方式为主。其中，在线测量方法主要是以法拉第筒、气体电离室以及闪烁体探测器作为测量构成，测量原理是对束流进行收集转化，得到束流强度。然而，在线测量方法通常采用单一法拉第筒多点扫描或探测器阵列等对质子束流进行测量，在其测量的过程中，多点扫描法的扫描步长为厘米级，扫描覆盖率较低，且耗时较长，致使效率低下；探测器阵列法则利用3×3的点阵方式进行测量，但主要是以点代面，不能完全反映整个束流截面的信息。可见，现有技术中的质子束流测量方法都不能快速、准确地对束流的均匀性和注量率作出检测或诊断，浪费了宝贵的束流时间。

发明内容

(一)要解决的技术问题

为解决现有技术中不能快速、准确地对质子束流进行检测，本公开提供了一种质子束流的测量装置和方法。

(二)技术方案

本公开的一个方面提供了一种质子束流的测量装置，其中包括荧光屏，荧光屏设置于一电控平台上，荧光屏与质子束流的入射路径垂直，用于接收质子束流的辐照并产生荧光效果，荧光效果用于反映质子束流的强度和均匀性。

根据本公开的实施例，荧光屏与质子束流的入射路径垂直。

根据本公开的实施例，装置还包括成像元件，成像元件朝向荧光屏设置于质子束流的入射路径的一侧，用于对荧光效果进行成像，以生成荧光图像。

根据本公开的实施例，成像元件与荧光屏的中心坐标之间的连线，与质子束流的入射路径之间具有夹角θ，其中，θ≤5°。

根据本公开的实施例，装置还包括电子设备，电子设备与电控平台和成像元件分别电连接，用于控制电控平台移动，使得荧光屏与入射路径垂直，同时还用于获取成像元件生成的荧光图像，并对荧光图像进行分析处理，以获得并显示质子束流的强度和均匀性。

根据本公开的实施例，电控平台还包括固定架，固定架为一框架结构，垂直于入射路径设置，用于设置荧光屏。

根据本公开的实施例，固定架包括多个辐照区，多个辐照区中的一个辐照区设置荧光屏。

根据本公开的实施例，设置荧光屏的一个辐照区还设置塑料闪烁体探测器和金硅面垒探测器中的至少一个，塑料闪烁体探测器与荧光屏相邻设置，位于荧光屏所在的辐照区，用于测量质子束流的注量率；金硅面垒探测器与荧光屏相邻设置，位于荧光屏所在的辐照区，用于测量质子束流的能量。

根据本公开的实施例，电控平台还包括滑件，滑件与固定架固定连接，用于实现固定架上的荧光屏在竖直方向上移动。

根据本公开的实施例，电控平台还包括垂向轨，垂向轨为一与入射路径垂直并平行于固定架的条形轨结构，与滑件滑动连接，用于使得固定架上的荧光屏沿垂向轨在竖直方向上移动。

根据本公开的实施例，电控平台还包括纵向轨，纵向轨为一与入射路径平行并垂直于垂向轨的架体，与垂向轨固定连接，用于使得固定架上的荧光屏沿纵向轨的纵向方向移动。

根据本公开的实施例，纵向轨还包括支撑架，支撑架与垂向轨垂直贴合设置，并将垂向轨固定于纵向轨上。

根据本公开的实施例，电控平台还包括横向轨，横向轨为一与纵向轨和垂向轨均垂直设置的条形轨结构，与纵向轨滑动连接，用于使得固定架上的荧光屏在横向方向上移动。

根据本公开的实施例，电控平台还包括转台，转台为具有一垂直于入射路径的中心轴线的旋转台面结构，与横向轨滑动连接，用于使得横向轨在进行横向方向的移动的同时，实现横向轨以该中心轴线为转轴的旋转动作。

根据本公开的实施例，电控平台还包括底座，底座与转台固定连接，并固定设置于平面上，用于将电控平台固定于平面上。

根据本公开的实施例，电控平台设置于一辐照空间，该辐照空间用于为质子束流的测量提供暗室环境。

根据本公开的实施例，辐照空间包括开口，开口对应电控平台设置，开口的中心线与入射路径重合，用于使得质子束流进入辐照室并辐照至荧光屏上；其中，成像元件设置于开口的内边缘上。

本公开的另一方面提供了一种质子束流的测量方法，应用于上述的装置，其中包括：响应于质子束流的产生，控制装置的电控平台移动，以使得电控平台上设置的荧光屏被质子束流辐照；响应于荧光屏被辐照，对荧光屏的荧光效果进行成像；根据成像，获取并显示质子束流的强度和均匀性。

(三)有益效果

本公开提供了一种质子束流的测量装置和方法，其中，该质子束流的测量装置包括荧光屏，荧光屏设置于一电控平台上，荧光屏与质子束流的入射路径垂直，用于接收质子束流的辐照并产生荧光效果，荧光效果用于反映质子束流的强度和均匀性。通过本公开的荧光屏，可以实现对现有技术中传统束流探测器的替代，直接通过荧光成像准确地实现对质子束流的快速检测，获取束流的强度和均匀性，同时还能够实现束斑大小的判断，极大地减少了束流测量时间，提高了样品辐照效率。

附图说明

图1示意性示出了本公开实施例的电控平台的主视图；

图2示意性示出了本公开实施例的固定架的主视图；

图3示意性示出了本公开实施例的一辐照区的荧光屏与探测器的分布图；

图4示意性示出了本公开实施例的成像元件与电控平台的结构组成图；

图5示意性示出了本公开实施例的荧光成像图；

图6示意性示出了本公开实施例的辐照室、成像元件及电控平台的结构组成图；

图7示意性示出了本公开实施例的质子束流的测量装置的组成图；

图8示意性示出了本公开实施例的质子束流的测量方法的流程图；

图9示意性示出了本公开实施例的质子束流的荧光成像灰度值随粒子注量率的响应变化曲线；

图10A示意性示出了本公开实施例的质子束流的荧光成像灰度值随束流光斑尺寸的变化曲线；

图10B示意性示出了本公开实施例的质子束流的二维分布图。

具体实施方式

为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本公开进一步详细说明。

需要说明的是，在附图或说明书正文中，未绘示或描述的实现方式，均为所属技术领域中普通技术人员所知的形式，并未进行详细说明。此外，上述对各元件和方法的定义并不仅限于实施例中提到的各种具体结构、形状或方式，本领域普通技术人员可对其进行简单地更改或替换。

还需要说明的是，实施例中提到的方向用语，例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等，仅是参考附图的方向，并非用来限制本公开的保护范围。贯穿附图，相同的元素由相同或相近的附图标记来表示。在可能导致对本公开的理解造成混淆时，将省略常规结构或构造。

并且图中各部件的形状和尺寸不反映真实大小和比例，而仅示意本公开实施例的内容。另外，在权利要求中，不应将位于括号之间的任何参考符号构造成对权利要求的限制。

再者，单词“包含”不排除存在未列在权利要求中的元件或步骤。位于元件之前的单词“一”或“一个”不排除存在多个这样的元件。

说明书与权利要求中所使用的序数例如“第一”、“第二”、“第三”等的用词，以修饰相应的元件，其本身并不意味着该元件有任何的序数，也不代表某一元件与另一元件的顺序或是制造方法上的顺序，这些序数的使用仅用来使具有某命名的一元件得以和另一具有相同命名的元件能做出清楚区分。

本领域那些技术人员可以理解，可以对实施例中的设备中的模块进行自适应性地改变并且把他们设置在与该实施例不同的一个或多个设备中。可以把实施例中的模块或单元或组件组合成一个模块或单元或组件，以及此外可以把他们分成多个子模块或子单元或子组件。除了这样的特征和/或过程或者单元中的至少一些是相互排斥之外，可以采用任何组合对本说明书(包括伴随的权利要求、摘要和附图)中公开的所有特征以及如此公开的任何方法或者设备的所有过程或单元进行组合。除非另外明确陈述，本说明书(包括伴随的权利要求、摘要和附图)中公开的每个特征可以由提供相同、等同或相似目的的代替特征来代替。并且，在列举了若干装置的单元权利要求中，这些装置中的若干个可以是通过同一个硬件项来具体体现。

类似地，应当理解，为了精简本公开并帮助理解各个公开方面的一个或多个，在上面对本公开的示例性实施例的描述中，本公开的各个特征有时被一起分组到单个实施例、图、或者对其的描述中。然而，并不应将该公开的方法解释成反映如下意图：即所要求保护的本公开要求比在每个权利要求中所明确记载的特征更多的特征。更确切地说，如下面的权利要求书所反映的那样，公开方面在于少于前面公开的单个实施例的所有特征。因此，遵循具体实施方式的权利要求书由此明确地并入该具体实施方式，其中每个权利要求本身都作为本公开的单独实施例。

目前，采用的单一法拉第筒多点扫描等方法耗时长，并没用实时性，测量一组数据约需1小时，每组数据的第一个和最后一个数据相差时间较长，无法对实验过程中对束流出现的变化进行判断，这样会造成数据的准确性差。为了数据的准确，多次的重复测量也会浪费大量的束流时间，降低实验效率。

为解决现有技术中不能快速、准确地对质子束流进行检测，本公开提供了一种质子束流的测量装置和方法。

如图1-图4、图6所示，本公开的一个方面提供了一种质子束流的测量装置，其中包括荧光屏101，荧光屏101设置于一电控平台100上，荧光屏101与质子束流的入射路径E垂直，用于接收质子束流的辐照并产生荧光效果，荧光效果用于反映质子束流的强度和均匀性。

具体地，该测量装置包括电控平台100，电控平台100设置于平面p上，用于接收质子束流的辐照，其中，电控平台100包括荧光屏101，荧光屏101设置于电控平台100上，用于被质子束流辐照之后产生荧光效果；其中，荧光效果可以用于反映质子束流的强度和均匀性。

其中，荧光屏可以具有较高的能量分辨率以及发光效率，同时耐用性能优异，荧光屏的发射波长峰值需要在绿光545nm波长左右，以实现与人眼的匹配性更好，适合在低光照甚至暗室等工作环境，从而能够使得荧光效果更好，借此所获取的荧光图像更加清晰，对束流强度和均匀性的反映也更加真实准确。具体地，可以借助于荧光图像所对应束流束斑的灰度值来反应束流的强度和均匀性。

通过本公开的荧光屏101，可以实现对现有技术中传统束流探测器的替代，直接通过荧光成像准确地实现对质子束流的快速检测，获取束流的强度和均匀性，同时还能够实现束斑大小的判断，极大地减少了束流测量时间，提高了样品辐照效率。因此，本公开实施例的质子束流的测量装置可以提高质子束流的辐照实验的效率，实现在短时间内完成束流注量率和均匀性的测量及可视化，测量过程更加直观准确。

如图4和图6所示，根据本公开的实施例，荧光屏101与质子束流的入射路径E垂直。其中，入射路径E为质子束流的入射方向，具有能量E。这样能够使得束流垂直辐照至荧光屏101上，使得荧光屏101上因束流辐照产生的荧光效果更加真实，从而使得对应荧光图像所反应的束流强度和均匀性数据更加准确。

如图1、图2、图4和图6所示，根据本公开的实施例，电控平台100还包括固定架110，固定架110为一框架结构，垂直于入射路径E设置，用于设置荧光屏101。固定架110设置于电控平台100上，可以为金属材料框架，用于支撑荧光屏101，同时为质子束流的样品辐照，提供样品设置位置。此外，固定架110在电控平台100的控制下，可以实现在垂直于入射路径E的方向上作上下移动、左右移动以及旋转运动，使得固定架110可以带动荧光屏101一并移动，最终荧光屏101的迎光面需要被质子束流垂直辐照。

如图1-图3所示，根据本公开的实施例，固定架110包括多个辐照区111-114，多个辐照区111-114中的一个辐照区设置荧光屏101。每个辐照区为组成固定架110的板状结构所形成的迎光面的区域，该板状结构的材料与厚度可以实现阻挡质子束流进一步透射固定架110的结构体。每个辐照区上的迎光面分布有多个设置位，每个设置位用于设置样品或荧光屏101等。

荧光屏101可以设置于多个辐照区111-114中的任一辐照区，如图1-图3所示，荧光屏101可以设置于辐照区111，因此，其他辐照区112-114可以用于设置待辐照的样品。相对于现有技术中采用五路探测器进行质子束流的测量，固定架110所能放置的样品更多，因此，无需频繁更换样品，可以进一步提高样品辐照的实验效率。

需要说明的是，样品为待辐照样品，本公开的质子束流的测量装置实际上是为了在通过质子束流对样品进行辐照前，确定用于辐照样品的质子束流是否符合相应样品的辐照条件，例如束流强度和均匀性。

如图3所示，根据本公开的实施例，设置荧光屏101的一个辐照区111还设置塑料闪烁体探测器102和金硅面垒探测器103中的至少一个。具体地，电控平台110还可以包括塑料闪烁体探测器102和金硅面垒探测器103，塑料闪烁体探测器102与荧光屏101相邻设置，位于荧光屏101所在的辐照区，用于测量质子束流的注量率；金硅面垒探测器103与荧光屏101相邻设置，位于荧光屏101所在的辐照区，用于测量质子束流的能量。当荧光屏101设置于辐照区111时，塑料闪烁体探测器102和金硅面垒探测器103可以同时与荧光屏101相邻，并设置于同一辐照区111中，通过塑料闪烁体探测器102和金硅面垒探测器103可以实现对质子束流的注量率和能量的测量，从而根据注量率和能量的测量值使得通过荧光图像所获取的束流强度和均匀性的测量更加精准。同时，塑料闪烁体探测器102和金硅面垒探测器103与荧光屏101设置在同一辐照区111中，可以避免两探测器占用其他的辐照区112-114，以使得样品设置地更多，提高实验效率。

此外，如图3所示，在辐照区111中，荧光屏101可以设置于辐照区111的中间位置，也可以设置于辐照区111的偏右下靠边缘的位置，相应地，两探测器也可以对应设置于荧光屏101相邻位置，从而使得辐照区111可以产生作为空余设置区域的子区域111a，该子区域111a还可以进一步用于设置更多数量的待辐照样品，可以在确定好质子束流之后，放置更多的样品，更进一步实现实验效率的提高。

如图4、图6所示，根据本公开的实施例，装置还包括成像元件200，成像元件200朝向荧光屏101设置于质子束流的入射路径E的一侧，用于对荧光效果进行成像，以生成荧光图像。

成像元件可以是高速采集图像的CCD相机，例如可以是至少为530万像素、全局快门、1英寸八面的千兆网工业CCD相机。具体地，CCD相机可以具有29mm×29mm×42mm的外形尺寸，通过网线POE供电，具有抗干扰性能强、支持第三方软件开发的优势，同时采用千兆以太网接口、100米1Gbps远距稳定传输，使得530万像素下100米远距离稳定传输帧率高达20帧/秒，向下兼容百兆网数据接口。荧光屏101受到质子束流辐照，产生荧光效果，由成像元件200对荧光效果进行抓取成像，获得荧光图像如图5所示。最后，通过相应开发的软件算法，对该荧光图像的灰度值进行分析，以获取相应的束流强度和均匀性。

如图4、图5、图6所示，根据本公开的实施例，成像元件200与荧光屏101的中心坐标之间的连线s1，与质子束流的入射路径E(即线s2)之间具有夹角θ，其中，θ≤5°。

当荧光屏101的中心被质子束流垂直辐照时，满足荧光屏101的迎光面与束流入射路径E(即线s2)保持垂直，则此时，成像元件200朝向荧光屏101的中心坐标的方向(即线s1)与入射路径E之间具有5°以下的夹角，以在成像元件200在不干涉或影响质子束流入射的情况下，确保获得的荧光图像更为符合理想状态下的荧光图像，以保证所获取的质子束流的相应数据更加准确。具体地，如图5所示，理想状态下，成像元件200应当垂直于荧光屏101的中心进行成像，所获取的荧光图像应为图像x101。然而为防止成像元件200对质子束流入射的干涉或影响，成像元件200放置于入射路径200一侧，并且偏离入射路径一定距离，形成夹角θ，因此，这就造成实际所获取的荧光图像为图像s101。因此，根据所获取的图像s101还需要设计相应软件算法，将其图像尽可能进行纠正处理，使得图像s101的对应束流数据与理想状态下图像x101的数据相一致，从而保证数据精确性。

因此，通过本公开实施例的测量装置，可以通过计算机上自研软件实时的获取并显示束流的均匀性及束斑大小，使得实验过程中束流强度变化引起的数据准确性得以提高，同时减少了重复无效的测量，也即在样品辐照实验过程中先对束流强度、均匀性等进行快速、直观和即时信息的获取，建立了一种用于标定束流强度荧光检测的方法，提高实验效率。具体地，依据上述实施例的荧光屏+成像元件的测量装置，可以使得质子束流的测量诊断时间大大减少，由原来的1小时降低到3-5分钟，极大提高了实验效率。

如图1、图4、图6所示，根据本公开的实施例，电控平台100还包括滑件120，滑件120与固定架110固定连接，并滑动设置于电控平台100上，用于实现固定架110在电控平台100上作竖直方向的移动，从而实现固定架上的荧光屏101在竖直方向上的移动。

如图1、图4、图6所示，根据本公开的实施例，电控平台100还包括垂向轨130，垂向轨130为一与平面p或入射路径E垂直并平行于固定架110的条形轨结构，与滑件120滑动连接，用于使得固定架110上的荧光屏101沿垂向轨130在竖直方向上移动。滑件120为一滑动架结构，可以与垂向轨130具有限位滑动关系，以沿垂向轨130上下滑动。具体地，垂向轨130的表面上可以具有一垂向的轨槽，滑件120可以具有与该轨槽匹配的限位凸，该限位凸被轨槽的开口限位，且限位凸可以沿轨槽上下移动。其中，入射路径E与平面p相互平行。

如图1、图4、图6所示，根据本公开的实施例，电控平台100还包括纵向轨140，纵向轨140为一与入射路径E平行并垂直于垂向轨130的架体，与垂向轨130固定连接，用于使得垂向轨130沿纵向轨140的纵向方向移动，从而实现固定架110上的荧光屏101沿纵向轨的纵向方向移动。

根据本公开的实施例，纵向轨140还包括支撑架141，支撑架141与垂向轨130垂直贴合设置，并将垂向轨130固定于纵向轨140上。支撑架还起到支撑垂向轨130的作用，为垂向轨130提供设置位置，同时，防止垂向轨130在滑件120的上下滑动或纵向轨140在纵向方向的移动过程中产生晃动等问题，使得电控平台100的整体架构更加稳定。

根据本公开的实施例，电控平台100还包括横向轨150，横向轨150为一与纵向轨140和垂向轨130均垂直设置的条形轨结构，与纵向轨140滑动连接，用于使得纵向轨140可以实现横向方向的移动，进而实现固定架110上的荧光屏101沿横向方向移动。纵向轨140与横向轨150之间具有滑动限位关系。纵向轨140可以在横向方向沿横向轨150移动，从而带动电控平台100沿横向移动。

根据本公开的实施例，电控平台100还包括转台160，转台160为具有一垂直于平面p或入射路径E的中心轴线的旋转台面结构，与横向轨150滑动连接，用于使得横向轨150在进行横向方向的移动的同时，实现横向轨150以该中心轴线s3为转轴的旋转动作。因此，电控平台100可以实现在平面p上的自由旋转，使得电控平台100的荧光屏101的位置调整范围更大。

如图1、图4、图6所示，根据本公开的实施例，电控平台100还包括底座170，底座170与转台160固定连接，并固定设置于平面p上，用于将电控平台100固定于平面p上。底座170为与转台160和纵向轨140、横向轨150的上下平面以及平面p相互平行设置的座体，用于支撑并固定电控平台100，增强电控平台100的整体稳定性。

如图6所示，根据本公开的实施例，所述电控平台100设置于一辐照空间，所述辐照空间用于为质子束流的测量提供暗室环境。辐照空间由辐照室300包围形成，辐照空间容置电控平台100，用于为质子束流的测量提供暗室环境。其中，辐照室包括一壳体结构、箱体结构或一屋室结构，该壳体结构的底表面可以作为上述平面p，具体如图1、图4和图6所示。

根据本公开的实施例，辐照空间包括开口301，为辐照室300的壳体结构贯穿口，开口301对应电控平台100设置，开口301的中心线与入射路径E重合，用于使得质子束流进入辐照室300并辐照至荧光屏101上；其中，成像元件200设置于开口301的内边缘上。其中，开口301沿内边缘还可以同时设置限束光阑，用于控制进入辐照空间辐照至电控平台上的束流的束斑大小和形状。

如图7所示，根据本公开的实施例，装置还包括电子设备20，电子设备20与电控平台100和成像元件200分别电连接，用于控制电控平台100移动，使得荧光屏101与入射路径E垂直，即实现设置于电控平台100的荧光屏101被质子束流垂直辐照；同时电子设备20还用于获取成像元件200生成的荧光图像，并对荧光图像进行分析处理，以获得并显示质子束流的强度和均匀性。

根据本公开的实施例，质子束流的测量装置还包括加速器，加速器的管道31与质子束流的测量装置的辐照室300的开口301对接，使得加速器产生的质子束流经过管道31，通过开口301进入辐照室300，以对电控平台100上设置的荧光屏101进行垂直质子辐照。加速器可以是串列加速器，可提供如22MeV的质子束流进行测量或辐照，其中，束流强度从弱到强进行辐照。

其中，电子设备20可以是计算机等具有数据处理以及存储功能的终端设备，可以单独设置于与测量装置所在的测量厅相隔离的控制厅，通过人为输入参数，相应控制测量装置，以进行质子束流的测量和样品的辐照。具体地，电子设备20可以通过长距离网线与成像元件200以及电控平台100实现电连接，成像元件的成像参数设置好，以确保辐照过程中和图像采集过程中成像参数保持不变。

如图8所示，本公开的另一方面提供了一种质子束流的测量方法，应用于上述的装置，其中包括步骤S801-S803。

在步骤S801中，响应于质子束流的产生，控制装置的电控平台移动，以使得电控平台上设置的荧光屏被质子束流辐照；

在步骤S802中，响应于荧光屏被辐照，对荧光屏的荧光效果进行成像；

在步骤S803中，根据成像，获取并显示质子束流的强度和均匀性。

其中，荧光图像被成像元件采集后，利用软件对图像的绿光通道进行灰度分析，可以获得灰度和束流强度的关系曲线以及灰度的二维分布结果，以此反映质子束流的强度和均匀性。相应地，依据上述针对测量装置的描述，本领域技术人员应当可以获得本公开实施例中测量方法的具体检测过程，在此不作赘述。

如图9-图10B所示，当依据上述的测量装置，针对串列加速器提供22MeV的质子束流进行上述的测量方法时，可以获得22MeV质子束流在不同流强下，荧光屏的响应线性关系，如图9所示，借此可以反映质子束流的强度。此外，如图10A和图10B所示，可以得到用于反映22MeV质子束流的均匀性的二维分布图，其中如图10B所示的距离1为6.1cm，距离2为6.2cm。因此，基于本公开实施例的测量装置，为今后针对质子线束流的强度和均匀性同时进行测量奠定了良好的基础，为单粒子和生物效应实验提供了更为便利、高效的束流品质诊断和剂量测量手段和方法，极大的缩短了束流诊断、测量和分析所用时间，提高了工作效率；同时，可以突破质子束流在线实时检测的可视化与基本定量，自主设计了图像采集软件，初步实现了图像采集、传输、保存于一体化。

至此，已经结合附图对本公开实施例进行了详细描述。

需要说明的是，除非存在技术障碍或矛盾，本公开的上述各种实施方式可以自由组合以形成另外的实施例，这些另外的实施例均在本公开的保护范围中。

虽然结合附图对本公开进行了说明，但是附图中公开的实施例旨在对本公开优选实施方式进行示例性说明，而不能理解为对本公开的一种限制。附图中的尺寸比例仅仅是示意性的，并不能理解为对本公开的限制。

虽然本公开总体构思的一些实施例已被显示和说明，本领域普通技术人员将理解，在不背离本总体公开构思的原则和精神的情况下，可对这些实施例做出改变，本公开的范围以权利要求和它们的等同物限定。

以上所述的具体实施例，对本公开的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本公开的具体实施例而已，并不用于限制本公开，凡在本公开的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。