显示面板及显示装置

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。

【背景技术】

带有触控功能的显示屏是目前显示技术的重要发展方向，为实现面板的触控功能，显示面板内设有触控电极和用于向触控电极传输触控信号的触控信号线。

考虑到金属铝电阻较低且成本较低的特点，目前通常将铝层作为触控信号线的主要导电结构。但是，由于金属铝反射率较高，因此，铝层会对面板内传输的部分光线进行反射，改变光线的传输路径，使原本不应射出面板的光线被反射出去，导致面板出现暗态漏光现象。尤其地，当显示面板内的子像素为双畴子像素时，触控信号线在其延伸方向上具有拐角设计，由铝层反射导致的暗态漏光现象更为严重。

【发明内容】

有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板及显示装置，有效改善了面板的暗态漏光现象。

一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括衬底基板，所述衬底基板上设有触控信号线，所述触控信号线包括减反射层和金属反射层，所述减反射层的反射率小于所述金属反射层的反射率；

所述金属反射层中靠近所述衬底基板一侧的表面为底面，与所述底面相交的表面为侧面，所述减反射层至少部分包覆所述金属反射层的所述侧面。

另一方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述显示面板。

上述技术方案中的一个技术方案具有如下有益效果：

在本发明实施例所提供的技术方案中，通过利用反射率更低的减反射层对金属反射层的侧面进行至少部分包覆，当部分光线传输至触控信号线时，仅有少量光线会被反射率较低的减反射层反射出去，有效降低了触控信号线对光线的反射程度，进而有效弱化了暗态漏光现象，提高了对比度，增大了视角范围。

此外，现有的触控信号线中也会设置减反射层，如钼层，本发明实施例仅需对触控信号线中原有减反射层的形成工艺，如刻蚀工艺进行调整，使所形成的减反射层对金属反射层的侧面进行包覆即可，无需再增加一套形成减反射层的额外的工艺流程，本发明实施例中触控信号线的工艺制程更为简单，工艺可行性更高。

【附图说明】

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有技术中触控信号线的一种结构示意图；

图2为本发明实施例所提供的显示面板的俯视图；

图3为图2沿A1-A2方向的剖视图；

图4为本发明实施例所提供的触控信号线的放大示意图；

图5为本发明实施例所提供的触控信号线的结构示意图；

图6为本发明实施例所提供的触控信号线的另一种结构示意图；

图7为图6对应的工艺流程图；

图8为图5对应的工艺流程图；

图9为本发明实施例所提供的触控信号线的再一种结构示意图；

图10为本发明实施例所提供的触控信号线的又一种结构示意图；

图11为图10对应的工艺流程图；

图12为本发明实施例所提供的触控信号线的另一种结构示意图；

图13为本发明实施例所提供的触控信号线的再一种结构示意图；

图14为本发明实施例所提供的平坦化层的结构示意图；

图15为本发明实施例所提供的平坦化层的另一种结构示意图；

图16为本发明实施例所提供的显示装置的结构示意图。

【具体实施方式】

为了更好的理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

应当理解，尽管在本发明实施例中可能采用术语第一、第二来描述减反射层、凹口，但这些减反射层、凹口不应限于这些术语。这些术语仅用来将减反射层、凹口彼此区分开。例如，在不脱离本发明实施例范围的情况下，第一减反射层也可以被称为第二减反射层，类似地，第二减反射层也可以被称为第一减反射层。

在阐述本发明实施例所提供的技术方案之前，本发明首先对现有的触控信号线的结构进行说明：

如图1所示，图1为现有技术中触控信号线的一种结构示意图，触控信号线1＇包括第一钼层2＇、铝层3＇和第二钼层4＇，第一钼层2＇、铝层3＇和第二钼层4＇在垂直于衬底基板5＇所在平面的方向上层叠设置。其中，铝层3＇为触控信号线1＇中用于传输信号的主要导电结构，第一钼层2＇位于铝层3＇朝向衬底基板5＇的一侧，用于提高触控信号线1＇与其他介质层的附着性，第二钼层4＇位于铝层3＇远离衬底基板5＇的一侧，用以保护铝层3＇不被氧化。

由于铝层3＇反射率较高且厚度较大，因此，部分光线会在铝层3＇的表面发生反射，反射后的光线的传输路径发生变化，这就导致原本不应射出面板的光线被铝层3＇反射出去，使部分区域的出光亮度高于标准值，当显示面板显示暗态画面时，容易出现较为明显的漏光现象。

为解决上述问题，本发明实施例提供了一种显示面板，如图2所示，图2为本发明实施例所提供的显示面板的俯视图，显示面板包括衬底基板1，衬底基板1上设有触控信号线2。如图3和图4所示，图3为图2沿A1-A2方向的剖视图，图4为本发明实施例所提供的触控信号线2的放大示意图，触控信号线2包括减反射层3和金属反射层4，其中，金属反射层4多为铝层，减反射层3的反射率小于金属反射层4的反射率；金属反射层4中靠近衬底基板1一侧的表面为底面5，与底面5相交的表面为侧面6，减反射层3至少部分包覆金属反射层4的侧面6。

本发明实施例所提供的显示面板具体可为液晶显示面板或有机电致发光二极管显示面板。以显示面板为液晶显示面板为例，请再次参见图3，触控信号线2背向衬底基板1的一侧还设有像素电极7和公共电极8，其中，像素电极7与驱动电路9电连接(图3中未示意)，公共电极8复用为触控电极10，与触控信号线2电连接(图3中未示意)。在显示时段，触控信号线2向公共电极8提供公共电压信号，用于使公共电极8与像素电极7之间形成电场，在触控时段，触控信号线2向公共电极8提供触控信号，用于实现触控检测。

此外，显示面板还包括与衬底基板1相对设置的对盒基板11，对盒基板11朝向衬底基板1的一侧设置有色阻12和黑矩阵13，黑矩阵13用于对显示面板的出光区域进行限定，对盒基板11与衬底基板1之间还填充有液晶14。

在本发明实施例所提供的显示面板中，通过利用反射率更低的减反射层3对金属反射层4的侧面6进行至少部分包覆，当部分光线传输至触控信号线2的侧壁时，仅有少量光线会被减反射层3反射出去，有效降低了触控信号线2对光线的反射程度，进而有效弱化了暗态漏光现象，提高了对比度，增大了视角范围。

此外，还需要说明的是，结合图1所示的触控信号线的现有结构可知，现有的触控信号线中也会设置减反射层，如第一钼层和第二钼层。本发明实施例仅需对触控信号线中原有减反射层的形成工艺，如刻蚀工艺进行调整，使所形成的减反射层3对金属反射层4的侧面6进行包覆即可，无需再增加一套用于形成减反射层3的额外的工艺流程，本发明实施例中触控信号线的工艺制程更为简单，工艺可行性更高。

在一种实施例中，如图5所示，图5为本发明实施例所提供的触控信号线2的结构示意图，减反射层3包括第一减反射层15和第二减反射层16，第一减反射层15包括与金属反射层4交叠的第一减反射部17，第二减反射层16包括与金属反射层4交叠的第二减反射部18，第一减反射部17、金属反射层4和第二减反射部18在垂直衬底基板1所在平面的方向上层叠设置。其中，第一减反射层15具有第一凹口19，至少部分金属反射层4位于第一凹口19内。

第一减反射层15采用该种凹口设计，第一减反射层15除了对金属反射层4侧面6进行包覆外，还会对金属反射层4的底面5或与底面5相对的顶面进行包覆，当第一减反射层15对金属反射层4的底面5进行包覆时，能够降低触控信号线2的底部对背光源所发出的光的反射，当第一减反射层15对金属反射层4的顶面进行包覆时，能够降低触控信号线2的顶部对外界环境光的反射。

在一种实施例中，第一减反射层15的反射率小于或等于第二减反射层16的折射率，金属反射层4全部位于第一凹口19内，此时，金属反射层4的侧面6被反射率更低的第一减反射层15全部包覆住，更大程度地降低了触控信号线2的反射。

在一种实施例中，如图5和图6所示，图6为本发明实施例所提供的触控信号线2的另一种结构示意图，第一凹口19朝向显示面板的出光方向，此时，在形成触控信号线2时，需要先形成具有第一凹口19的第一减反射层15，然后再在第一凹口19内形成金属反射层4。

基于该种结构，第一减反射层15还会对金属反射层4的底面5进行包覆，当背光源发出的光朝向触控信号线2的底部传输时，能够减小触控信号线2对这部分光的反射，进而降低反射光被其他金属层进一步反射出去的风险。

进一步地，请再次参见图6，金属反射层4具有第二凹口20，第二凹口20朝向显示面板的出光方向，第二减反射层16位于第二凹口20内。结合图7所示的工艺流程图，在依次形成第一减反射层15、金属反射层4和第二减反射层16后，仅需对第一减反射层15、金属反射层4和第二减反射层16进行一次刻蚀即可形成上述结构，工艺流程更为简单，相应的制作成本也更低。

或者，请再次参见图5，第二减反射层16位于金属反射层4背向衬底基板1的一侧，并且，第二减反射层16在衬底基板1上的正投影覆盖金属反射层4在衬底基板1上的正投影。此时，第二减反射层16能够对金属反射层4背向衬底基板1的顶面进行全部覆盖，避免了金属反射层4的顶面裸露，当外界环境光透过面板传输至触控信号线2时，能够降低触控信号线2的顶部对外界环境光的反射，降低金属可见的风险。

需要说明的是，基于该种结构，结合图8所示的工艺流程图，在形成第一减反射层15和金属反射层4后，首先对第一减反射层15和金属反射层4进行一次刻蚀，然后再形成第二减反射层16，对第二减反射层16再进行一次刻蚀。

在一种实施例中，如图9和图10所示，图9为本发明实施例所提供的触控信号线2的再一种结构示意图，图10为本发明实施例所提供的触控信号线2的又一种结构示意图，第一凹口19朝向衬底基板1，金属反射层4位于第一凹口19内，此时，在形成触控信号线2时，需要先形成金属反射层4，然后再形成第一减反射层15。

如此设置，第一减反射层15不仅能够对金属反射层4的侧面6进行包覆，还能对金属反射层4背向衬底基板1的顶面进行全部覆盖，当外界环境光透过面板射入触控信号线2时，能够降低触控信号线2的顶部对外界环境光的反射，降低金属可见的风险。

进一步地，请再次参见图10，第二减反射层16位于金属反射层4朝向衬底基板1的一侧，并且，金属反射层4在衬底基板1上的正投影与第二减反射层16在衬底基板1上的正投影重合。

基于该种结构，结合图11所示的工艺流程图，在形成第二减反射层16和金属反射层4后，仅需对第二减反射层16和金属反射层4进行一次刻蚀工艺，无需对第二减反射层16和金属反射层4进行分别刻蚀。而且，第一减反射层15对第二减反射层16的侧面也进行了包覆，当第一减反射层15的反射率小于第二减反射层16的反射率时，能够进一步降低触控信号线2的反射。

在一种实施例中，如图12和图13所示，图12为本发明实施例所提供的触控信号线2的另一种结构示意图，图13为本发明实施例所提供的触控信号线2的再一种结构示意图，第二减反射层16具有第三凹口21，第三凹口21与第一凹口19的朝向相反，金属反射层4位于第一凹口19与第三凹口21形成的容纳腔内。此时，金属反射层4的各个表面均被反射率较低的第一减反射层15和第二减反射层16包覆，减反射效果更佳。

在一种实施例中，第一减反射层15由非金属材料形成，相较于金属材料来说，非金属材料的反射率更低，因此，采用非金属材料形成第一减反射层15，能够对触控信号线2的反射作用进行更大程度的减弱。

具体的，第一减反射层15可由三氧化钼材料形成。由于三氧化钼为钼的金属氧化物，钼与介质层的附着性较好且化学性质相较于铝更稳定，因此，当第一凹口19朝向面板的出光方向时，可以利用第一减反射层15提高触控信号线2与其他介质层的附着性，进而提高触控信号线2的稳固性；当第一凹口19朝向衬底基板1时，可以利用第一减反射层15保护金属反射层4不被氧化，进而提高触控信号线2中传输的信号的可靠性。

此外，还需要说明的是，现有的减反射层多为钼层，当本发明实施例的第一减反射层15由三氧化钼材料形成时，仅需将蒸镀腔室内盛有钼材料的靶材替换为盛有三氧化钼材料的靶材即可，无需更换镀膜设备。

在一种实施例中，对于波长为550nm的可见光，第一减反射层15的透过率小于或等于33％。相较于红光和蓝光来说，绿光更容易被人眼感知到，因此，令第一减反射层15选用对绿光透过率较小的材料形成，能够减少透过第一减反射层15传输至金属反射层4的光线数量，进而更大程度地减少触控信号线2对绿光的反射。

进一步地，第一减反射层15可选用对波长为550nm的可见光的透过率为33％的三氧化钼材料形成。

在一种实施例中，第二减反射层16与第一减反射层15采用同种材料形成，例如，第二减反射层16与第一减反射层15均采用三氧化钼材料形成。此时，第二减反射层16也具有较低的反射率，第二减反射层16与第一减反射层15共同作用，更大程度地降低了触控信号线2对光线的反射。

在一种实施例中，如图14和图15所示，图14为本发明实施例所提供的平坦化层22的结构示意图，图15为本发明实施例所提供的平坦化层22的另一种结构示意图，显示面板还包括位于触控信号线2与衬底基板1之间的平坦化层22，具体地，平坦化层22位于驱动电路9背向衬底基板1的一侧，平坦化层22具有凹槽23，触控信号线2位于凹槽23内，如此设置，不仅可以避免触控信号线2在面板内额外占用膜层厚度，还有利于提高面板的膜层平坦性。

而且，当第一减反射层15的第一凹口19朝向显示面板的出光方向时，显示面板内需要设置一承载膜层，通过将第一减反射层15沉积在承载膜层的凹槽内，进而利用承载膜层对第一减反射层15进行承载和支撑。而在本发明实施例中，相当于将平坦化层22复用为了承载膜层，因而也就无需再设置其它的承载结构了，简化了工艺流程。

此外，需要说明的是，为实现良好的平坦化效果，平坦化层22通常会比其他膜层做的厚一些，因而平坦化层22是具有足够的厚度去容纳触控信号线2的。而且，在平坦化层22的制作工艺中，可以利用半色调掩膜工艺形成不贯穿平坦化层22的凹槽23。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，如图16所示，图16为本发明实施例所提供的显示装置的结构示意图，该显示装置包括上述显示面板100。其中，显示面板100的具体结构已经在上述实施例中进行了详细说明，此处不再赘述。当然，图16所示的显示装置仅仅为示意说明，该显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。

由于本发明实施例所提供的显示装置包括上述显示面板，因此，采用该显示装置能够有效降低触控信号线2对光线的反射，进而有效改善暗态漏光现象，显示装置的对比度更优，视角范围更大。而且，本发明实施例仅需对原有减反射层3的形成工艺进行调整，使所形成的减反射层3至少部分包覆金属反射层4的侧面6即可，无需再额外增加一套形成减反射层3的工艺，工艺制程更为简单，工艺可行性更高。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。