像素阵列基板和包括像素阵列基板的显示装置

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年12月23日在韩国提交的专利申请No.10-2019-0173115的优先权权益，在此通过引用将该专利申请的整个内容并入本文。

技术领域

本发明涉及一种显示装置，更具体地，涉及一种包括传感器的显示装置。

背景技术

包括液晶的液晶显示(LCD)装置和包括发光二极管的有机发光二极管(OLED)显示装置已被用作使用数字图像数据来显示图像的显示装置。

与LCD装置相比，使用能发光的发光元件而没有附加光源的OLED显示装置具有快速响应速度、高发光效率、高亮度和宽视角的优点。由于在OLED显示装置中元件形成在诸如塑料之类的柔性基板上，所以可获得柔性显示装置。

添加有各种元件的显示装置可执行复杂的功能。例如，电子元件可执行移动通信功能、数据通信功能、摄像功能和录音功能。近来，用于多媒体功能的诸如相机和传感器之类的各种元件已被添加到显示装置。然而，由于这些各种元件设置在显示区域外部，所以需要这样一种显示装置，其中至少一个表面的显示区域延伸到基本整个表面。

发明内容

因此，本发明旨在提供一种基本克服了由于相关技术的限制和缺点而导致的一个或多个问题的像素阵列基板和包括该像素阵列基板的显示装置。

本发明的一个目的是提供一种像素阵列基板和包括像素阵列基板的显示装置，其中至少一个表面的显示区域延伸到基本整个表面。

本发明的另一个目的是提供一种像素阵列基板和包括像素阵列基板的显示装置，在其中显示区域中设置有传感器。

在下面的描述中将阐述本发明的附加特征和优点，这些特征和优点的一部分通过该描述将是显而易见的，或者可通过本发明的实施领会到。通过说明书、权利要求书以及附图中具体指出的结构可实现和获得本发明的这些和其他优点。

为了实现这些和其他优点并且根据本发明的意图，如在此具体化和广义描述的，一种显示装置包括：像素阵列，所述像素阵列包括布置成矩阵的多个像素；在所述像素阵列的下方的传感器；和在所述像素阵列的上方的折射层，其中所述像素阵列包括：第一区域，所述第一区域具有第一分辨率并且与所述传感器交叠；和第二区域，所述第二区域具有比所述第一分辨率高的第二分辨率并且与所述第一区域相邻，其中所述折射层包括：第一折射部分，所述第一折射部分具有第一折射率；和第二折射部分，所述第二折射部分具有比所述第一折射率低的第二折射率。

在另一个方面中，一种显示装置包括：显示面板，所述显示面板包括具有多个像素的像素阵列，每个像素包括薄膜晶体管层、以及依次设置在所述薄膜晶体管层上的第一电极、发光层和第二电极；覆盖所述显示面板的封装层；在所述封装层上的折射层；和所述显示面板的下方的传感器，其中所述像素阵列包括：第一区域，所述第一区域具有第一分辨率并且与所述传感器交叠；和第二区域，所述第二区域具有比所述第一分辨率高的第二分辨率并且与所述第一区域相邻，其中所述折射层包括：第一折射部分，所述第一折射部分具有第一折射率；和第二折射部分，所述第二折射部分具有比所述第一折射率低的第二折射率。

在又一个方面中，一种像素阵列基板包括：第一像素区域；第二像素区域，所述第二像素区域具有比所述第一像素区域高的分辨率；在所述第一像素区域中的、具有至少一个透镜的第一折射部分，所述第一折射部分将光集中到所述第一像素区域；和在所述第二像素区域的至少一部分中的第二折射部分，所述第二折射部分将光传输到所述第二像素区域，其中所述第一折射部分的折射率高于所述第二折射部分的折射率。

应当理解，前面的概括描述和下面的详细描述都是示例性和解释性的，并且旨在提供对所要求保护的本发明的进一步解释。

附图说明

被包括用来给本发明提供进一步理解并结合在本申请中组成本申请一部分的附图图解了本发明的实施方式，并与说明书一起用于解释本发明的原理。

图1是示出根据本发明第一实施方式的有机发光显示装置的示图；

图2是示出根据本发明第一实施方式的有机发光显示装置的子像素的示图；

图3是示出根据本发明第一实施方式的有机发光显示装置的子像素的详细电路的示图；

图4是示出根据本发明第一实施方式的显示装置的示图；

图5是沿图4的线I-I’截取的剖面图；

图6是示出根据本发明第一实施方式的显示装置的子像素的剖面图；

图7是示出根据本发明第二实施方式的显示装置的剖面图；

图8是示出根据本发明第二实施方式的显示装置的折射层的平面图；

图9A是示出根据本发明第一实施方式的显示装置的光路的剖面图；

图9B是示出根据本发明第二实施方式的显示装置的光路的剖面图；

图10A是示出根据本发明第一实施方式的显示装置的示图；

图10B是示出根据本发明第二实施方式的显示装置的示图。

具体实施方式

将通过参照附图描述的下列示例性实施方式阐明本发明的优点和特征及其实现方法。然而，本发明可以以不同的形式实施，不应解释为限于在此列出的实施方式。而是，提供这些实施方式是为了使本发明的公开内容全面和完整，以有助于所属领域技术人员全面理解本发明的范围。此外，本发明仅由权利要求书的范围限定。

为了描述本发明的实施方式而在附图中公开的形状、尺寸、比例、角度和数量仅仅是示例，因而，本发明不限于图示的细节。相似的参考标记通篇表示相似的元件。在下面的描述中，当确定对相关的已知功能或构造的详细描述会不必要地使本发明的重点模糊不清时，将省略对这种已知功能或构造的详细描述。在本申请中使用“包括”、“具有”和“包含”描述的情况下，可添加另外的部分，除非使用了更加限制性的术语，比如“仅”。

在解释一要素时，该要素应解释为包含误差或公差范围，即使没有明确描述这种误差或公差范围。

在描述位置关系时，例如，当两个部分之间的位置关系被描述为“在……上”、“在……上方”、“在……下方”、和“在……之后”时，可在这两个部分之间设置一个或多个其他部分，除非使用了更加限制性的术语，比如“正好”或“直接”。

将理解到，尽管在此可使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但这些元件不应受这些术语限制。这些术语仅仅是用来将元件彼此区分开。例如，在不背离本发明的范围的情况下，第一元件可能被称为第二元件，相似地，第二元件可能被称为第一元件。

如所属领域技术人员能够充分理解的，本发明各实施方式的特征可彼此部分或整体地结合或组合，并且可在技术上彼此进行各种互操作和驱动。本发明的实施方式可彼此独立实施，或者以相互依赖的关系共同实施。

下文中，将参照附图详细描述根据本发明实施方式的像素阵列基板和包括像素阵列基板的显示装置。在下面的描述中，相似的参考标记通篇表示相似的元件。当确定对与本文相关的公知功能或构造的详细描述会不必要地使本发明构思的主旨模糊不清时，将省略或简要给出其详细描述。

尽管有机发光二极管(OLED)显示装置、液晶显示(LCD)装置和电泳显示(EPD)装置可用作根据本发明的显示装置，但在本发明中将示例性地说明OLED显示装置。在OLED显示装置中，发光层设置在作为阳极的第一电极与作为阴极的第二电极之间。从第一电极提供的空穴和从第二电极提供的电子在发光层中彼此结合，从而产生空穴电子对的激子，激子从激发态转变到基态，从而在不需要附加光源的情况下利用能级差而发光。

图1是示出根据本发明第一实施方式的有机发光显示装置的示图，图2是示出根据本发明第一实施方式的有机发光显示装置的子像素的示图，图3是示出根据本发明第一实施方式的有机发光显示装置的子像素的详细电路的示图。

在图1中，有机发光显示(OLED)装置10包括图像处理部11、时序控制部12、数据驱动部13、栅极驱动部14和显示面板20。

图像处理部11输出从外部提供的数据信号DATA和数据使能信号DE。尽管除了数据使能信号DE以外，图像处理部11还可输出垂直同步信号、水平同步信号和时钟信号中的至少一个，但为了便于说明，可省略上述信号。

时序控制部12从图像处理部11接收包括数据使能信号DE、垂直同步信号、水平同步信号和时钟信号的多个驱动信号以及数据信号DATA。时序控制部12基于多个驱动信号输出用于控制栅极驱动部14的驱动时序的栅极控制信号GDC和用于控制数据驱动部13的驱动时序的数据控制信号DDC。

数据驱动部13响应于从时序控制部12提供的数据控制信号DDC来采样并锁存从时序控制部12提供的数据信号DATA。数据驱动部13将数据信号DATA转换为伽马基准电压并且输出伽马基准电压。数据驱动部13通过多条数据线DL1至DLn输出数据信号DATA。数据驱动部13可形成为集成电路(IC)。

栅极驱动部14响应于从时序控制部12提供的栅极控制信号GDC输出栅极信号。栅极驱动部14通过多条栅极线GL1至GLm输出栅极信号。栅极驱动部14可形成为集成电路(IC)或者可作为面板内栅极(GIP)形成在显示面板20中。

显示面板20响应于从数据驱动部13提供的数据信号DATA和从栅极驱动部14提供的栅极信号显示图像。显示面板20包括被驱动以显示图像的多个子像素50。

多个子像素50可包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，或者可包括白色子像素、红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。多个子像素50可根据发光特性具有至少一个不同的发光面积。

在图2中，一个子像素包括开关晶体管30、驱动晶体管35、电容器40、补偿电路45和发光二极管60。

开关晶体管30响应于从第一栅极线32提供的栅极信号导通和截止(切换)，使得通过第一数据线36提供的数据信号作为数据电压存储在电容器40中。驱动晶体管35根据存储在电容器40中的数据电压导通和截止，使得驱动电流在高电平电压的第一电源线42与低电平电压的第二电源线44之间流动。发光二极管60根据通过驱动晶体管35形成的驱动电流进行驱动，从而发光。

补偿电路45添加在子像素中来补偿驱动晶体管35的阈值电压。补偿电路45可包括至少一个晶体管。补偿电路45可根据外部补偿方法具有各种结构。下文中将示例性地说明补偿电路45。

在图3中，补偿电路45可包括感测晶体管65和感测线70(或基准线)。感测晶体管65连接在驱动晶体管35的源极电极(或第二电极)与发光二极管60的阳极(下文中称为感测节点)之间。感测晶体管65将通过感测线70传输的初始化电压(或感测电压)提供至驱动晶体管35的感测节点，或者感测晶体管65感测驱动晶体管35的感测节点或者感测线70的电压或电流。

开关晶体管30的第一电极连接至第一数据线36，并且开关晶体管30的第二电极连接至驱动晶体管35的栅极电极。驱动晶体管35的第一电极连接至第一电源线42，并且驱动晶体管35的第二电极连接至发光二极管60的阳极。电容器40的第一电极连接至驱动晶体管35的栅极电极，并且电容器40的第二电极连接至发光二极管60的阳极。发光二极管60的阳极连接至驱动晶体管35的第二电极，并且发光二极管60的阴极连接至第二电源线44。感测晶体管65的第一电极连接至感测线70，并且感测晶体管65的第二电极连接至感测节点的发光二极管60的阳极和驱动晶体管35的第二电极。

根据外部补偿算法(或补偿电路的结构)，感测晶体管65的操作时序可与开关晶体管30的操作时序相似或相同。例如，开关晶体管30的栅极电极可连接至第一栅极线32，并且感测晶体管65的栅极电极可连接至第二栅极线34。在这种情况下，栅极信号Scan可传输至第一栅极线32，并且感测信号Sense可传输至第二栅极线34。在另一个实施方式中，与开关晶体管30的栅极电极连接的第一栅极线32和与感测晶体管65的栅极电极连接的第二栅极线34可彼此共同地连接。

感测线70可连接至数据驱动部。在这种情况下，数据驱动部实时地或者在非显示时段期间或者在第N帧(N是大于等于1的整数)期间感测子像素的感测节点并且产生感测结果。开关晶体管30和感测晶体管65可同时导通。在这种情况下，基于数据驱动部的时分方法，经由感测线70的感测操作和输出数据信号的数据输出操作彼此分离(分开)。

基于感测结果的补偿对象可包括数字型的数据信号、模拟型的数据信号和伽马电压。基于感测结果产生补偿信号(或补偿电压)的补偿电路可设置在数据驱动部或时序控制部的内部，或者可形成为附加的电路。

遮光层80可仅设置在驱动晶体管35的沟道区域的下方，或者除了驱动晶体管35的沟道区域之外还可设置在开关晶体管30和感测晶体管65的沟道区域的下方。遮光层可用于阻挡外部光或者可用作与另一电极或另一线连接并组成电容器的电极。结果，遮光层可由具有遮光特性的多个金属层(不同种类的金属)形成。

尽管在图3中子像素示例性地具有包括开关晶体管30、驱动晶体管35、电容器40、发光二极管60和感测晶体管65的3T1C(3个晶体管，1个电容器)结构，但在另一实施方式中子像素可具有包括补偿电路45的3T2C、4T2C、5T1C和6T2C结构的其中之一。

图4是示出根据本发明第一实施方式的显示装置的示图，图5是沿图4的线I-I’截取的剖面图，图6是示出根据本发明第一实施方式的显示装置的子像素的剖面图。

在图4中，根据本发明第一实施方式的显示装置100包括像素阵列400，像素阵列400具有沿第一方向和与第一方向交叉的第二方向布置的多个像素PXL。多个像素PXL的每一个可包括多个子像素SP。多个子像素SP可包括红色子像素SP、绿色子像素SP和蓝色子像素SP，或者可包括白色子像素SP、红色子像素SP、绿色子像素SP和蓝色子像素SP。多个子像素SP可根据发光特性具有至少一个不同的发光面积。

在图5和图6中，根据本发明第一实施方式的显示装置100包括基板300、薄膜晶体管(TFT)、钝化层370、发光二极管440、堤层450和封装层500。

尽管图6中未示出，但显示装置100的像素阵列400包括在基板300上的栅极线和数据线。栅极线和数据线彼此交叉以限定子像素SP，并且栅极绝缘层360设置在栅极线与数据线之间。薄膜晶体管设置在每个子像素SP中。薄膜晶体管包括连接至栅极线的栅极电极351、连接至数据线的源极电极353、和与源极电极353分隔开的漏极电极354。

栅极绝缘层360设置在栅极电极351上，并且半导体层352设置在栅极绝缘层360上以与栅极电极351交叠。源极电极353和漏极电极354分别接触半导体层352的第一端部和第二端部。

半导体层352可包括非晶硅(a-Si)、多晶硅(p-Si)、氧化物半导体或有机半导体。例如，氧化物半导体的半导体层352可包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟镓锌(IGZO)或氧化铟锡锌(ITZO)。然而，半导体的材料不限于此。

钝化层370设置在薄膜晶体管上以保护薄膜晶体管。钝化层370可用作平坦化层。可在钝化层370上设置多个发光二极管440。发光二极管440包括顺序地设置在钝化层370上的第一电极410、发光层420和第二电极430。

第一电极可以是向发光层420提供空穴的阳极。阳极可包括具有相对较高功函数的透明导电材料。例如，透明导电材料可包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或氧化铟锡锌(ITZO)。然而，透明导电材料不限于此。第一电极410可通过钝化层370中的接触孔CH连接至漏极电极354。

第二电极可以是向发光层420提供电子的阴极。阴极可包括具有相对较低功函数的金属材料。例如，金属材料可包括银(Ag)、钛(Ti)、铝(Al)、钼(Mo)或银镁(Ag:Mg)。阴极可被称为公共电极。当阴极包括银镁(Ag:Mg)时，可通过相较于镁(Mg)的组成比来增加银(Ag)的组成比，由此降低阴极的电阻。在此，为了防止由于银氧化导致的电阻增加，可在银镁(Ag:Mg)的层上方和/或下方设置镱(Yb)的层。

发光层420设置在第一电极410与第二电极430之间。发射不同颜色光的发光层420分离地设置在每个子像素SP中。例如，发射红色光的红色发光层420、发射绿色光的绿色发光层420和发射蓝色光的蓝色发光层420可分别单独设置在红色子像素SP、绿色子像素SP和蓝色子像素SP中。红色子像素SP、绿色子像素SP和蓝色子像素SP可构成一个像素PXL。在红色发光层420、绿色发光层420和蓝色发光层420的每一个中，分别通过第一电极410和第二电极430提供的空穴和电子彼此结合而发光。通过经由具有与子像素SP对应的开口的掩模沉积有机发光材料，发光层420可被图案化在每个子像素SP中。例如，掩模可以是精细金属掩模(FMM)。可选地，发光层420可共同地设置在基板300上的全部多个子像素SP中。在这种情况下，发光层420可包括发射白色光的有机发光材料，并且可与发光层420的发光区域对应地设置滤色器。

除了发光材料层以外，发光层420还可包括注入层和传输层，以提高发光二极管440的发光效率。

堤层450可限定子像素SP，以暴露第一电极410的顶表面的一部分。例如，堤层450可设置成覆盖第一电极410的边缘部分。堤层450包括绝缘材料，以将相邻子像素SP的第一电极410绝缘。

在图4和图5中，根据本发明第一实施方式的显示装置100的像素阵列400包括具有相对较低分辨率的第一区域A和具有相对较高分辨率的第二区域B。第一区域A的每单位面积的像素PXL的数量(每英寸像素数：PPI)小于第二区域B的每单位面积的像素PXL的数量(PPI)。

相对较高分辨率的第二区域B的子像素SP设置在数据线DL和栅极线GL的交叉部分的每一个处。

相对较低分辨率的第一区域A的子像素SP设置在数据线DL和栅极线GL的交叉部分的一部分处。在数据线DL和栅极线GL的交叉部分的其他部分处可不设置第一区域A的子像素SP。

根据本发明第一实施方式的显示装置100包括在像素阵列400的下方的传感器200。传感器200可包括相机模块、接近度传感器、照度传感器、指纹传感器和生物传感器中的至少之一。下文中将示例性地说明相机模块的传感器200。然而，传感器200不限于此。

传感器200与像素阵列400的第一区域A交叠。像素阵列400的第一区域A的至少一部分与传感器200交叠。第二区域B不与传感器200交叠。

当传感器200被激活时，与传感器200交叠的第一区域A的像素PXL可停止工作。例如，当传感器200的相机模块被激活时，第一区域A的像素PXL可停止工作。由于相机模块容纳用于拍摄物体的外部光，所以从像素PXL发射的光可与外部光混合，从而使图片或图像劣化。

在图5和图6中，包括薄膜晶体管的薄膜晶体管(TFT)层350设置在基板300上，并且包括第一电极410、发光层420和第二电极430的像素阵列400设置在TFT层350上。像素阵列400中布置有多个像素PXL。像素阵列400包括具有相对较低分辨率的第一区域A和具有相对较高分辨率的第二区域B。

传感器200设置在像素阵列400的下方。传感器200可设置在基板300的下方以与像素阵列400的第一区域A的至少一部分交叠。当从显示装置100的前方观看时，传感器200可设置在第一区域A内部。

封装层500设置在像素阵列400上。由于发光层420易受湿气和氧气影响，所以封装层500保护发光层420免受湿气和氧气的影响。封装层500可包括金属层或者有机材料和无机材料的至少两层。

偏振层600设置在封装层500上。偏振层600防止由于外部光在显示装置100中的金属材料上的反射而导致的显示装置100的可视性降低。偏振层600可在与像素阵列400的第一区域A和第二区域B对应的部分中具有不同的光学特性。例如，与第一区域A交叠的第一部分的偏振层600可具有基于传感器200的相对较高的透射率，与第二区域B交叠的第二部分的偏振层600可具有相对较低的透射率。在另一实施方式中，偏振层600可在与第一区域A交叠的第一部分中具有开口，以增加透射率。当偏振层600在与第一区域A交叠的第一部分中具有开口时，由于相对较高的透射率，照射到传感器200上的外部光的量可增加。

覆盖层700可设置在偏振层600上。覆盖层700可包括诸如玻璃之类的材料。为了防止由于外部冲击对显示装置100导致的损坏，钢化玻璃可用于覆盖层700。除了显示区域之外的部分的覆盖层700可被印刷成不透明的。

由于具有相对较低分辨率的第一区域A和传感器200设置成彼此交叠，所以外部光容易照射(输入)到传感器200上。由于第一区域A的子像素SP的数量小于第二区域B的子像素SP的数量，所以第一区域A相对于外部光的透射率增加。当传感器是相机模块时，可提高图片的质量。

结果，通过在显示区域下方设置传感器200，获得了整个表面是显示区域的全屏显示装置。

图7是示出根据本发明第二实施方式的显示装置的剖面图。图7对应于图4的线I-I’。与第一实施方式的部分基本相同的第二实施方式的部分由相同的参考标记表示，并且省略对与第一实施方式的部分基本相同的第二实施方式的部分的说明。

在图7中，根据本发明第二实施方式的显示装置100进一步包括在封装层500与偏振层600之间的折射层800。

包括薄膜晶体管的薄膜晶体管(TFT)层350设置在基板300上，并且包括第一电极410、发光层420和第二电极430的像素阵列400设置在TFT层350上。像素阵列400包括具有相对较低分辨率的第一区域A和具有相对较高分辨率的第二区域B。

传感器200设置在像素阵列400的下方。传感器200可设置在基板300的下方以与像素阵列400的第一区域A的至少一部分交叠。当从显示装置100的前方观看时，传感器200可设置在第一区域A内部。

封装层500设置在像素阵列400上。由于发光层420易受湿气和氧气的影响，所以封装层500保护发光层420免受湿气和氧气的影响。封装层500可包括金属层或者有机材料和无机材料的至少两层。

折射层800设置在封装层500上。折射层800可包括丙烯酸树脂。折射层800可以是包括具有不同折射率的多个折射部分的混合折射层(hybrid refracting layer)。例如，折射层800可包括具有第一折射率的第一折射部分800a和具有比第一折射率小的第二折射率的第二折射部分800b。

第一折射部分800a具有多个透镜，每个透镜都具有凸透镜形状。第一折射部分800a可设置在与像素阵列400的第一区域A交叠以及与第二区域B中的和第一区域A相邻的部分交叠的部分中。

第二折射部分800b可设置在封装层500上以覆盖第一折射部分800a。第二折射部分800b可设置在与第一区域A和第二区域B交叠的部分中。例如，第二折射部分800b可作为公共层设置在整个显示区域中。

第一折射部分800a可包括具有浮雕形状或凹凸形状的多个半球形凸透镜。第一折射部分800a的多个半球形凸透镜可设置成彼此分隔开。

第一折射部分800a的第一折射率可大于第二折射部分800b的第二折射率。例如，第一折射部分800a可具有相对较高的折射率。

图8是示出根据本发明第二实施方式的显示装置的折射层的平面图。

在图8中，根据本发明第二实施方式的显示装置100可包括具有至少两个折射率的混合折射层。

具有相对较高折射率的第一折射部分800a可设置在与第一区域A交叠、以及与第二区域B中的和第一区域A相邻的部分交叠的部分中。结果，第一折射部分800a可设置成覆盖传感器200。可通过使用光学掩模的光刻工艺形成第一折射部分800a。

具有相对低折射率的第二折射部分800b可形成在封装层500上。第二折射部分800b可形成为完全覆盖第一折射部分800a。可通过使用光学掩模的光刻工艺形成第二折射部分800b。例如，可使用公共光学掩模在整个基板300上沉积第二折射部分800b。

偏振层600设置在折射层800上。偏振层600防止由于外部光在显示装置100中的金属材料上的反射而导致的显示装置100的可视性降低。偏振层600可在与像素阵列400的第一区域A和第二区域B对应的部分中具有不同的光学特性。例如，与第一区域A交叠的第一部分的偏振层600可具有基于传感器200的相对较高的透射率，与第二区域B交叠的第二部分的偏振层600可具有相对较低的透射率。在另一实施方式中，偏振层600可在与第一区域A交叠的第一部分中具有开口，以增加透射率。

覆盖层700可设置在偏振层600上。覆盖层700可包括诸如玻璃之类的材料。为了防止由于外部冲击对显示装置100导致的损坏，钢化玻璃可用于覆盖层700。除了显示区域之外的部分的覆盖层700可被印刷成不透明的。

在另一个方面中，根据本发明第二实施方式的显示装置100包括像素阵列基板，并且当从显示装置100的前方观看时，像素阵列基板包括第一像素区域和具有比第一像素区域高的分辨率的第二像素区域。

在像素阵列基板的第一像素区域中设置包括至少一个透镜的第一折射部分。第一折射部分将光集中到第一像素区域。在像素阵列基板的第二像素区域的至少一部分中设置第二折射部分。第一折射部分的折射率高于第二折射部分的折射率。

第一折射部分可包括均匀地设置在整个第一像素区域中的多个第一凸透镜，也可以包括布置在第一像素区域的至少一部分中的多个凸透镜。第一折射部分可进一步包括在第二像素区域中的与第一像素区域相邻的部分中的多个第二凸透镜。第一折射部分和第二折射部分可包括丙烯酸树脂。

偏振层可设置在第一折射部分和第二折射部分上。偏振层可在第一像素区域和第二像素区域中可具有不同的光学特性。例如，由于在基板下方在第一像素区域中设置传感器，所以第一像素区域可以是具有相对较高透射率的透射窗。第一像素区域中的偏振层可具有比第二像素区域中的偏振层高的透射率。透射窗可包括暴露第一像素区域的一部分的开口，用来进一步增加透射率。

图9A是示出根据本发明第一实施方式的显示装置的光路的剖面图，图9B是示出根据本发明第二实施方式的显示装置的光路的剖面图。图10A是示出根据本发明第一实施方式的显示装置的示图，图10B是示出根据本发明第二实施方式的显示装置的示图。

在图9A和图10A中，外部光OL进入根据本发明第一实施方式的显示装置100。外部光OL在覆盖层700与偏振层600之间的界面、在偏振层600的第一区域A与第二区域B之间的边界线、以及在封装层500与像素阵列400之间的界面处反射，从而作为反射光ROL输出。

由于显示装置100不包括折射层800，所以反射光ROL彼此平行。结果，设置有传感器200的区域的边界线可被识别到。例如，用户可识别到具有相对较低分辨率的第一区域A与具有相对较高分辨率的第二区域B之间的边界线。

在图9B和图10B中，外部光OL’进入根据本发明第二实施方式的显示装置100。外部光OL’在覆盖层700与偏振层600之间的界面、在偏振层600的第一区域A与第二区域B之间的边界线、以及在封装层500与像素阵列400之间的界面处反射，从而作为反射光ROL’输出。此外，外部光OL’在第一折射部分800a的多个凸透镜的顶表面处反射，从而作为反射光ROL’输出。来自第一折射部分800a的多个凸透镜的顶表面的反射光ROL’沿各个方向输出。

由于显示装置100包括混合反射层的折射层800，所以反射光ROL’沿各个方向散射。结果，设置有传感器200的区域的边界线不会被识别到。例如，用户不会识别到具有相对较低分辨率的第一区域A与具有相对较高分辨率的第二区域B之间的边界线。

在图9A中，从像素阵列400的发光层420发射的光在像素阵列400与封装层500之间的界面、在封装层500与偏振层600之间的界面、以及在偏振层600与覆盖层700之间的界面处折射，从而作为折射光IL沿对角线方向输出。

在图9B中，从像素阵列400的发光层420发射的光在像素阵列400与封装层500之间的界面、在封装层500与折射层800之间的界面、以及在偏振层600与覆盖层700之间的界面处折射，从而作为折射光IL’沿向前方向输出。由于显示装置100包括混合反射层的折射层800，所以与折射光IL相比，折射光IL’进一步被折射而具有向前的方向。

由于第一折射部分800a的多个凸透镜，与第一区域A相邻的光的垂直分量增加。结果，第一区域A的亮度增加。由于第一区域A和第二区域B的像素PXL的数量差而导致的亮度差，第一区域A与第二区域B之间的边界线可被识别到。相对较低PPI区域的亮度低于相对较高PPI区域的亮度。

在根据本发明第二实施方式的显示装置100中，由于折射层800，反射光ROL’沿各个方向散射并且第一区域A与第二区域B之间的亮度差减小。结果，第一区域A与第二区域B之间的边界线的可视性降低。

因而，在像素阵列基板和包括像素阵列基板的显示装置中，由于诸如相机模块之类的传感器设置在像素阵列的下方，所以获得了全屏。

此外，由于在诸如相机模块之类的传感器的上方设置折射层，所以不会识别到传感器。

根据本发明，提供了显示装置的进一步方面。一种显示装置包括：像素阵列，所述像素阵列包括布置成矩阵的多个像素；在所述像素阵列的下方的传感器；和在所述像素阵列的上方的折射层，其中所述像素阵列包括：第一区域，所述第一区域具有第一分辨率并且与所述传感器交叠；和第二区域，所述第二区域具有比所述第一分辨率高的第二分辨率并且与所述第一区域相邻，其中所述折射层包括：第一折射部分，所述第一折射部分具有第一折射率；和第二折射部分，所述第二折射部分具有比所述第一折射率低的第二折射率。

在一个或多个实施方式中，所述第一折射部分设置成至少部分地覆盖所述第二区域中的与所述第一区域相邻的部分以及所述第一区域，并且所述第二折射部分至少部分地覆盖所述第一区域和所述第二区域，以与所述第一折射部分交叠。

在一个或多个实施方式中，所述第一折射部分包括多个半球形凸透镜。

在一个或多个实施方式中，所述多个半球形凸透镜彼此分隔开。

在一个或多个实施方式中，所述第一折射部分和所述第二折射部分包括丙烯酸树脂。

在一个或多个实施方式中，所述第一区域的透射率高于所述第二区域的透射率。

在一个或多个实施方式中，所述传感器包括相机或相机模块。

在一个或多个实施方式中，在所述相机或相机模块被激活时，所述第一区域中的多个像素停止工作。

在一个或多个实施方式中，一种显示装置包括：显示面板，所述显示面板包括具有多个像素的像素阵列，每个像素包括薄膜晶体管层、以及依次地设置在所述薄膜晶体管层上的第一电极、发光层和第二电极；至少部分地覆盖所述显示面板的封装层；在所述封装层上的折射层；和在所述显示面板的下方的传感器，其中所述像素阵列包括：第一区域，所述第一区域具有第一分辨率并且与所述传感器交叠；和第二区域，所述第二区域具有比所述第一分辨率高的第二分辨率并且与所述第一区域相邻，其中所述折射层包括：第一折射部分，所述第一折射部分具有第一折射率；和第二折射部分，所述第二折射部分具有比所述第一折射率低的第二折射率。

在一个或多个实施方式中，所述第一折射部分设置成至少部分地覆盖所述第二区域中的与所述第一区域相邻的部分以及所述第一区域，并且所述第二折射部分至少部分地覆盖所述第一区域和所述第二区域，以与所述第一折射部分交叠。

在一个或多个实施方式中，所述显示装置进一步包括：在所述折射层上的偏振层，所述偏振层包括具有不同透射率的至少两个部分；和在所述偏振层上的覆盖层，其中在所述第一区域上方的偏振层的透射率高于在所述第二区域上方的偏振层的透射率。

在一个或多个实施方式中，所述偏振层在所述第一区域中具有与所述传感器交叠的开口。

在一个或多个实施方式中，一种像素阵列基板包括：第一像素区域；第二像素区域，所述第二像素区域具有比所述第一像素区域高的分辨率；在所述第一像素区域中的具有至少一个透镜的第一折射部分，所述第一折射部分将光集中到所述第一像素区域；和在所述第二像素区域的至少一部分中的第二折射部分，所述第二折射部分将光传输到所述第二像素区域，其中所述第一折射部分的折射率高于所述第二折射部分的折射率。

在一个或多个实施方式中，所述第一折射部分包括布置在所述第一像素区域的至少一部分中的多个凸透镜。

在一个或多个实施方式中，所述第一折射部分进一步包括在所述第二像素区域中的与所述第一像素区域相邻的部分中的多个透镜。

在一个或多个实施方式中，所述像素阵列基板进一步包括在所述第一折射部分和所述第二折射部分上的偏振层。

在一个或多个实施方式中，所述偏振层在所述第一像素区域中包括透射窗。

在一个或多个实施方式中，所述透射窗包括暴露所述第一像素区域的开口。

在一个或多个实施方式中，所述第一折射部分和所述第二折射部分包括丙烯酸树脂。

在一个或多个实施方式中，所述第一折射部分包括均匀地布置在整个第一像素区域中的多个凸透镜。

上面已描述了多个示例。尽管如此，将要理解的是，可进行各种修改。例如，当以不同的顺序执行所描述的技术时和/或当所描述的系统、结构、装置或电路中的部件以不同的方式组合和/或被其他部件或它们的等同物代替或补充时，可实现适当的结果。因此，其他实施方案包含在本发明的范围内。