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相机模块

文献发布时间:2024-01-17 01:27:33


相机模块

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年3月13向韩国知识产权局提交的第10-2020-0031170号韩国专利申请的优先权,该专利申请的全部公开内容出于所有目的通过引用并入本申请。

技术领域

以下描述涉及一种相机模块。例如,以下描述涉及一种配置为使相机模块的内部部件之间的磁场干扰最小化的相机模块。

背景技术

相机模块可以包括透镜模块和配置为驱动透镜模块的驱动组件。例如,相机模块可以包括:透镜模块,具有多个透镜;以及一个或多个驱动组件,配置为沿光轴的方向以及沿与光轴相交的方向驱动透镜模块。一个或多个驱动组件可以包括多个磁体和配置为产生不同级别的驱动力的多个线圈。例如,第一驱动组件的磁体和线圈可配置为沿光轴的方向移动透镜模块,并且第二驱动组件的磁体和线圈可配置为沿与光轴相交的方向移动透镜模块。然而,由于相对较小的相机模块可能在第一驱动组件和第二驱动组件所设置的地方具有相对狭小的空间,因此第一驱动组件的磁体和线圈以及第二驱动组件的磁体和线圈之间可能发生干扰。

发明内容

提供本发明内容部分旨在以简要的形式介绍对发明构思的选择,而在以下的具体实施方式部分中将进一步描述这些发明构思。本发明内容部分目的不在于确认所要求保护的主题的关键特征或必要特征,也不籍此帮助确定所要求保护的主题的范围。

在一个总的方面,相机模块包括配置为沿与光轴相交的方向驱动透镜模块的驱动组件。驱动组件包括:驱动磁体构件;辅助磁体构件,沿第一方向布置在驱动磁体构件的相对侧上并且布置为具有与驱动磁体构件的极性不同的极性;以及驱动线圈,包括沿着驱动磁体构件和辅助磁体构件之间的边界延伸的部分。

驱动磁体构件的第一极性和第二极性可沿与第一方向相交的方向形成。

辅助磁体构件中的每个沿第一方向的长度可小于驱动磁体构件沿第一方向的长度。

驱动线圈沿第一方向的长度可小于驱动磁体构件的沿第一方向的长度与辅助磁体构件中的每个沿第一方向的长度的总和。

驱动线圈的高度可大于驱动磁体构件的高度。

驱动磁体构件可以包括沿第一方向布置的第一驱动磁体构件和第二驱动磁体构件。

第一驱动磁体构件沿第一方向的长度和第二驱动磁体构件沿第一方向的长度可以分别大于辅助磁体构件中的每个沿第一方向的长度。

驱动线圈可以包括:第一驱动线圈,沿着第一驱动磁体构件的边缘形成;以及第二驱动线圈,设置为与第一驱动线圈相邻,并且沿着第二驱动磁体构件的边缘形成。

在另一个总的方面,相机模块包括配置为沿与光轴相交的方向驱动透镜模块的驱动组件。驱动组件包括:第一驱动磁体构件;第二驱动磁体构件,与第一驱动磁体构件并排地设置;第一驱动线圈,设置为与第一驱动磁体构件相对,第一驱动线圈沿着第一驱动磁体构件与第二驱动磁体构件之间的边界以及沿着第一驱动磁体构件的边缘形成;第二驱动线圈,与设置第二驱动磁体构件相对,第二驱动线圈沿着第一驱动磁体构件与第二驱动磁体构件之间的边界以及沿着第二驱动磁体构件的边缘形成。

第一驱动线圈和第二驱动线圈可以基于第一驱动磁体构件和第二驱动磁体构件之间的边界间隔地布置。

第一驱动线圈沿第一方向的长度可大于第一驱动磁体构件沿第一方向的长度。

第一驱动磁体构件和第二驱动磁体构件沿第一方向可具有不同的极性。

第一驱动线圈和第二驱动线圈可以配置为允许电流在第一驱动磁体构件和第二驱动磁体构件之间的边界处沿相同的方向流动。

在另一个总的方面,相机模块包括配置为沿与光轴相交的方向驱动透镜模块的驱动组件。驱动组件包括:驱动磁体,在驱动磁体中沿与光轴相交的方向间隔地形成第一极性边界线和第二极性边界线;以及驱动线圈,包括沿着第一极性边界线和第二极性边界线延伸的部分。

驱动磁体的长度可大于驱动线圈的长度。

第一极性边界线与第二极性边界线之间的距离可大于第一极性边界线与驱动磁体的端部部分之间的距离。

驱动线圈的高度可大于驱动磁体的高度。

根据下面的具体实施方式、附图和权利要求,其它特征和方面将显而易见。

附图说明

图1是示出根据实施方式的相机模块的示意性配置的平面图。

图2是图1中所示的驱动组件的正视图。

图3是根据实施方式的驱动组件的正视图。

图4是根据实施方式的相机模块的分解立体图。

图5是图4中所示的相机模块的部分组装的立体图。

图6和图7是图5中所示的移动主体的剖视图。

图8是图4和图5中所示的相机模块的组装立体图。

图9是沿图8的线III-III的剖视图。

图10A至图10C是根据实施方式的图9中所示的驱动组件的配置图。

图11A至图11C是根据实施方式的驱动组件的配置图。

图12示出了根据实施方式的装备有相机模块的移动终端。

图13是根据实施方式的相机模块的分解立体图。

图14A至图14C是根据实施方式的图13中所示的驱动组件的配置图。

在整个附图和具体实施方式中,相同的附图标记指代相同的元件。出于清楚、说明和方便的目的,附图可能未按照比例绘制,并且附图中元件的相对尺寸、比例和描绘可能被夸大。

具体实施方式

提供以下具体实施方式以帮助读者获得对本申请中所描述的方法、装置和/或系统的全面理解。然而,本申请中所描述的方法、装置和/或系统的各种改变、修改和等同在理解本申请的公开内容之后将是显而易见的。例如,本申请中所描述的操作的顺序仅仅是示例,并且除了必须以特定顺序发生的操作之外,不限于在本申请中所阐述的顺序,而是可以改变的,这在理解本申请的公开内容后将是显而易见的。另外,为了更加清楚和简洁,可省略对本领域公知的特征的描述。

本申请中所描述的特征可以以不同的形式实施,而不应被理解为受限于本申请中所描述的示例。更确切地,提供本申请所描述的示例仅仅是为了示出实现本申请所描述的方法、装置和/或系统的许多可能方式中的一些,这在理解本申请的公开内容后将是显而易见的。

应注意,在本申请中,相对于实施方式或示例使用措辞“可以”,例如关于实施方式或示例可以包括或实现的内容,意味着存在其中包括或实现这样的特征的至少一个实施方式或示例,而所有实施方式和示例不限于此。

在整个说明书中,当诸如层、区域或基板的元件被描述为位于另一元件“上”、“连接到”或“联接到”另一元件时,该元件可直接位于该另一元件“上”、直接“连接到”或直接“联接到”该另一元件,或者可存在介于该元件与该另一元件之间的一个或多个其它元件。相反地,当元件被描述为“直接位于”另一元件“上”、“直接连接到”或“直接联接到”另一元件时,可不存在介于该元件与该另一元件之间的其它元件。

如本申请中所使用的,措辞“和/或”包括相关联的所列项目中的任何一项以及任何两项或更多项的任何组合。

尽管在本申请中可以使用诸如“第一”、“第二”和“第三”的措辞来描述各种构件、部件、区域、层或部分,但是这些构件、部件、区域、层或部分不受这些措辞的限制。更确切地,这些措辞仅用于将一个构件、部件、区域、层或部分与另一构件、部件、区域、层或部分区分开。因此,在不背离本申请中所描述的示例的教导的情况下,这些示例中提及的第一构件、第一部件、第一区域、第一层或第一部分也可以被称作第二构件、第二部件、第二区域、第二层或第二部分。

诸如“在……之上”、“较上”、“在……之下”和“较下”的空间相对措辞可以在本申请中为了描述便利而使用,以描述如附图中所示的一个元件相对于另一元件的关系。除了涵盖附图中所描绘的定向之外,这些空间相对措辞旨在还涵盖设备在使用或操作中的不同的定向。例如,如果附图中的设备翻转,则描述为位于另一元件“之上”或相对于另一元件“较上”的元件将位于该另一元件“之下”或相对于该另一元件“较下”。因此,根据设备的空间定向,措辞“在……之上”涵盖“在......之上”和“在......之下”的两种定向。该设备还可以以其它方式定向(例如,旋转90度或处于其它定向),并且本申请中使用的空间相对措辞应被相应地解释。

本申请中使用的术语仅用于描述各种示例,而不用于限制本公开。除非上下文另有明确指示,否则冠词“一”、“一个”和“该”旨在也包括复数形式。措辞“包括”、“包含”和“具有”说明存在所阐述的特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合,但不排除一个或多个其它特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合的存在或添加。

由于制造技术和/或公差,可出现附图中所示形状的变化。因此,本申请中描述的示例不限于附图中所示的具体形状,而是包括在制造期间出现的形状变化。

可以以在获得对本申请的公开内容的理解之后将显而易见的各种方式组合本申请中描述的示例的特征。此外,尽管本申请中描述的示例具有多种配置,但是在理解本申请的公开内容之后将显而易见的其它配置也是可行的。

图1和图2示出了根据实施方式的相机模块10。

相机模块10可以安装在便携式电子产品中。例如,相机模块10可以安装在移动电话、笔记本电脑等上。但是,相机模块10的应用不限于上述电子产品。例如,相机模块10可以安装在自动柜员机(ATM)、交互式广播电视等中。

参照图1,相机模块10可以包括用于容纳相机模块10的功能所需的各种组成元件的结构。例如,相机模块10可以包括壳体100。

相机模块10可以包括用于将从物体反射的光线成像到图像传感器上的一个或多个部件。例如,相机模块10可以包括透镜模块200。透镜模块200可以包括具有屈光力的透镜。例如,透镜模块200可以包括四个(4个)或更多的透镜。透镜模块200中所包括的透镜的数量不限于四个(4个)。例如,透镜模块200可以包括三个(3个)或更少的透镜,或者可以包括五个(5个)或更多的透镜。

相机模块10可以配置为具有光学图像防抖(OIS)功能。例如,相机模块10可以包括用于沿与光轴C相交的相应方向(例如,X轴方向和Y轴方向)驱动透镜模块200的驱动组件400和500。

驱动组件400和500可以分别包括驱动线圈410和510,并且分别包括驱动磁体420和520。驱动线圈410和510可以分别设置在壳体100中。例如,驱动线圈410和驱动线圈510可以布置在壳体100的不同侧表面上。驱动磁体420和520可以分别设置在透镜模块200上。例如,驱动磁体420和驱动磁体520可以布置在透镜模块200的不同侧表面上。驱动线圈410和510以及驱动磁体420和520可以分别布置为彼此相对。例如,驱动线圈410可以设置为与驱动磁体420相对,并且驱动线圈510可以设置为与驱动磁体520相对。驱动组件400和驱动组件500可以配置为沿不同的方向提供力。例如,驱动组件400(例如,驱动线圈410和驱动磁体420)可以生成使透镜模块200沿与光轴C相交的第一方向移动的驱动力,并且驱动组件500(例如,驱动线圈510和驱动磁体520)可以生成使透镜模块200沿与光轴C相交的第二方向移动的驱动力。

驱动组件400和500可具有特定的形状。在下文中,将参照图2描述驱动组件400和500的配置。

参照图2,驱动磁体420和520可以配置为包括多个极性边界线4202、5202、4204和5204。例如,驱动磁体420和520可以配置为使得两个S极形成在N极的相对侧表面上,或者两个N极形成在S极的相对侧表面上。多个极性边界线4202、5202、4204和5204可以沿与光轴C相交的方向间隔地形成。例如,驱动磁体420和520的N极和S极可以沿与光轴C相交的方向形成。形成驱动磁体420和520的N极的区域和S极的区域可形成为具有不同的长度。例如,可以是驱动磁体420和520的中央部分的第一极性形成区域(例如,参考图2的N极)的长度Lmd可大于与第一极性形成区域邻近的第二极性形成区域(例如,参考图2的S极)中的每个的长度Lmt。换言之,从第一极性边界线4202和5202到相应的第二极性边界线4204和5204的距离可分别大于从第一极性边界线4202和5202到相应的驱动磁体420和520的最靠近第一极性边界线4202和5202的端部的距离,并且可分别大于从第二极性边界线4204和5204到相应的驱动磁体420和520的最靠近第二极性边界线4204和5204的端部的距离。作为另一示例,第一极性形成区域的长度Lmd可等于或大于第二极性形成区域的长度的总和Lmt+Lmt。

驱动线圈410和510可以设置为分别与驱动磁体420和520的中央部分相对。例如,驱动线圈410可设置为与形成在驱动磁体420的中央部分中的第一极性形成区域(例如,基于图2的N极)相对,并且驱动线圈510可设置为与形成在驱动磁体520的中央部分中的第一极性形成区域(例如,基于图2的N极)相对。驱动线圈410可以包括沿着驱动磁体420的极性边界线4202和4204延伸的部分,并且驱动线圈510可以包括沿着驱动磁体520的极性边界线5202和5204延伸的部分。例如,缠绕成具有大体上矩形形状的驱动线圈410和510的第一延伸部可分别沿着第一极性边界线4202和5202形成,驱动线圈410和510的第二延伸部可分别沿着第一极性形成区域的上边缘形成,驱动线圈410和510的第三延伸部可分别沿着第二极性边界线4204和5204形成,并且驱动线圈410和510的第四延伸部可分别沿着第一极性形成区域的下边缘形成。驱动线圈410和510可分别与驱动磁体420和520具有预定的尺寸关系。例如,驱动线圈410和510中的每个的长度Lc可小于相应的驱动磁体420和520的长度Lm。可选地,驱动线圈410和510中的每个的高度hc可大于相应的驱动磁体420和520的高度hm。

由于驱动组件400可具有驱动线圈410和驱动磁体420之间产生的磁场可通过驱动磁体420恢复的结构,并且驱动组件500可具有驱动线圈510和驱动磁体520之间产生的磁场可通过驱动磁体520恢复的结构,因此可以有效地减小对与驱动组件400和500相邻的一个或多个其它驱动组件的磁场影响或者对与相机模块10相邻的一个或多个其它电子部件的磁场影响。

图3示出了根据实施方式的作为驱动组件400和500的变型形式的驱动组件400-1和500-1。

参考图3,驱动组件400-1和500-1可以各自具有多个驱动线圈与驱动磁体相对的形式。例如,驱动磁体420-1可以设置为与两个(2个)驱动线圈412和414相对,并且驱动磁体520-1可以设置为与两个(2个)驱动线圈512和514相对。

驱动磁体420-1和520-1可以分别配置为具有四个(4个)或更多个极性。例如,驱动磁体420-1和520-1可以分别配置为使得沿与光轴C相交的方向顺序地形成S极、N极、S极和N极。驱动磁体420-1可配置为使得形成三个(3个)或更多个极性边界线(例如,4202、4204和4206),并且驱动磁体520-1可以配置为使得形成三个(3个)或更多个极性边界线(例如,5202、5204和5206)。例如,驱动磁体420-1和520-1可以配置为使得沿与光轴C相交的方向间隔地形成相应的第一极性边界线4202和5202、相应的第二极性边界线4204和5204以及相应的第三极性边界线4206和5206。

驱动磁体420-1和520-1可以配置为使得分别形成在其中央部分中的极性形成区域的长度以及分别形成在其最外侧部分中的极性形成区域的长度不同。例如,分别形成在驱动磁体420-1和520-1的中央部分中的极性形成区域的长度Lmd可大于分别形成在驱动磁体420-1和520-1的最外侧部分中的极性形成区域的长度Lmt。作为另一示例,分别形成在驱动磁体420-1和520-1的中央部分中的极性形成区域的长度Lmd可等于或大于分别形成在驱动磁体420-1和520-1的最外侧部分中的极性形成区域的长度的总和Lmt+Lmt。

驱动线圈412和414可以布置为与在驱动磁体420-1的中央部分中形成的极性相对,并且驱动线圈512和514可以布置为与在驱动磁体520-1的中央部分中形成的极性相对。例如,驱动线圈412和414可以设置为分别与驱动磁体420-1的中央部分中形成的N极和S极相对,并且驱动线圈512和514可以设置为分别与在驱动磁体520-1的中央部分中形成的N极和S极相对。驱动线圈412和414可以包括沿着驱动磁体420-1的极性边界线4202和4206延伸的部分,并且驱动线圈512和514可以包括沿着驱动磁体520-1的极性边界线5202和5206延伸的部分。例如,驱动线圈412的一部分可以形成为沿着第一极性边界线4202延伸,并且驱动线圈414的一部分可以形成为沿着第三极性边界线4206延伸。例如,驱动线圈512的一部分可以形成为沿着第一极性边界线5202延伸,并且驱动线圈514的一部分可以形成为沿着第三极性边界线5206延伸。此外,驱动线圈412和414的另外的部分可以与第二极性边界线4204具有预定的分离距离,并且可以形成为平行于第二极性边界线4204延伸。同样,驱动线圈512和514的另外的部分可以与第二极性边界线5204具有预定的分离距离,并且可以形成为平行于第二极性边界线5204延伸。驱动线圈412、512、414和514可以与相应的驱动磁体420-1和520-1具有预定的尺寸关系。例如,驱动线圈412、512、414和514中的每个的长度Lc可小于相应的驱动磁体420-1和520-1的长度Lm。可选地,驱动线圈412、512、414和514中的每个的高度hc可大于相应的驱动磁体420-1和520-1的高度hm。

由于驱动组件400-1可具有驱动线圈412和414与形成有多个极性的驱动磁体420-1彼此相对的结构,并且驱动组件500-1具有驱动线圈512和514与形成有多个极性的驱动磁体520-1彼此相对的结构,因此可以通过强大的驱动力来校正透镜模块200的位置。

图4和图5示出了根据实施方式的相机模块10-1的配置。

相机模块10-1可以安装在如上述实施方式中的便携式电子产品中。例如,相机模块10-1可以安装在移动电话、笔记本电脑等上。相机模块10-1的应用不限于上述电子产品。例如,相机模块10-1可以安装在自动柜员机(ATM)、交互式广播电视等中。

如图4和图5中所示,相机模块10-1可以包括例如壳体100、透镜镜筒160、透镜模块200、第一驱动组件300以及第二驱动组件400-2和500-2。相机模块10-1的配置不限于上述构件。例如,相机模块10-1可以进一步包括基板120、轭140、位置检测传感器610、620和630、第一球支承件640、第二球支承件650、第三球支承件660、盖构件700、缓冲构件830和屏蔽罩900。

壳体100可以形成为具有开放的上表面和下表面的立方体。例如,壳体100可以配置为大致的六面体形状。壳体100的三个(3个)侧表面可以被部分地切开。第一驱动组件300以及第二驱动组件400-2和500-2的驱动力可以通过被切开的侧表面传递到透镜模块200。壳体100的第一表面内侧可以形成有一对第一引导槽102。第一引导槽102可以形成为沿壳体100的高度方向伸长。第一球支承件640可以设置在第一引导槽102中。

透镜模块200可以设置在壳体100内侧。透镜模块200可以配置为在壳体100内沿光轴C(图1)的方向(Z轴方向)以及沿与光轴C相交的方向移动。透镜模块200可以包括多个构件。例如,透镜模块200可以包括第一框架210、第二框架220和第三框架230。

第一框架210可以形成为在垂直方向上开放,并且具有两个(2个)封闭的侧表面和两个(2个)开放的侧表面。第一框架210的第一表面上可以形成有一对第二引导槽212。第一球支承件640可以设置在第二引导槽212中。第一框架210可以设置在壳体100内侧。第一框架210可以配置为相对于壳体100沿光轴C的方向移动。例如,第一框架210可以与第一球支承件640点接触或线接触,以沿光轴C的方向移动。可以通过第一驱动组件300提供驱动第一框架210所需的驱动力。第一框架210的四个(4个)内拐角中的每个中可以形成有第一凹槽214。第一凹槽214可以具有伸长的形状。例如,第一凹槽214可以形成为沿与光轴C相交的第一方向伸长。第二球支承件650可以设置在第一凹槽214中。

第二框架220可以具有在垂直方向上开放的大体上的薄板形状。第二框架220可以设置在第一框架210上,并且可以配置为沿与光轴C相交的第一方向移动。例如,第二框架220可以通过设置在第一框架210和第二框架220之间的第二球支承件650而能够沿与光轴C相交的第一方向移动。可以通过第二驱动组件400-2提供驱动第二框架220所需的驱动力。第二框架220中可以形成有第二凹槽224和第三凹槽226。第二凹槽224可以形成在第二框架220的下部中,并且第三凹槽226可以形成在第二框架220的上部中。第二凹槽224可以形成为沿与光轴C相交的第一方向伸长。第二凹槽224可以与第一凹槽214一起形成用于容纳第二球支承件650的空间。第三凹槽226可以形成为沿与光轴C和第一方向相交的第二方向伸长。

第三框架230可以形成为在垂直方向上开放,并且具有预定的高度。第三框架230可以设置在第二框架220上,并且可以配置为沿与光轴C相交的第二方向移动。例如,第三框架230可以通过设置在第二框架220和第三框架230之间的第三球支承件660而能够沿与光轴C相交的第二方向移动。可以通过第二驱动组件500-2提供驱动第三框架230所需的驱动力。第三框架230的下部中可以形成有第四凹槽234。第四凹槽234可以形成为沿与光轴C相交的第二方向伸长。第四凹槽234可以与第三凹槽226一起形成用于容纳第三球支承件660的空间。

透镜镜筒160可以与第三框架230组合。透镜镜筒160可以通过透镜模块200沿光轴C的方向以及沿与光轴C相交的方向移动。例如,透镜镜筒160可以通过第一框架210沿光轴C的方向移动。作为另一示例,透镜镜筒160可以通过第二框架220和第三框架230沿与光轴C相交的第一方向和第二方向移动。透镜镜筒160沿光轴C的方向的移动可以使得能够对相机模块10-1进行焦点调节,并且透镜镜筒160沿与光轴C相交的方向的移动可以执行相机模块10-1的光学图像防抖(OIS)功能。

第一驱动组件300可以配置为沿光轴C的方向移动透镜模块200。例如,第一驱动组件300可以提供使第一框架210沿光轴C的方向移动所需的驱动力。第一驱动组件300可以包括第一驱动线圈310和第一驱动磁体320。第一驱动线圈310可以设置在壳体100的第一表面上,并且第一驱动磁体320可以设置在第一框架210的第一表面上。壳体100的第一表面和第一框架210的第一表面可以布置为彼此相对。

第二驱动组件400-2和500-2可以配置为沿与光轴C相交的第一方向和第二方向移动透镜模块200。例如,第二驱动组件400-2和500-2可以提供使第二框架220和第三框架230移动所需的驱动力。第二驱动组件400-2和500-2可以分别包括第二驱动线圈410和510,并且分别包括第二驱动磁体420-2和520-2。第二驱动线圈410和510可以分别布置在壳体100的第二表面和第三表面上,并且第二驱动磁体420-2和520-2可以分别布置在第三框架230的第二表面和第三表面上。作为参考,壳体100的第二表面可以是与第三框架230的第二表面相对的表面,并且壳体100的第三表面可以是与第三框架230的第三表面相对的表面。

相机模块10-1可以包括用于向驱动组件300、400-2和500-2提供电流的部件。例如,相机模块10-1可以包括基板120。基板120可以配置为提供驱动第一驱动组件300和第二驱动组件400-2和500-2所需的电流。例如,基板120可以向第一驱动线圈310以及第二驱动线圈410和510提供电流。基板120可以配置为提供布置第一驱动线圈310以及第二驱动线圈410和510的空间。例如,基板120可以设置为围绕壳体100的第一表面、第二表面和第三表面,以提供在壳体100中布置第一驱动线圈310以及第二驱动线圈410和510的空间。轭140可设置在基板120的一侧上。

相机模块10-1可以包括用于检测透镜模块200的位置的部件。例如,相机模块10-1可以包括第一位置检测传感器610、第二位置检测传感器620和第三位置检测传感器630。第一位置检测传感器610可以检测与透镜模块200沿光轴C的方向的移动对应的位移,并且第二位置检测传感器620和第三位置检测传感器630可以检测与透镜模块200沿与光轴C相交的相应方向的移动对应的位移。位置检测传感器610、620、和630可以是分别检测由驱动组件300、400-2和500-2产生的磁场的强度的霍尔传感器。位置检测传感器610、620和630不限于霍尔传感器。位置检测传感器610、620和630可以分别设置在分别被驱动线圈310、410和510围绕的空间中。例如,第一位置检测传感器610可以设置在第一驱动线圈310内侧,并且第二位置检测传感器620和第三位置检测传感器630可以分别设置在第二驱动线圈410和510内侧。

相机模块10-1可以包括用于将第一框架210接合到第三框架230的结构。例如,相机模块10-1可以包括配置为将第二框架220和第三框架230接合到第一框架210的盖构件700。在堆叠有第一框架210至第三框架230的状态下,盖构件700可以联接到第一框架210,以防止第二框架220和第三框架230从第一框架210释放。缓冲构件830可以形成在盖构件700中。例如,盖构件700的上部中可以形成有沿向上方向突出的多个缓冲构件830。缓冲构件830可以减小由于透镜模块200和屏蔽罩900之间的碰撞引起的冲击。

相机模块10-1可以包括用于屏蔽电磁波的结构。例如,相机模块10-1可以包括屏蔽罩900。屏蔽罩900可以形成为具有围绕壳体100、透镜模块200和盖构件700的形状。因此,可以通过屏蔽罩900阻挡在相机模块10-1的外部或内部产生的有害电磁波的侵入或发射。

将在以下参照图6和图7描述第二框架220和第三框架230的移动结构。

参照图6和图7,构成透镜模块200的第一框架210、第二框架220和第三框架230可以沿光轴的方向堆叠和联接。第一框架210可以配置为容纳第二框架220和第三框架230。例如,第二框架220和第三框架230可以配置为在容纳在第一框架210内侧的同时沿与光轴C相交的方向移动。

第二球支承件650和第三球支承件660可以布置在第一框架210至第三框架230之间。例如,第二球支承件650可以设置在第一框架210和第二框架220之间,并且第三球支承件660可以设置在第二框架220和第三框架230之间。

第一框架210至第三框架230中可形成有用于设置球支承件的空间。例如,第一凹槽214可形成在第一框架210的上部中,第二凹槽224和第三凹槽226可分别形成在第二框架220的上部和下部中,并且第四凹槽234可形成在第三框架230的下部中。

分别形成第二框架220和第三框架230的下部的凹槽224和234的长度可根据第二框架220和第三框架230的移动方向而不同地形成。例如,凹槽224沿第一方向的长度WY2可大于凹槽224沿第二方向的长度WX1,并且凹槽234沿第二方向的长度WX2可大于凹槽234沿第一方向的长度WY1。此外,凹槽224沿第一方向的长度WY2可大于凹槽226和234中的每个沿第一方向的长度WY1,并且凹槽234沿第二方向的长度WX2可大于凹槽214和224中的每个沿第二方向长度WX1。

由于第二框架220的凹槽224沿第一方向的长度可大于第一框架210的凹槽214沿第一方向的长度,因此第二框架220可以相对于第一框架210移动。此外,由于第三框架230的凹槽234沿第二方向的长度可大于第二框架220的凹槽226沿第二方向的长度,因此第三框架230可以相对于第二框架220移动。

接下来,将参照图8和图9对透镜模块200以及驱动组件300、400-2和500-2的布置进行描述。

参照图8和图9,驱动组件300、400-2和500-2可以顺序地设置在围绕透镜模块200的壳体100的第一表面至第三表面上。例如,第一驱动组件300可以设置在壳体100的第一表面和第一框架210的第一表面上,第二驱动组件400-2可设置在壳体100的第二表面和第三框架230的第二表面上,并且第二驱动组件500-2可设置在壳体100的第三表面和第三框架230的第三表面上。

透镜模块200可以通过驱动组件300、400-2和500-2沿光轴C的方向以及沿与光轴C相交的方向移动。例如,透镜模块200可以通过第一驱动组件300(例如,第一驱动线圈310和第一驱动磁体320)沿光轴C的方向移动。作为另一示例,透镜模块200的第二框架220和第三框架230中的一个或两个可以通过第二驱动组件400-2和500-2(例如,第二驱动线圈410、第二驱动磁体420-2、第二驱动线圈510和第二驱动磁体520-2)的合力而沿与光轴C相交的第一方向和第二方向移动。

相机模块10-1可以配置为使由驱动组件产生的磁力引起的磁场干扰最小化。例如,由于由本实施方式的驱动组件产生的磁场具有通过驱动线圈恢复的趋势,因此可以最小化对邻近驱动组件或邻近电子部件的磁场干扰和磁场影响。将参照图10A至图10C描述配置为使磁场干扰最小化的第二驱动组件400-2和500-2的结构。

参照图10A至图10C,第二驱动组件400-2的驱动磁体420-2可以包括驱动磁体构件422以及辅助磁体构件426和428。第二驱动组件500-2的驱动磁体520-2可以包括驱动磁体构件522以及辅助磁体构件526和528。

驱动线圈410可以配置为与驱动磁体构件422以及辅助磁体构件426和428相对。驱动线圈510可以配置为与驱动磁体构件522以及辅助磁体构件526和528相对。驱动线圈410和510可以大体上分别配置为允许电流沿着驱动磁体构件422与辅助磁体构件426和428中的每个之间的边界以及沿着驱动磁体构件522与辅助磁体构件526和528中的每个之间的边界流动。

辅助磁体构件426和428可以设置在驱动磁体构件422的相对侧上,并且辅助磁体构件526和528可以设置在驱动磁体构件522的相对侧上。例如,辅助磁体构件426、驱动磁体构件422和辅助磁体构件428可以沿与光轴C相交的第一方向或第二方向顺序地布置。类似地,例如,辅助磁体构件526、驱动磁体构件522和辅助磁体构件528可以沿与光轴C相交的第一方向或第二方向顺序地布置。如图10A至图10C中所示,辅助磁体构件426和428可以布置为沿第一方向具有与驱动磁体构件422的极性不同的极性,并且辅助磁体构件526和528可以布置为沿第一方向具有与驱动磁体构件522的极性不同的极性。例如,如图10A至图10C中所示,辅助磁体构件426的一个表面的极性、驱动磁体构件422的一个表面的极性和辅助磁体构件428的一个表面的极性可以分别为N极、S极和N极。类似地,辅助磁体构件526的一个表面的极性、驱动磁体构件522的一个表面的极性和辅助磁体构件528的一个表面的极性可以分别为N极、S极和N极。驱动磁体构件422和522以及辅助磁体构件426、428、526和528可以沿第一方向相交的方向具有多个极性。例如,如图10B和图10C中所示,驱动磁体构件422和522的第一极性和第二极性以及辅助磁体构件426、428、526和528的第一极性和第二极性可沿与第一方向相交的方向(沿与相应的驱动线圈410和510相对的方向)形成。辅助磁体构件426、428、526和528可以与相应的驱动磁体构件422和522具有预定的尺寸关系。例如,辅助磁体构件426、428、526和528中的每个沿第一方向的长度Lm2可小于相应的驱动磁体构件422和522沿第一方向的长度Lm1。

辅助磁体构件426、428、526和528可以与相应的驱动磁体构件422和522一体形成。例如,如图10A和图10B中所示,辅助磁体构件426、428、526和528以及驱动磁体构件422和522可以通过在单个磁性主体中形成一个或多个极性的一系列过程而形成。可选地,如图10C中所示,辅助磁体构件426、428、526和528可以设置在距相应的驱动磁体构件422和522预定距离处。例如,辅助磁体构件426、428、526和528与相应的驱动磁体构件422和522之间可以形成物理间隙,或者可以形成基本上不具有极性的中性区域。

驱动线圈410和510可与相应的驱动磁体构件422和522以及相应的辅助磁体构件426、428、526和528具有预定的尺寸关系。例如,驱动线圈410和510中的每个沿第一方向的长度Lc1可大于相应的驱动磁体构件422和522沿第一方向的长度Lm1以及相应的辅助磁体构件426、428、526和528中的每个沿第一方向的长度Lm2。作为另一示例,驱动线圈410和510中的每个的长度Lc1可以是沿第一方向布置的相应驱动磁体构件422和522的长度以及相应辅助磁体构件426、428、526和528的长度的总和(即,Lm2+Lm1+Lm2)。作为另一示例,驱动线圈410和510的中的每个的外周表面的高度hc可大于相应的驱动磁体构件422和522以及相应的辅助磁体构件426、428、526和528的高度hm。作为另一示例,驱动线圈410和510中的每个的内周表面的高度hch可小于相应的驱动磁体构件422和522以及相应的辅助磁体构件426、428、526和528的高度hm。由于如上所述那样配置的驱动线圈410和510可配置为允许电流沿着驱动磁体构件422和522中的每个与辅助磁体构件426、428、526和528中的每个之间的边界以及驱动磁体构件422和522的每个的边缘流动,因此可形成磁场以沿与驱动磁体构件422和522相对的方向提供吸引力和排斥力。

如上所述那样配置的第二驱动组件400-2和500-2可配置为使得由相应的驱动线圈410和510、相应的驱动磁体构件422和522以及相应的辅助磁体构件426、428、526和528产生的磁场集中在驱动线圈410和510的绕组的中央部分上。因此,相机模块10-1可以使可能由第二驱动组件400-2和500-2引起的磁场干扰最小化。

图11A至图11C示出了根据实施方式的作为驱动组件400-2和500-2的变型形式的第二驱动组件400-3和500-3。

参照图11A至图11C,第二驱动组件400-3可以包括驱动线圈412和414、驱动磁体构件422和424以及辅助磁体构件426和428。第二驱动组件500-3可以包括驱动线圈512和514、驱动磁体构件522和524以及辅助磁体构件526和528。

驱动线圈412和414可以配置为分别与驱动磁体构件422和424相对以及分别与辅助磁体构件426和428相对。驱动线圈512和514可以配置为分别与驱动磁体构件522和524相对以及分别与辅助磁体构件526和528相对。驱动线圈412和414可以大体上配置为允许电流沿着驱动磁体构件422和424中的每个的边界流动。驱动线圈512和514可以大体上配置为允许电流沿着驱动磁体构件522和524的中的每个的边界流动。

驱动磁体构件422和424可以沿第一方向顺序地布置。驱动磁体构件522和524可以沿第一方向顺序地布置。辅助磁体构件426和428可以分别设置在驱动磁体构件422和424的一侧上。辅助磁体构件526和528可以分别设置在驱动磁体构件522和524的一侧上。

例如,如图11B中所示,辅助磁体构件426、驱动磁体构件422、驱动磁体构件424、辅助磁体构件428可以沿第一方向连续布置。例如,如图11B中所示,辅助磁体构件526、驱动磁体构件522、驱动磁体构件524以及辅助磁体构件528可以沿第一方向连续布置。

辅助磁体构件426、428、526和528可以沿第一方向布置为分别与驱动磁体构件422、424、522和524具有不同的极性。例如,如图11A至图11C中所示,辅助磁体构件426的一个表面的极性、驱动磁体构件422的一个表面的极性、驱动磁体构件424的一个表面的极性以及辅助磁体构件428的一个表面的极性可以分别是S极、N极、S极和N极。例如,辅助磁体构件526的一个表面的极性、驱动磁体构件522的一个表面的极性、驱动磁体构件524的一个表面的极性以及辅助磁体构件528的一个表面的极性可以分别是S极、N极、S极和N极。驱动磁体构件422、424、522和524以及辅助磁体构件426、428、526和528可以沿与第一方向相交的方向具有多个极性。例如,如图11B和图11C中所示,驱动磁体构件422、424、522和524的第一极性和第二极性以及辅助磁体构件426、428、526和528的第一极性和第二极性可以分别沿与第一方向相交的方向(沿与相应的驱动线圈412、414、512和514相对的方向)形成。辅助磁体构件426、428、526和528可以分别与驱动磁体构件422、424、522和524具有预定的尺寸关系。例如,辅助磁体构件426、428、526和528中的每个沿第一方向的长度Lm2可以小于相应的驱动磁体构件422、424、522和524沿第一方向的长度Lm1。

驱动线圈412、414、512和514可以分别与驱动磁体构件422、424、522和524以及分别与辅助磁体构件426、428、526和528具有预定的尺寸关系。例如,驱动线圈412、414、512和514中的每个沿第一方向的长度Lc1可大于相应的驱动磁体构件422、424、522和524沿第一方向的长度Lm1以及相应的辅助磁体构件426、428、526和528沿第一方向的长度Lm2。作为另一示例,驱动线圈412、414、512和514中的每个的外周表面的高度hc可大于相应的驱动磁体构件422、424、522和524以及相应的辅助磁体构件426、428、526和528的高度hm。作为另一示例,驱动线圈412、414、512和514中的每个的内周表面的高度hch可小于相应的驱动磁体构件422、424、522和524以及相应的辅助磁体构件426、428、526和528的高度hm。由于如上所述那样配置的驱动线圈412、414、512和514可配置为允许电流沿着相应的驱动磁体构件422、424、522和524中的每个与相应的辅助磁体构件426、428、526和528中的每个之间的边界以及驱动磁体构件422、424、522和524中的每个的边缘流动,因此可以形成磁场以沿与驱动磁体构件422、424、522和524相对的方向提供吸引力和排斥力。

由于由驱动线圈412、414、512和514、相应的驱动磁体构件422、424、522和524以及相应的辅助磁体构件426、428、526和528产生的磁场可通过相应邻近的驱动磁体构件422和522以及辅助磁体构件426和526恢复,因此如上所述那样配置的第二驱动组件400-3和500-3可以最小化对邻近电子元件或电子设备的磁场干扰。

如图12中所示,相机模块10可以安装在便携式终端20中。除了相机模块10之外,便携式终端20还可以包括其它相机模块12和14。相机模块10、12和14可以沿一方向相邻地布置。相机模块12和14中的一个或多个可以包括用于焦点调节功能或光学图像防抖(OIS)功能的驱动组件。驱动组件可以设置为包括磁体和线圈。因此,相机模块10、12、14可能对邻近的相机模块造成磁场干扰。由于相机模块10可以包括如上所述的能够最小化磁场干扰的驱动组件,因此可以实现相机模块12和14的精确焦点调节功能或精确光学图像防抖(OIS)功能。此外,由于相机模块10可以设置在相机模块12和14之间以抑制相机模块12和相机模块14之间的磁场干扰,因此可以实现相机模块10、12和14更紧凑的布置。虽然以上描述是针对相机模块10,但相机模块10-1也可在便携式终端20中实现。

图13示出了根据实施方式的相机模块10-2。

相机模块10-2可以包括例如壳体100、透镜镜筒160、透镜模块200、第一驱动组件300以及第二驱动组件400-4和500-4。相机模块10-2的配置不限于上述构件。例如,相机模块10-2可以进一步包括基板120、轭140、第一位置检测传感器610、第二位置检测传感器620、第三位置检测传感器630、第一球支承件640、第二球支承件650、第三球支承件660、盖构件700、缓冲构件830以及屏蔽罩900。

壳体100可以形成为具有开放的上表面和下表面的立方体。例如,壳体100可以配置为大致的六面体形状。壳体100的三个(3个)侧表面可以被部分地切开。第一驱动组件300以及第二驱动组件400-4和500-4的驱动力可以通过被切开的侧表面传递到透镜模块200。壳体100的第一表面内侧可以形成有一对第一引导槽102。第一引导槽102可以形成为沿壳体100的高度方向伸长。第一球支承件640可以设置在第一引导槽102中。

透镜模块200可以设置在壳体100内侧。透镜模块200可以配置为在壳体100内沿光轴C的方向以及沿与光轴C相交的方向移动。透镜模块200可以包括多个构件。例如,透镜模块200可以包括第一框架210、第二框架220和第三框架230。

第一框架210可以形成为在垂直方向上开放,并且具有两个(2个)封闭的侧表面和两个(2个)开放的侧表面。第一框架210的第一表面上可以形成有一对第二引导槽212。第一球支承件640可以设置在第二引导槽212中。第一框架210可以设置在壳体100内侧。第一框架210可以配置为相对于壳体100沿光轴C(图1)的方向移动。例如,第一框架210可以与第一球支承件640点接触或线接触,以沿光轴C的方向移动。可以通过第一驱动组件300提供驱动第一框架210所需的驱动力。第一凹槽214可以形成在第一框架210的四个(4个)内拐角中的每个中。第一凹槽214可以具有伸长的形状。例如,第一凹槽214可以形成为沿与光轴C相交的第一方向伸长。第二球支承件650可以设置在第一凹槽214中。

第二框架220可以具有在垂直方向上开放的大体上的薄板形状。第二框架220可以设置在第一框架210上,并且可以配置为沿与光轴C相交的第一方向移动。例如,第二框架220可通过设置在第一框架210和第二框架220之间的第二球支承件650而能够沿与光轴C相交的第一方向移动。可以通过第二驱动组件400-4提供驱动第二框架220所需的驱动力。第二凹槽224和第三凹槽226可以形成在第二框架220中。第二凹槽224可以形成在第二框架220的下部中,并且第三凹槽226可以形成在第二框架220的上部中。第二凹槽224可以形成为沿与光轴C相交的第一方向伸长。第二凹槽224可以与第一凹槽214一起形成用于容纳第二球支承件650的空间。第三凹槽226可以形成为沿与光轴C和第一方向相交的第二方向伸长,该第一方向与光轴C相交。

第三框架230可以形成为在垂直方向上开放,并且具有预定的高度。第三框架230可以设置在第二框架220上,并且可以配置为沿与光轴C相交的第二方向移动。例如,第三框架230可通过设置在第二框架220和第三框架230之间的第三球支承件660而能够沿与光轴C相交的第二方向移动。可以通过第二驱动组件500-4提供驱动第三框架230所需的驱动力。第四凹槽234可以形成在第三框架230的下部中。第四凹槽234可以形成为沿与光轴C相交的第二方向伸长。第四凹槽234可以与第三凹槽226一起形成用于容纳第三球支承件660的空间。

透镜镜筒160可以与第三框架230组合。透镜镜筒160可以通过透镜模块200沿光轴C的方向以及沿与光轴C相交的方向移动。例如,透镜镜筒160可以通过第一框架210沿光轴C的方向移动。作为另一示例,透镜镜筒160可以通过第二框架220和第三框架230沿与光轴C相交的第一方向和第二方向移动。透镜镜筒160沿光轴C的方向的移动可以使得能够对相机模块10-1进行焦点调节,并且透镜镜筒160沿与光轴C相交的方向的移动可以执行相机模块10-1的光学图像防抖(OIS)功能。

第一驱动组件300可以配置为沿光轴C的方向移动透镜模块200。例如,第一驱动组件300可以提供使第一框架210沿光轴C的方向移动所需的驱动力。第一驱动组件300可以包括第一驱动线圈310和第一驱动磁体320。第一驱动线圈310可以设置在壳体100的第一表面上,并且第一驱动磁体320可以设置在第一框架210的第一表面上。壳体100的第一表面和第一框架210的第一表面可以布置为彼此相对。

第二驱动组件400-4和500-4可以配置为沿与光轴C相交的第一方向和第二方向移动透镜模块200。例如,第二驱动组件400-4和500-4可以提供使第二框架220和第三框架230移动所需的驱动力。第二驱动组件400-4可以包括第二驱动线圈412和414以及第二驱动磁体420-4。第二驱动组件500-4可以包括第二驱动线圈512和514以及第二驱动磁体520-4。第二驱动线圈412和414可以布置在壳体100的第二表面上,并且第二驱动线圈512和514可以布置在壳体100的第三表面上。第二驱动磁体420-4可以布置在第三框架230的第二表面上,并且第二驱动磁体520-4可以布置在第三框架230的第三表面上。作为参考,壳体100的第二表面可以是与第三框架230的第二表面相对的表面,并且壳体100的第三表面可以是与第三框架230的第三表面相对的表面。

相机模块10-2可以包括用于向驱动组件300、400-4和500-4提供电流的部件。例如,相机模块10-2可以包括基板120。基板120可以配置为提供驱动第一驱动组件300以及第二驱动组件400-4和500-4所需的电流。例如,基板120可以向第一驱动线圈310以及第二驱动线圈412、414、512和514提供电流。基板120可以配置为提供布置第一驱动线圈310以及第二驱动线圈412、414、512和514的空间。例如,基板120可以设置为围绕壳体100的第一表面、第二表面和第三表面,以提供在壳体100中布置第一驱动线圈310以及第二驱动线圈412、414、512和514的空间。轭140可设置在基板120的一侧上。

相机模块10-2可以包括用于将第一框架210接合到第三框架230的结构。例如,相机模块10-2可以包括用于将第二框架220和第三框架230接合到第一框架210的盖构件700。在第一框架210至第三框架230堆叠的状态下,盖构件700可以联接到第一框架210,以防止第二框架220和第三框架230从第一框架210释放。缓冲构件830可以形成在盖构件700中。例如,盖构件700的上部中可形成有沿向上方向突出的多个缓冲构件830。缓冲构件830可以减小由透镜模块200和屏蔽罩900之间的碰撞引起的冲击。

相机模块10-2可以包括用于屏蔽电磁波的结构。例如,相机模块10-2可以包括屏蔽罩900。屏蔽罩900可以形成为具有围绕壳体100、透镜模块200和盖构件700的形状。因此,可以通过屏蔽罩900阻挡在相机模块10-2的外部或内部产生的有害电磁波的侵入或发射。

相机模块10-2可以包括第一位置检测传感器610、第二位置检测传感器620和第三位置检测传感器630。第一位置检测传感器610可以检测透镜模块200沿光轴C的方向移动的位移,并且第二位置检测传感器620和第三位置检测传感器630可以检测透镜模块200沿与光轴C相交的方向移动的位移。位置检测传感器610、620和630可以是分别检测由驱动组件300、400-4和500-4产生的磁场的强度的霍尔传感器。位置检测传感器610、620和630不限于霍尔传感器。位置检测传感器610、620和630可以分别设置在分别被驱动线圈310、412/414和512/514围绕的空间中。例如,第一位置检测传感器610可以设置在第一驱动线圈310内侧,第二位置检测传感器620可以设置在第二驱动线圈412或第二驱动线圈414内侧,并且第三位置检测传感器630可以设置在第二驱动线圈512或第二驱动线圈514内侧。

将参照图14A至图14C描述配置为使磁场干扰最小化的第二驱动组件400-4和500-4的结构。

参照图14A至14C,第二驱动组件400-4和500-4可以包括第二驱动线圈412、414、512和514,构成第二驱动磁体420-4的驱动磁体构件422和424以及构成第二驱动磁体520-4的驱动磁体构件522和524,使得第二驱动线圈412、414、512和514与驱动磁体构件422、424、522和524在数量上是一样的。第二驱动线圈412和414以及第二驱动线圈512和514可以沿第一方向分别并排地布置。驱动磁体构件422和424以及驱动磁体构件522和524可以沿第一方向分别并排地布置。例如,第二驱动线圈412和512可以布置为分别与驱动磁体构件422和522相对,并且驱动线圈414和514可以布置为分别与驱动磁体构件424和524相对。

驱动线圈412、414、512和514可以大体上配置为允许电流沿着相应的驱动磁体构件422和522、424和524之间的边界以及相应的驱动磁体构件422和522、424和524的边缘流动。例如,驱动线圈412和512可以布置为使电流沿着相应的驱动磁体构件422和522的边缘以及相应的驱动磁体构件422和522与相应的驱动磁体构件424和524之间的边界流动,并且驱动线圈414和514可以布置为使电流沿着相应的驱动磁体构件422和522与相应的驱动磁体构件424和524之间的边界以及沿着相应的驱动磁体构件424和524的边缘流动。驱动线圈412和512可以分别与驱动线圈414和514间隔地设置。例如,驱动线圈412和512以及驱动线圈414和514可以基于相应的驱动磁体构件422和522与相应的驱动磁体构件424和524之间的边界而间隔地布置。驱动线圈412、414、512和514可以配置为允许电流在相应的驱动磁体构件422和522与相应的驱动磁体构件424和524之间的边界处沿相同的方向流动。

驱动线圈412、414、512和514可以分别与驱动磁体构件422、424、522和524具有预定的尺寸关系。例如,驱动线圈412、414、512和514中的每个沿第一方向的长度Lc1可以分别大于相应的驱动磁体构件422、424、522和524沿第一方向的长度Lm1。作为另一示例,驱动线圈412、414、512和514中的每个的外周表面的高度hc可以分别大于相应的驱动磁体构件422、424、522和524的高度hm,并且驱动线圈412、414、512和514中的每个的内周表面的高度hch可以分别小于相应的驱动磁体构件422、424、522和524的高度hm。

根据本申请中所公开的实施方式的相机模块可以减小相机模块的驱动组件之间的磁场干扰以及相机模块的驱动组件与设置在相机模块周围的电子设备之间的磁场干扰。

虽然本公开包括具体示例,但是在理解本申请的公开内容之后将显而易见的是,在不背离权利要求及其等同方案的精神和范围的情况下,可对这些示例作出形式和细节上的各种改变。本申请中所描述的示例仅以描述性的意义进行理解,而不是出于限制的目的。对每个示例中的特征或方面的描述应被认为是可适用于其它示例中的相似的特征或方面。如果以不同的顺序执行所描述的技术,和/或如果以不同的方式组合所描述的系统、架构、设备或电路中的部件,和/或通过其它部件或它们的等同件来替换或补充所描述的系统、架构、设备或电路中的部件,则仍可实现适当的结果。此外,可以将相应的实施方式相互组合。例如,在上述实施方式中所公开的按压构件可以彼此组合在一个力感测设备中。因此,本公开的范围不由具体实施方式限定,而是由权利要求及其等同方案限定,并且在权利要求及其等同方案的范围之内的所有变型应被理解为包括在本公开中。

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06120116227071