分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置及方法

技术领域

本发明涉及静电消散技术领域，具体为分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置及方法。

背景技术

用于硅片分选的硅片自动分选机，其机械手臂对硅片边缘产生颗粒污染，在经过存储或运输后，聚集在硅片边缘的颗粒扩散到硅片表面，进而对硅片表面造成颗粒污染，影响硅片品质，需要消除硅片上的颗粒污染。

现有的分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置及方法，通常利用喷头向硅片表面喷淋SC1溶液，来清洁去除硅片上的静电颗粒，而喷头是大范围喷洒SC1溶液，容易造成溶液浪费，无法根据硅片上的颗粒发散位置，灵活调节喷洒的范围，并且不容易清洁去除硅片侧边上的静电颗粒，因此，有必要提供分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置及方法解决上述技术问题。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供了分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置及方法，解决了通常利用喷头向硅片表面喷淋SC1溶液，来清洁去除硅片上的静电颗粒，而喷头是大范围喷洒SC1溶液，容易造成溶液浪费，无法根据硅片上的颗粒发散位置，灵活调节喷洒的范围，并且不容易清洁去除硅片侧边上的静电颗粒的问题。

为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置，包括支撑座，所述支撑座的顶部左侧固定设置有工作筒，所述工作筒的内腔底部固定设置有用于盛放废液的集液盒，所述工作筒的内腔顶部中间转动设置有承载轴，所述承载轴的外壁中部一圈均匀固定设置有若干用于放置分类机机械臂污染硅片的硅片放置机构，所述承载轴的外壁上部一圈均匀固定设置有若干用于喷洒SC1溶液的喷头机构，所述承载轴的上部内腔开设有通腔，所述支撑座的底部左侧固定设置有伺服电机，所述集液盒的左侧固定连通有贯穿工作筒左壁的排液管，所述排液管的左部固定设置有电磁阀，所述支撑座的顶部右侧固定设置有用于装载SC1溶液的储液桶，所述工作筒的顶部固定设置有泵体，所述泵体的抽液端与储液桶之间通过弯管固定连通，所述工作筒的前端设置有密封门。

优选的，所述伺服电机的输出轴贯穿工作筒的底部且与转动连接在工作筒内腔底部的承载轴固定连接，所述泵体的排液端贯穿工作筒的顶部且与通腔相连通。

优选的，所述硅片放置机构包括放置圆座，所述放置圆座与承载轴之间通过第一支管固定连接，所述放置圆座的内部开设有环形腔，所述环形腔的内壁一圈均匀开设有若干喷液口，所述放置圆座的底部均匀开设有若干漏液孔。

优选的，所述放置圆座的底部中间贯穿有T型杆，所述T型杆的顶部固定设置有顶块，所述T型杆的外部套设有弹簧，所述弹簧固定连接在放置圆座的底部与T型杆的底部之间。

优选的，所述喷头机构包括外壳，所述外壳与承载轴之间通过第二支管固定连接，所述外壳的底部均匀开设有若干第一喷口，所述外壳的内部转动设置有衔接圆盘，所述衔接圆盘的中部开设有第一空腔，所述衔接圆盘的内部且位于第一空腔的外侧一圈开设有第二空腔，所述衔接圆盘的内部且位于第二空腔的外侧一圈开设有第三空腔，所述衔接圆盘的底部均匀开设有若干第二喷口。

优选的，所述衔接圆盘远离承载轴的一端固定设置有贯穿外壳侧壁的拨杆，所述第三空腔靠近承载轴的一侧开设有汇通口，所述第一空腔与第三空腔的外壁之间固定贯穿有第一连管，所述第二空腔与第三空腔的外壁之间固定贯穿有第二连管。

本发明还提供了分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置的使用方法，具体方法包括以下步骤：

步骤一、打开密封门，将被分类机机械臂污染的硅片放在最前方放置圆座内，然后根据硅片上的颗粒发散位置，调节正上方喷头机构的喷洒范围，过程中转动拨杆，衔接圆盘随之旋转，使汇通口与第二支管相连通，则SC1溶液最终进入第三空腔内，通过第三空腔正下方的第二喷口以及第一喷口喷出，使第一连管与第二支管相连通，则SC1溶液最终进入第一空腔内，通过第一空腔正下方的第二喷口以及第一喷口喷出，使第二连管与第二支管相连通，则SC1溶液最终进入第二空腔内，通过第二空腔正下方的第二喷口以及第一喷口喷出，实现对喷头机构喷洒范围的调节；

步骤二、调节好后再启动伺服电机，带动承载轴、硅片放置机构以及喷头机构转动，将下一个硅片放置机构转动到最前方，然后使伺服电机暂停工作，向最前方的硅片放置机构内放置被分类机机械臂污染的硅片，同理再对硅片放置机构正上方的喷头机构进行喷洒范围的调节；

步骤三、当若干硅片放置机构内均放置好硅片，关闭密封门，启动泵体，将储液桶中的SC1溶液通过弯管抽吸进通腔内，通过各个第二喷口、第一喷口以及喷液口喷出，喷向硅片的上表面以及侧边，清洁去除硅片上表面以及侧边上的静电颗粒。

优选的，所述第一支管、环形腔以及通腔相连通，所述第二支管与通腔相连通。

有益效果

本发明提供了分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置及方法。

与现有技术相比具备以下有益效果：

1、分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置及方法，通过衔接圆盘、汇通口、第一连管以及第二连管之间的相互配合，能使不同的空腔与第二支管相连通，进而控制SC溶液从不同位置喷洒下来，根据硅片上的颗粒发散位置，灵活调节喷洒范围，避免喷头机构大范围喷洒造成SC溶液浪费。

2、分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置及方法，通过第一支管、环形腔以及喷液口之间的相互配合，便于清洁去除硅片侧边上的静电颗粒，结构简单但是功能性强。

3、分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置及方法，通过T型杆、顶块以及弹簧之间的相互配合，向上推动T型杆，就能将硅片顶起，方便将硅片从放置圆座中取出。

附图说明

图1为本发明的立体图；

图2为本发明工作筒的局部剖视图；

图3为本发明工作筒的全剖示意图；

图4为本发明硅片放置机构的剖视图；

图5为本发明喷头机构的剖视图；

图6为本发明喷头机构的俯视剖视图。

图中：1、支撑座；2、工作筒；3、集液盒；4、承载轴；5、硅片放置机构；51、放置圆座；52、第一支管；53、环形腔；54、喷液口；55、漏液孔；56、T型杆；57、顶块；58、弹簧；6、喷头机构；61、外壳；62、第二支管；63、第一喷口；64、衔接圆盘；65、第一空腔；66、第二空腔；67、第三空腔；68、第二喷口；69、拨杆；610、汇通口；611、第一连管；612、第二连管；7、通腔；8、伺服电机；9、排液管；10、电磁阀；11、储液桶；12、泵体；13、弯管；14、密封门。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明提供两种技术方案：

如图1-图4示出了第一种实施方式：分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置，包括支撑座1，支撑座1的顶部左侧固定设置有工作筒2，工作筒2的内腔底部固定设置有用于盛放废液的集液盒3，工作筒2的内腔顶部中间转动设置有承载轴4，承载轴4的外壁中部一圈均匀固定设置有若干用于放置分类机机械臂污染硅片的硅片放置机构5，承载轴4的外壁上部一圈均匀固定设置有若干用于喷洒SC1溶液的喷头机构6，承载轴4的上部内腔开设有通腔7，支撑座1的底部左侧固定设置有伺服电机8，集液盒3的左侧固定连通有贯穿工作筒2左壁的排液管9，排液管9的左部固定设置有电磁阀10，支撑座1的顶部右侧固定设置有用于装载SC1溶液的储液桶11，工作筒2的顶部固定设置有泵体12，泵体12的抽液端与储液桶11之间通过弯管13固定连通，工作筒2的前端设置有密封门14，伺服电机8的输出轴贯穿工作筒2的底部且与转动连接在工作筒2内腔底部的承载轴4固定连接，泵体12的排液端贯穿工作筒2的顶部且与通腔7相连通，硅片放置机构5包括放置圆座51，放置圆座51与承载轴4之间通过第一支管52固定连接，放置圆座51的内部开设有环形腔53，环形腔53的内壁一圈均匀开设有若干喷液口54，放置圆座51的底部均匀开设有若干漏液孔55，放置圆座51的底部中间贯穿有T型杆56，T型杆56的顶部固定设置有顶块57，T型杆56的外部套设有弹簧58，弹簧58固定连接在放置圆座51的底部与T型杆56的底部之间。

通过第一支管52、环形腔53以及喷液口54之间的相互配合，便于清洁去除硅片侧边上的静电颗粒，结构简单但是功能性强，通过T型杆56、顶块57以及弹簧58之间的相互配合，向上推动T型杆56，就能将硅片顶起，方便将硅片从放置圆座51中取出。

如图5-图6示出了第二种实施方式，与第一种实施方式的主要区别在于：分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置，喷头机构6包括外壳61，外壳61与承载轴4之间通过第二支管62固定连接，外壳61的底部均匀开设有若干第一喷口63，外壳61的内部转动设置有衔接圆盘64，衔接圆盘64的中部开设有第一空腔65，衔接圆盘64的内部且位于第一空腔65的外侧一圈开设有第二空腔66，衔接圆盘64的内部且位于第二空腔66的外侧一圈开设有第三空腔67，衔接圆盘64的底部均匀开设有若干第二喷口68，衔接圆盘64远离承载轴4的一端固定设置有贯穿外壳61侧壁的拨杆69，第三空腔67靠近承载轴4的一侧开设有汇通口610，第一空腔65与第三空腔67的外壁之间固定贯穿有第一连管611，第二空腔66与第三空腔67的外壁之间固定贯穿有第二连管612。

通过衔接圆盘64、汇通口610、第一连管611以及第二连管612之间的相互配合，能使不同的空腔与第二支管62相连通，进而控制SC1溶液从不同位置喷洒下来，根据硅片上的颗粒发散位置，灵活调节喷洒范围，避免喷头机构6大范围喷洒造成SC1溶液浪费。

本发明实施例还提供了分类机机械臂污染硅片表面颗粒的静电消散装置的使用方法，具体方法包括以下步骤：

步骤一、打开密封门14，将被分类机机械臂污染的硅片放在最前方放置圆座51内，然后根据硅片上的颗粒发散位置，调节正上方喷头机构6的喷洒范围，过程中转动拨杆69，衔接圆盘64随之旋转，使汇通口610与第二支管62相连通，则SC1溶液最终进入第三空腔67内，通过第三空腔67正下方的第二喷口68以及第一喷口63喷出，使第一连管611与第二支管62相连通，则SC1溶液最终进入第一空腔65内，通过第一空腔65正下方的第二喷口68以及第一喷口63喷出，使第二连管612与第二支管62相连通，则SC1溶液最终进入第二空腔66内，通过第二空腔66正下方的第二喷口68以及第一喷口63喷出，实现对喷头机构6喷洒范围的调节；

步骤二、调节好后再启动伺服电机8，带动承载轴4、硅片放置机构5以及喷头机构6转动，将下一个硅片放置机构5转动到最前方，然后使伺服电机8暂停工作，向最前方的硅片放置机构5内放置被分类机机械臂污染的硅片，同理再对硅片放置机构5正上方的喷头机构6进行喷洒范围的调节；

步骤三、当若干硅片放置机构5内均放置好硅片，关闭密封门14，启动泵体12，将储液桶11中的SC1溶液通过弯管13抽吸进通腔7内，通过各个第二喷口68、第一喷口63以及喷液口54喷出，喷向硅片的上表面以及侧边，清洁去除硅片上表面以及侧边上的静电颗粒。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。