一种纳米亚光原石超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法

技术领域

本发明涉及建筑陶瓷材料技术领域，尤其涉及一种纳米亚光原石超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法。

背景技术

亚光砖推崇无光污染的健康氛围、依照空间折射规律，将瓷砖反光控制在6～10°亚光水平，使空间光感明暗适中，为眼睛创造舒适的感光状态，规避疲劳隐患，因此给产品带来特殊的质感和特殊的艺术魅力而备受用户青睐。不同场景、不同人对光的强弱感受、认知和爱好不同。本申请旨在提出一种具有良好的6～10°亚光效果和综合性能的釉料。

现有技术1为中国专利文件CN111807704A，公开了一种应用于卫生陶瓷的亚光釉，包括以下重量份数的原料：钾长石25～27份、石英17～20份、氧化锌1～3份、白云石8～12份、硅灰石5～8份、高岭土5～8份、氧化铝6～8份、硅酸锆7～9份、熔块1～4份、碳酸钡6～9份、烧滑石5～9份和碳酸锂0.5～1.5份。所述釉浆的化学成分包括以下质量百分比的组分：50.0～58.0％SiO

然而，现有技术1只能解决亚光釉釉面平整度的问题，不能解决釉的耐磨和硬度问题。然而，亚光釉产品生产和使用过程中，易出现磨花、划痕和易脏等缺点。而且，对比文件1由于含有Li

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种纳米亚光原石超耐磨钻石釉，该钻石釉形成的釉层硬度高、耐磨性能好、防污性能好且具有良好亚光效果。

本发明所要解决的技术问题还在于，提供一种纳米亚光原石超耐磨钻石釉瓷砖及其制备方法，该瓷砖的硬度高、耐磨性能好、防污性能好、发色理想，具有良好的亚光效果和图案显真效果。

为达到上述技术效果，本发明提供了一种纳米亚光原石超耐磨钻石釉，包括下述以重量百分比计的化学组成：

SiO

所述钻石釉中共存纳米氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒，所述M代表钡、钙、镁、锶、锌中的任一种或其组合。

作为上述方案的改进，所述纳米氧化锆晶粒的粒径为400～1000纳米，所述硅酸锆晶粒的粒径为3～10微米，所述含锆硅酸M晶粒的粒径为5～20微米。

作为上述方案的改进，所述纳米氧化锆晶粒的粒径为550～850纳米，所述硅酸锆晶粒的粒径为4～8微米，所述含锆硅酸M晶粒的粒径为7～10微米。

作为上述方案的改进，所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的光泽度为6～10度。

作为上述方案的改进，所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉以重量份计的原料主要如下：含锆熔块80－95份、锆英粉0.1－10份、氧化锆0.1－10份、高岭土1－20份、助剂0.1－5份。

作为上述方案的改进，所述含锆熔块的化学组成包括：SiO

作为上述方案的改进，所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉在下述条件进行烧成：烧成周期为50～220分钟；最高烧成温度为1180℃～1210℃，最高烧成温度的保温时间为5～20分钟；

从最高烧成温度冷却至950℃～1050℃所需的时间为38～45分钟。

另一方面，本发明还提供一种纳米亚光原石超耐磨瓷砖，包括瓷砖坯体和设于瓷砖坯体上的钻石釉层，所述钻石釉层采用上述的纳米亚光原石超耐磨钻石釉制成。

作为上述方案的改进，所述钻石釉层的厚度为9～13微米。

作为上述方案的改进，所述瓷砖坯体以重量百分比计的化学组成包括：SiO

再一方面，本发明还提供一种纳米亚光原石超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法，包括：

A、制备纳米亚光原石超耐磨钻石釉的浆料；

B、在瓷砖坯体上，先施底釉，然后再施所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉，得到钻石釉层，干燥，入窑烧成。

作为上述方案的改进，步骤A包括：

将含锆熔块的原料混合均匀，加入熔块炉进行熔融成玻璃液，然后倒入水中进行淬冷，得含锆熔块；

按上述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的化学组成，将原料加入到球磨机中，进行球磨，得到釉浆；

将所述釉浆进行研磨，得到平均粒径控制≤1000纳米的纳米釉浆。

作为上述方案的改进，所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉以重量份计的原料主要如下：

含锆熔块80－95份、锆英粉0.1－10份、氧化锆0.1－10份、高岭土1－20份、助剂0.1－5份。

作为上述方案的改进，步骤B中，所述钻石釉层的厚度为9～13微米；

烧成周期为50～220分钟；

最高烧成温度为1180℃～1210℃，最高烧成温度的保温时间为5～20分钟；

从最高烧成温度冷却至950℃～1050℃所需的时间为38～45分钟。

实施本发明，具有如下有益效果：

一、本发明纳米亚光原石超耐磨钻石釉，其化学组成包括SiO

而且，本发明两价金属氧化物总量较大，增加了釉料的析晶倾向和析晶能力，熔块釉料中也加入了碳酸钡，由于钡的引入，进一步增加了釉料的析晶倾向和析晶能力。因此，本发明能使得上述钻石釉硬度高、耐磨性能好、防污性能好，并具有良好亚光效果。

进一步，本发明通过降低烧成温度，延长从最高烧成温度冷却至950℃～1050℃所需的时间，有助于保护氧化锆和硅酸锆晶核不容易被熔解，釉中析出的晶粒数目会更多，也有助于晶粒的长大。

二、本发明纳米亚光原石超耐磨瓷砖，包括瓷砖坯体和设于瓷砖坯体上的钻石釉层，钻石釉层采用上述的纳米亚光原石超耐磨钻石釉制成。钻石釉中共存纳米氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒，使得其形成的釉层很薄，可见光更容易透过，有利于釉层下面的图案层显真的呈现出来，发色效果好。

而且，本发明通过使釉中有足够数量高硬度的晶粒(氧化锆、硅酸锆、锆硅酸M)，并控制氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒的粒径大小，进而同时具备优异的硬度、耐磨性能和防污性能。

三、本发明纳米亚光原石超耐磨瓷砖的制备方法，工艺简单，成本可控，可实施性强，便于工业化推广应用。

附图说明

图1是本发明纳米亚光原石超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法的流程图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述。

本发明提供了一种纳米亚光原石超耐磨钻石釉，包括下述以重量百分比计的化学组成：SiO

优选的，纳米亚光原石超耐磨钻石釉包括下述以重量百分比计的化学组成：

SiO

更佳的，纳米亚光原石超耐磨钻石釉包括下述以重量百分比计的化学组成：SiO

本申请的SiO

另外，通过控制K

所述钻石釉中共存纳米氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒，所述M代表钡、钙、镁、锶、锌中的任一种或其组合。其中，氧化锆晶粒的粒径为纳米级别，硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒的粒径优选为微米级别。

本发明通过合理调整钻石釉的组成，以使氧化锆、硅酸锆晶粒和锆硅酸M晶粒在面釉中同时析出，并控制晶粒的异常生长长大，使釉中共存粒径为纳米级别的氧化锆晶粒、微米级别的硅酸锆晶粒和微米级别含锆硅酸M晶粒。上述不同粒径搭配的三种晶粒，使得其形成的釉层很薄，可见光更容易透过，有利于釉层下面的图案层显真的呈现出来，发色效果好。而且，本发明共存有足够数量高硬度的晶粒(氧化锆、硅酸锆、锆硅酸M)，并控制氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒的粒径大小，进而同时具备优异的硬度、耐磨性能和防污性能。

与柔光砖和亮光砖相比，亚光砖的光泽度为6～10度。本发明通过调整配方组成，增加了两价金属氧化物总量，增加了釉料的析晶倾向和析晶能力，熔块釉料中也加入了碳酸钡，由于钡的引入，进一步增加了釉料的析晶倾向和析晶能力，使得光泽度维持在一个较低的范围内，获得良好的亚光效果。

另外，还可以通过降低烧成温度，延长从最高烧成温度冷却至950℃～1050℃所需的时间，进一步增加釉的析晶能力，使得釉中析出的晶粒更多、晶粒更大，从而使得光泽度维持至6～10°。

需要说明的是，所述钻石釉中共存的纳米氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒，只要氧化锆晶粒的粒径为纳米级别，硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒的粒径为微米级别，即可基本同时满足亚光效果的钻石釉的硬度、耐磨性、防污性和发色性能的要求。纳米级别的氧化锆晶粒均匀分散于由微米级别的硅酸锆晶粒与微米级别的含锆硅酸M晶粒与基础釉所形成网络框架中。这样，含锆硅酸M晶粒增强了基础釉面，硅酸锆晶粒增强了锆硅酸M晶粒与基础釉面形成的釉面框架，纳米级别的氧化锆晶粒最终弥散增强增韧了微米级别的硅酸锆晶粒、含锆硅酸M晶粒与基础釉所形成网络框架釉层。这种逐级增强增韧机理，从而导致釉层硬度和耐磨性整体上得到显著提高。

进一步优选的，所述纳米氧化锆晶粒的粒径为400～1000纳米，所述硅酸锆晶粒的粒径为3～10微米，所述含锆硅酸M晶粒的粒径为5～20微米，可以使得釉层的硬度、耐磨性、防污性、发色性能都能达到理想的效果。

若氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒的尺寸太大，含锆硅酸M晶粒的粒径＞20μm，会容易降低釉层的光泽度，同时，耐磨性、防污性和发色性能都会变差。若氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒的尺寸太小，则光泽度会太高，且硬度也会变差。

更佳的，所述纳米氧化锆晶粒的粒径为550～850纳米，所述硅酸锆晶粒的粒径为4～8微米，所述含锆硅酸M晶粒的粒径为7～10微米，可以使得釉层的硬度、耐磨性、防污性、发色性能达到最为理想的效果。

优选的，所述钻石釉层的厚度为9～13微米，通过降低釉层厚度，补偿了因晶粒增加、粒径增加而导致的透明性的降低，有利于让釉层下面的图案层显真地展现出来。

进一步，所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉以重量份计的原料主要如下：含锆熔块80－95份、锆英粉0.1－10份、氧化锆0.1－10份、高岭土1－20份、助剂0.1－5份。

优选的，所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉以重量份计的原料主要如下：含锆熔块82－92份、锆英粉0.1－5份、氧化锆0.1－5份、高岭土5－15份、助剂0.1－5份。

更佳的，所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉以重量份计的原料主要如下：含锆熔块82－92份、锆英粉0.5－3份、氧化锆0.5－3份、高岭土5－15份、助剂0.1－3份。

其中，含锆熔块的ZrO

助剂选用减水剂、甲基纤维素中的一种或组合。

本发明提供锆的三大存在形态为含锆熔块、锆英粉和氧化锆，这三个形态中的锆所处的状态不同，其中，熔块中的锆处于离子状态，锆英粉中的锆处于锆英石晶粒的硅氧四面体晶格中，氧化锆中的锆处于与氧形成的锆氧面心立方点阵中。处于锆氧面心立方点阵中的锆，受周围环境(各元素成分及比例)和温度的影响，随时可能转换为单斜晶系、四方晶系和立方晶系。锆英粉中的锆相对稳定，熔块和氧化锆中的锆容易发生晶型转变或与周边的钙镁锌钡锶离子反应。

因此，本发明通过设计钻石釉的组成，并配合烧成工艺，以更好控制所析出晶粒的类型、含量及晶粒大小。优选的，本申请通过将烧成周期为50～220分钟，最高烧成温度为1180℃～1210℃，最高烧成温度的保温时间为5～20分钟；从最高烧成温度冷却至950℃～1050℃所需的时间为38～45分钟，实现了釉中共存粒径为550～850纳米氧化锆晶粒、4～8微米的硅酸锆晶粒和7～10微米含锆硅酸M晶粒。

在反应过程中，由于含锆熔块颗粒与外加的氧化锆和锆英砂是处于纳米级的混合状态，因此外加的氧化锆和锆英砂有充分的机会与熔块中的Ca、Mg、Zn、Ba、Sr反应，形成锆硅酸M。当熔块中的锆与外加的氧化锆相遇时，有机会析出氧化锆。外加的硅酸锆也有机会与熔块中析出的硅酸锆相遇而逐渐长大。因此，釉中共存氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒这三种晶粒。

作为含锆熔块其中一优选的实施方式，所述含锆熔块的组成包括：SiO

上述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的浆料的制备方法，包括：

(1)将含锆熔块的原料混合均匀，加入熔块炉进行熔融成玻璃液，然后倒入水中进行淬冷，得含锆熔块；

优选的，含锆熔块的原料选用石英、钾长石、钠长石、滑石、硅灰石、白云石、方解石、氧化锌、碳酸锶、碳酸钡、氧化铝、硅酸锆、氧化锆中的一种或多种。

优选的，熔块炉的熔融温度为1450～1650℃。

(2)按上述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的化学组成，将含锆熔块、锆英粉、氧化锆、高岭土、助剂加入到球磨机中，进行球磨，得到釉浆；

需要说明的是，含锆熔块、锆英粉、氧化锆、高岭土、助剂的加入量的选择范围，参照前文所述的纳米亚光原石超耐磨钻石釉的原料进行设定。

(3)将所述釉浆进行纳米研磨，得到平均粒径控制≤1000纳米的纳米釉浆。

优选的，将所述釉浆进行纳米研磨，得到平均粒径控制550～850纳米的纳米釉浆。

步骤(3)将釉浆进行纳米研磨，使得在反应过程中的含锆熔块颗粒与外加的氧化锆和锆英砂是处于纳米级的混合状态，因此，纳米亚光原石超耐磨钻石釉的浆料经烧成后，外加的氧化锆和锆英砂有充分的机会与熔块中的Ca、Mg、Zn、Ba、Sr反应，形成锆硅酸M。当熔块中的锆与外加的氧化锆相遇时，有机会析出氧化锆。外加的硅酸锆也有机会与熔块中析出的硅酸锆相遇而逐渐长大。因此，釉中共存氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒这三种晶粒。

另一方面，本发明还提供一种纳米亚光原石超耐磨瓷砖，包括瓷砖坯体和设于瓷砖坯体上的钻石釉层，所述钻石釉层采用上述的纳米亚光原石超耐磨钻石釉制成。其中，纳米亚光原石超耐磨钻石釉的技术细节同上所述，在此不再赘述。

由于钻石釉中共存纳米氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒，使得其形成的釉层很薄，可见光容易透过，可以补偿因晶粒增加、粒径增加而导致的透明性的降低，有利于釉层下面的图案层显真的呈现出来，发色效果好。而且，本发明通过使釉中有足够数量高硬度的晶粒(氧化锆、硅酸锆、锆硅酸M)，并控制氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒的粒径大小，进而同时具备优异的硬度、耐磨性能和防污性能。

优选的，所述钻石釉层的厚度为9～13微米，通过降低釉层厚度，补偿了因晶粒增加、粒径增加而导致的透明性的降低，有利于让釉层下面的图案层显真地展现出来。

一般来说，釉层中若含有较高含量的锆，将导致其有较高的折射率，进而形成乳浊遮盖层，影响瓷砖发色。但是，本发明通过控制钻石釉层的厚度，以及共存晶粒的粒径，可以避免形成乳浊遮盖层，确保发色效果。

需要说明的是，本发明的钻石釉能适用于多种配方的坯体，以及适用于多种配方的底釉。

再一方面，如图1所示，本发明还提供一种纳米亚光原石超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法，包括：

S101、制备纳米亚光原石超耐磨钻石釉；

优选的，步骤S101包括：

将含锆熔块的原料混合均匀，加入熔块炉进行熔融成玻璃液，然后倒入水中进行淬冷，得含锆熔块；

按权利要求上述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的化学组成，将原料加入到球磨机中，进行球磨，得到釉浆；

将所述釉浆进行研磨，得到平均粒径控制≤1000纳米的纳米釉浆。

其中，所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的原料选用含锆熔块、锆英粉、氧化锆、高岭土和助剂；

所述含锆熔块的原料选用碳酸钡、石英、钾长石、钠长石、滑石、硅灰石、白云石、方解石、氧化锌、碳酸锶、氧化铝、硅酸锆、氧化锆中的一种或多种。

优选的，步骤S101制得的纳米亚光原石超耐磨钻石釉，其包括下述以重量百分比计的化学组成：SiO

S102、在瓷砖坯体上，先施底釉，然后再施所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉，得到钻石釉层，干燥，入窑烧成。

步骤S102中，优选的，本申请通过将烧成周期为50～220分钟，最高烧成温度为1180℃～1210℃，最高烧成温度的保温时间为5～20分钟；从最高烧成温度冷却至950℃～1050℃所需的时间为38～45分钟，实现了釉中共存粒径为550～850纳米氧化锆晶粒、4～8微米的硅酸锆晶粒和7～10微米含锆硅酸M晶粒。

其中，最高烧成温度设为1180℃～1210℃，釉表现为正烧，坯釉正好适应。当烧成温度大于1210℃时，一方面坯体过烧膨胀引起坯釉不适应，坯体过烧所产生的气泡将引起釉面产生大量釉泡；同时釉中充当晶核的硅酸锆和氧化锆将会被熔解或部分熔解，导致上述晶粒难以析出而使得釉面硬度和耐磨性变差。当烧成温度小于1180℃时，一方面坯体生烧引起坯釉中间层难以形成；同时釉也会生烧，釉的生烧表现为釉中气泡没有完全排除、釉透明性变差等，从而影响釉面质量。

最高烧成温度冷却至950℃～1050℃需要38～45分钟，950℃～1050℃是该系统釉料中，氧化锆、硅酸锆和锆硅酸M三种晶粒共同成核和生长温度范围。当该温度范围时间小于38分钟时，氧化锆、硅酸锆和锆硅酸M三种晶粒成核少，最终这三种晶粒的数量容易过少。釉面硬度和耐磨难以达到理想值。而且，无法达到所需的亚光效果。当该温度范围时间大于45分钟时，氧化锆、硅酸锆和锆硅酸M三种晶粒成核容易过多，晶粒容易过大，釉面乳浊度增加、透明性下降。

更佳的，所述烧成周期为60～160分钟，最高烧成温度为1180℃～1200℃，最高烧成温度的保温时间10～20分钟；从最高烧成温度冷却至980℃～1020℃所需的时间为40～45分钟。

在反应过程中，由于含锆熔块颗粒与外加的氧化锆和锆英砂是处于纳米级的混合状态，因此外加的氧化锆和锆英砂有充分的机会与熔块中的Ca、Mg、Ba、Zn、Sr反应，形成锆硅酸M。当熔块中的锆与外加的氧化锆相遇时，有机会析出氧化锆。外加的硅酸锆也有机会与熔块中析出的硅酸锆相遇而逐渐长大。因此，釉中共存氧化锆晶粒、硅酸锆晶粒和含锆硅酸M晶粒这三种晶粒。

优选的，烧结形成的钻石釉层的厚度为9～13微米，通过降低釉层厚度，补偿了因晶粒增加、粒径增加而导致的透明性的降低，有利于让釉层下面的图案层显真地展现出来。

一般来说，釉层中若含有较高含量的锆，将导致其有较高的折射率，进而形成乳浊遮盖层，影响瓷砖发色。但是，本发明通过控制钻石釉层的厚度，以及共存晶粒的粒径，可以避免形成乳浊遮盖层，确保发色效果。

需要说明的是，本发明在坯体层上依次施底釉、喷墨打印图案、施纳米亚光原石超耐磨钻石釉之后，还可以进行再次的喷墨打印图案层，并再施面釉，形成面釉层。

步骤S102进行入窑烧成后，对烧成后的半成品进行磨边，得到纳米亚光原石超耐磨钻石釉瓷砖成品。

下面以具体实施例进一步阐述本发明

实施例1

A、制备纳米亚光原石超耐磨钻石釉，包括：

将含锆熔块的原料混合均匀，加入熔块炉进行熔融成玻璃液，然后倒入水中进行淬冷，得含锆熔块；

按上述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的化学组成，将含锆熔块89kg、高岭土10kg、锆英粉0.5kg、氧化锆0.5kg、减水剂0.5kg、甲基纤维素0.1kg加入到球磨机中，进行球磨，得到釉浆；

将所述釉浆进行纳米研磨，得到平均粒径控制为550～850纳米的纳米亚光原石超耐磨钻石釉；

B、在瓷砖坯体上，先施底釉，然后再施所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉，得到钻石釉层，干燥，入窑烧成。烧成的条件为：烧成周期65分钟，最高烧成温度为1210℃，最高烧成温度的保温时间6分钟；从最高烧成温度冷却至1050℃所需的时间为38分钟。

烧成后，纳米亚光原石超耐磨钻石釉包括下述以重量百分比计的化学组成：

SiO

釉浆中共存粒径为550～850纳米的氧化锆晶粒、粒径为4～8微米的硅酸锆晶粒和粒径为7～10微米的含锆硅酸M晶粒，所述M代表钡、钙、镁、锶、锌中的任一种或其组合。

实施例2

A、制备纳米亚光原石超耐磨钻石釉，包括：

将含锆熔块的原料混合均匀，加入熔块炉进行熔融成玻璃液，然后倒入水中进行淬冷，得含锆熔块；

按上述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的化学组成，将含锆熔块90.5kg、高岭土8kg、锆英粉0.5kg、氧化锆1kg、减水剂0.5kg、甲基纤维素0.1kg加入到球磨机中，进行球磨，得到釉浆；

将所述釉浆进行纳米研磨，得到平均粒径控制为550～850纳米的纳米亚光原石超耐磨钻石釉；

B、在瓷砖坯体上，先施底釉，然后再施所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉，得到钻石釉层，干燥，入窑烧成。烧成的条件为：烧成周期75分钟，最高烧成温度为1200℃，最高烧成温度的保温时间8分钟；从最高烧成温度冷却至1000℃所需的时间为40分钟。

烧成后，纳米亚光原石超耐磨钻石釉包括下述以重量百分比计的化学组成：

SiO

釉浆中共存粒径为550～850纳米的氧化锆晶粒、粒径为4～8微米的硅酸锆晶粒和粒径为7～10微米的含锆硅酸M晶粒，所述M代表钡、钙、镁、锶、锌中的任一种或其组合。

实施例3

A、制备纳米亚光原石超耐磨钻石釉，包括：

将含锆熔块的原料混合均匀，加入熔块炉进行熔融成玻璃液，然后倒入水中进行淬冷，得含锆熔块；

按上述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的化学组成，将含锆熔块91.5kg、高岭土7kg、锆英粉1kg、氧化锆0.5kg、减水剂0.5kg、甲基纤维素0.1kg加入到球磨机中，进行球磨，得到釉浆；

将所述釉浆进行纳米研磨，得到平均粒径控制为550～850纳米的纳米亚光原石超耐磨钻石釉；

B、在瓷砖坯体上，先施底釉，然后再施所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉，得到钻石釉层，干燥，入窑烧成。烧成的条件为：烧成周期78分钟，最高烧成温度为1205℃，最高烧成温度的保温时间10分钟；从最高烧成温度冷却至950℃所需的时间为45分钟。

纳米亚光原石超耐磨钻石釉包括下述以重量百分比计的化学组成：

SiO

釉浆中共存粒径为550～850纳米的氧化锆晶粒、粒径为4～8微米的硅酸锆晶粒和粒径为7～10微米的含锆硅酸M晶粒，所述M代表钡、钙、镁、锶、锌中的任一种或其组合。

实施例4

A、制备纳米亚光原石超耐磨钻石釉，包括：

将含锆熔块的原料混合均匀，加入熔块炉进行熔融成玻璃液，然后倒入水中进行淬冷，得含锆熔块；

按上述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的化学组成，将含锆熔块85kg、高岭土14kg、锆英粉0.5kg、氧化锆0.5kg、减水剂0.5kg、甲基纤维素0.1kg加入到球磨机中，进行球磨，得到釉浆；

将所述釉浆进行纳米研磨，得到平均粒径控制为550～850纳米的纳米亚光原石超耐磨钻石釉；

B、在瓷砖坯体上，先施底釉，然后再施所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉，得到钻石釉层，干燥，入窑烧成。烧成的条件为：烧成周期85分钟，最高烧成温度为1210℃，最高烧成温度的保温时间15分钟；从最高烧成温度冷却至980℃所需的时间为40分钟。

烧成后，纳米亚光原石超耐磨钻石釉包括下述以重量百分比计的化学组成：

SiO

釉浆中共存粒径为550～850纳米的氧化锆晶粒、粒径为4～8微米的硅酸锆晶粒和粒径为7～10微米的含锆硅酸M晶粒，所述M代表钡、钙、镁、锶、锌中的任一种或其组合。

实施例5

A、制备纳米亚光原石超耐磨钻石釉，包括：

将含锆熔块的原料混合均匀，加入熔块炉进行熔融成玻璃液，然后倒入水中进行淬冷，得含锆熔块；

按上述纳米亚光原石超耐磨钻石釉的化学组成，将含锆熔块84kg、高岭土14kg、锆英粉1kg、氧化锆1kg、减水剂0.5kg、甲基纤维素0.1kg加入到球磨机中，进行球磨，得到釉浆；

将所述釉浆进行纳米研磨，得到平均粒径控制为550～850纳米的纳米亚光原石超耐磨钻石釉；

B、将所述纳米亚光原石超耐磨钻石釉施于底釉上，厚度控制为10微米，干燥，入窑烧成。烧成的条件为：烧成周期120分钟，最高烧成温度为1190℃，最高烧成温度的保温时间15分钟；从最高烧成温度冷却至1000℃所需的时间为45分钟。

烧成后，纳米亚光原石超耐磨钻石釉包括下述以重量百分比计的化学组成：

SiO

釉浆中共存粒径为550～850纳米的氧化锆晶粒、粒径为4～8微米的硅酸锆晶粒和粒径为7～10微米的含锆硅酸M晶粒，所述M代表钡、钙、镁、锶、锌中的任一种或其组合。

将实施例1－5所述的瓷砖进行技术检测，结果如下：

由上可知，本发明实施例1-5的光泽度控制在6～10度内，获得良好的亚光效果；硬度高，莫氏硬度可达7～8；耐磨性能好，耐磨等级达到4级，9000～12000转；而且，防污性能好，采用蓝色油性记号笔，基本能达到9次不可见痕迹。

需要说明的是，耐磨性的检测依据为GB/T3810.7。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。