一种带进料装置的反应釜

技术领域

本发明涉及表面活性剂加工技术领域，尤其涉及一种带进料装置的反应釜。

背景技术

现有的表面活性剂加工过程中，将表面活性剂注入到反应釜中进行混合反应时，需要添加其它辅料的时候会通过进料装置进行辅助进料。现有技术中的进料装置结构相对比较简单，基本存在的缺陷是辅料落入到反应釜内的物料表面，很多时候由于搅拌不均匀导致添加的辅料一直停留在表面，从而影响反应釜搅拌的均匀度，鉴于这种情况，亟待解决。

发明内容

基于此，本发明的目的在于提供一种带进料装置的反应釜，促使添加的辅料能够被均匀混合。

本发明提供一种带进料装置的反应釜，包括反应釜本体，所述反应釜本体内下部设置有搅拌结构，所述反应釜本体的盖体上设置有进料口，所述反应釜本体内上部设置有进料装置；所述搅拌结构包括旋转电机A、旋转轴A、若干搅拌叶A，所述旋转电机A安装在所述反应釜本体的下表面，所述旋转轴A的一端与所述旋转电机A的动力输出端连接，所述旋转轴A的另一端延伸至所述反应釜本体内，各所述搅拌叶A分别周向阵列设置在所述旋转轴A的外侧面；所述进料装置包括升降电机、升降轴、旋转电机B、旋转轴B、旋转臂、推料电机、活塞推料杆、储料腔、辅料进料管；所述升降电机安装在所述反应釜本体的盖体上，所述升降轴的一端与所述升降电机的动力输出端连接，所述升降轴的另一端贯穿所述盖体并且延伸至所述反应釜本体内与所述旋转电机B连接，旋转轴B的一端与所述旋转电机B连接，所述旋转轴B的另一端与所述旋转臂的一侧连接；所述储料腔设置在所述旋转臂的下表面并且位于远离所述旋转轴B的一侧，所述推料电机安装在所述旋转臂的上表面并且位于所述储料腔的正上方，所述活塞推料杆的一端与所述推料电机的动力输出端连接，所述活塞推料杆的另一端贯穿所述旋转臂并且延伸至所述储料腔内，所述储料腔的底部设置有与所述储料腔内腔连通的滴管；所述辅料进料管的下部与所述储料腔连通，所述辅料进料管的上部贯穿所述旋转臂并且延伸至靠近所述升降轴的位置；所述盖体上开设有与所述辅料进料管对应的辅料进料口，所述辅料进料口处通过开关阀连接有辅料添料腔；所述旋转轴A和所述旋转轴B共轴心设置；所述旋转电机A和所述旋转电机B同步转动；处于起始状态时，所述旋转臂处于相邻两所述搅拌叶A之间的上方；当所述升降轴处于最长的伸出距离时，所述滴管浸没在反应釜本体内腔的物料中并且位于所述搅拌结构的上方；当所述升降轴处于最短的伸出距离时，所述辅料进料管的上部插入所述辅料进料口内。

作为优选方案，所述辅料进料管的上部外侧固定设置有限位凸环，所述限位凸环围绕所述辅料进料管套设有缓冲弹簧；当所述升降轴处于最短的伸出距离时，所述缓冲弹簧处于最大的压缩状态。

作为优选方案，所述旋转臂的下表面与所述旋转轴B共轴心设置有搅拌轴，所述搅拌轴的自由端的相对两侧连接有搅拌叶B。

作为优选方案，所述反应釜本体内腔壁并且位于所述搅拌结构的上方安装有水位传感器。

作为优选方案，所述搅拌叶A的自由端延其长度方向线性阵列设置有多个漏料孔。

作为优选方案，处于最底部的搅拌叶A的下表面均线性阵列设置有多个防沉淀刮锥。

本发明的有益效果为：

1、反应釜本体内上部设置有进料装置，当升降轴处于最长的伸出距离时，滴管浸没在反应釜本体内腔的物料中，添加的辅料可以通过滴管直接滴入到反应釜内的物料内，避免添加的辅料落入到反应釜内的物料表面而导致搅拌不均匀的情况；

2、设置辅料进料管，可以不打开盖体就对储料腔进行补料动作，操作简便；

3、辅料进料管的上部外侧固定设置有限位凸环，限位凸环围绕所述辅料进料管套设有缓冲弹簧，当升降轴处于最短的伸出距离时，缓冲弹簧处于最大的压缩状态，避免辅料进料管的顶部伸出盖体外将开关阀顶起。

附图说明

图1为本发明的立体视图。

图2为本发明的剖面视图。

图3为进料装置的立体视图。

附图标记为：反应釜本体10、旋转电机A11、升降电机12、进料口13、辅料添料腔14、旋转电机B15、旋转轴B16、旋转臂17、搅拌轴18、搅拌叶B19、旋转轴A20、若干搅拌叶A21、辅料进料口22、缓冲弹簧23、漏料孔24、盖体25、限位凸环26、滴管27、推料电机28、活塞推料杆29、储料腔31、辅料进料管32、升降轴30、水位传感器33、开关阀34、防沉淀刮锥35。

具体实施方式

为能进一步了解本发明的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，下面结合具体实施方式和附图对本发明作进一步详细描述。

本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

请参照图1-3所示，本发明提供一种带进料装置的反应釜，包括反应釜本体10，反应釜本体10内下部设置有搅拌结构，反应釜本体10的盖体25上设置有进料口13，反应釜本体10内上部设置有进料装置。反应釜本体10的底部设置有出料口。

搅拌结构包括旋转电机A11、旋转轴A20、若干搅拌叶A21，旋转电机A11安装在反应釜本体10的下表面，旋转轴A20的一端与旋转电机A11的动力输出端连接，旋转轴A20的另一端延伸至反应釜本体10内，各搅拌叶A21分别周向阵列设置在旋转轴A20的外侧面。实际操作时，旋转电机A11促使旋转轴A20带动若干搅拌叶A21实现旋转搅拌动作。

进料装置包括升降电机12、升降轴30、旋转电机B15、旋转轴B16、旋转臂17、推料电机28、活塞推料杆29、储料腔31、辅料进料管32；升降电机12安装在反应釜本体10的盖体25上，升降轴30的一端与升降电机12的动力输出端连接，升降轴30的另一端贯穿盖体25并且延伸至反应釜本体10内与旋转电机B15连接，旋转轴B16的一端与旋转电机B15连接，旋转轴B16的另一端与旋转臂17的一侧连接。储料腔31设置在旋转臂17的下表面并且位于远离旋转轴B16的一侧，推料电机28安装在旋转臂17的上表面并且位于储料腔31的正上方，活塞推料杆29的一端与推料电机28的动力输出端连接，活塞推料杆29的另一端贯穿旋转臂17并且延伸至储料腔31内，储料腔31的底部设置有与储料腔31内腔连通的滴管27。辅料进料管32的下部与储料腔31连通，辅料进料管32的上部贯穿旋转臂17并且延伸至靠近升降轴30的位置；盖体25上开设有与辅料进料管32对应的辅料进料口22，辅料进料口22处通过开关阀34连接有辅料添料腔14；旋转轴A20和旋转轴B16共轴心设置；旋转电机A11和旋转电机B15同步转动；处于起始状态时，旋转臂17处于相邻两搅拌叶A21之间的上方；当升降轴30处于最长的伸出距离时，滴管27浸没在反应釜本体10内腔的物料中并且位于搅拌结构的上方；当升降轴30处于最短的伸出距离时，辅料进料管32的上部插入辅料进料口22内。

当需要添加辅料时，升降电机12促使升降轴30带动旋转电机B15、旋转轴B16、旋转臂17、推料电机28、活塞推料杆29、储料腔31、辅料进料管32同步下降至既定距离后停止，滴管27浸没到物料中，旋转电机B15通过旋转轴B16带动旋转臂17、推料电机28、活塞推料杆29、储料腔31、辅料进料管32进行旋转动作，在旋转臂17旋转的过程中，推料电机28促使活塞推料杆29在储料腔31内下移从而将储料腔31内的辅料下压至滴管27，在从滴管27落入到物料中，通过这样的方式，一方面，辅料可以直接落入到物料内部，不会停留在物料的表面，另一方面，滴管27在出料的过程中是处于旋转状态，搅拌结构处于与旋转电机B15同步旋转的状态，因此，实现了一边出辅料一边促进混合的功能。完成添加辅料动作后，升降电机12促使升降轴30带动旋转电机B15、旋转轴B16、旋转臂17、推料电机28、活塞推料杆29、储料腔31、辅料进料管32复位至起始位置，旋转电机B15、推料电机28停止动作。

当需要补充储料腔31的辅料时，升降电机12促使升降轴30带动旋转电机B15、旋转轴B16、旋转臂17、推料电机28、活塞推料杆29、储料腔31、辅料进料管32向上位移既定距离，促使辅料进料管32对应插入到辅料进料口22内，操控开关阀，促使辅料添料腔14的辅料通过辅料进料管32进入到储料腔31内，可以不打开盖体就对储料腔进行补料动作，操作简便。

辅料进料管32的上部外侧固定设置有限位凸环26，限位凸环26围绕辅料进料管32套设有缓冲弹簧23；当升降轴30处于最短的伸出距离时，缓冲弹簧23处于最大的压缩状态。当升降轴30处于最长的伸出距离时，辅料进料管32的顶部脱离盖体25。通过这样的结构设置，当升降轴30处于最短的伸出距离时，避免辅料进料管的顶部伸出盖体外将开关阀顶起。

作为优选的实施方式，旋转臂17的下表面与旋转轴B16共轴心设置有搅拌轴18，搅拌轴18的自由端的相对两侧连接有搅拌叶B19。搅拌轴18与旋转轴B16同步旋转，当滴管27中的辅料落入到反应釜本体10内腔的物料中后，通过搅拌叶B19进行预搅拌，提升搅拌结构进行搅拌时的混合均匀度。当升降轴30处于最长的伸出距离时，搅拌叶B19的最低端高于搅拌结构。

作为优选的实施方式，反应釜本体10内腔壁并且位于搅拌结构的上方安装有水位传感器33，随时监控反应釜本体10内腔的物料高度，及时做好物料的补给，确保反应釜本体10保持处于一个良好的搅拌状态。

作为优选的实施方式，搅拌叶A21的自由端延其长度方向线性阵列设置有多个漏料孔24，通过设置漏料孔24，提升搅拌过程中的顺畅度，物料被搅拌从漏料孔24中穿过，促进混合的均匀度。

作为优选的实施方式，处于最底部的搅拌叶A21的下表面均线性阵列设置有多个防沉淀刮锥35，在搅拌叶A21进行搅拌混合的过程中，处于最底部的搅拌叶A21的防沉淀刮锥35同步对反应釜本体10内腔的底部进行搅拌，从而实新防沉淀的功能，提升搅拌的均匀度。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。