用于重负载对准的平坦头部单元

技术领域

本说明书总体涉及电子器件制造。更具体地，本说明书涉及用于重负载对准的平坦头部单元。

背景技术

电子器件制造设备可包括多个腔室，诸如工艺腔室和装载锁定腔室。这样的电子器件制造设备可在传送腔室中采用机器人设备，该机器人设备被配置为在多个腔室之间运输基板。在一些情况下，一起传送多个基板

发明内容

以下是本公开内容的简化概述，以便提供对本公开内容的一些方面的基本理解。该概述并非是本公开内容的广泛综述。该概述既不旨在标识本公开内容的关键或重要要素，也不旨在界定本公开内容的特定实现方式的任何范围或权利要求的任何范围。该概述的唯一目的是以简化形式呈现本公开内容的一些概念，作为稍后呈现的更详细描述的前序。

根据一个实施方式，提供一种掩模框架支撑单元。所述掩模框架支撑单元包括：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸；和工作站(station)，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部。所述突出主体包括渐缩区域(tapered region)和圆柱形区域(cylindrical region)。所述渐缩区域包括耦接到所述壳体的具有第一直径的第一端部，并且包含与所述第一端部相对的具有第二直径的第二端部。所述第二直径小于所述第一直径，并且所述渐缩区域在所述第二端部处耦接到所述圆柱形区域。所述壳体容纳多个部件，包括与所述工作站接触的上接收板、设置在所述上接收板下方的下接收板、设置在所述下接收板与所述主体之间的平坦头部单元移动支撑机构、和对中部件。

根据另一个实施方式，提供一种设备。所述设备包括：掩模框架；对准轴，所述对准轴包括具有开口的中空圆柱体；和多个掩模框架支撑单元，所述多个掩模框架支撑单元包括平坦头部单元。所述平坦头部单元包括：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸并且经由所述开口整合到所述对准轴中；和工作站，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部。所述壳体容纳多个部件，包括与所述工作站接触的上接收板、设置在所述上接收板下方的下接收板、设置在所述下接收板与所述主体之间的平坦头部单元移动支撑机构、和对中部件。

根据又一个实施方式，提供一种形成掩模框架支撑单元的方法。所述方法包括：将上接收板和下接收板插入壳体内；在所述壳体内形成对中部件；将突出主体固定到所述壳体的底部；和将具有平坦头部的工作站固定到所述壳体的顶部。所述突出主体包括渐缩区域和圆柱形区域。所述渐缩区域包括耦接到所述壳体的具有第一直径的第一端部，并且包含与所述第一端部相对的具有第二直径的第二端部。所述第二直径小于所述第一直径，并且所述渐缩区域在所述第二端部处耦接到所述圆柱形区域。

附图说明

从以下给出的详细描述和从附图将更全面地理解本公开内容的方面和实现方式，附图旨在以示例而非限制的方式说明方面和实现方式。

图1是根据一些实施方式的包括平坦头部单元的设备的透视图。

图2是根据一些实施方式的包括平坦头部单元的设备的截面图。

图3是根据一些实施方式的平坦头部单元的示意图。

图4A是根据一些实施方式的平坦头部单元的截面图。

图4B是根据一些实施方式的在从中间(neutral)位置移动到偏移位置之后的图4A的平坦头部单元的截面图。

图5A-图5H图示根据一些实施方式的形成平坦头部单元的示例工艺流程。

图6是根据一些实施方式的用于形成包括平坦头部单元的设备的方法的流程图。

图7A-图7C是根据一些实施方式的掩模对准系统的俯视图。

具体实施方式

电子器件处理系统可包括视觉对准技术，该视觉对准技术可使得制造商能够通过减少或消除光刻和/或蚀刻处理系统来降低生产成本。例如，常规的视觉系统可包括放置在视觉轴的顶部上的多个滚珠传送单元(ball transfer unit；BTU)，以在视觉对准期间提供掩模支撑。更具体地，每个BTU包括滚珠(例如在外壳内的陶瓷滚珠)，掩模框架可安置在该滚珠上以支撑掩模框架的重量，同时仍然允许掩模框架的某种移动。然而，在掩模框架与BTU的滚珠之间的小接触点或接触表面积可能因在接触点处的集中压力而导致掩模框架中形成不期望变形(例如凹痕)或痕迹(例如划痕)，特别是如果放置在BTU上的掩模框架足够重的话。

本公开内容的方面和实现方式通过提供平坦头部单元以提供(重)负载(load)对准来解决现有技术的这些和其他缺点。例如，本文描述的平坦头部单元可用于提供负载对准，同时减少或消除在负载上的变形(例如凹痕)或痕迹(例如划痕)的发生。更具体地，本文描述的平坦头部单元可提供与负载(诸如掩模框架之类)的更大接触点、或增大的接触表面积，以使得能够减少或消除变形(例如局部变形)。本文描述的平坦头部单元可进一步支持负载在X-Y平面中的自由运动范围。例如，本文描述的平坦头部单元可被设计为在任何X-Y方向上从中心移动例如约7.5毫米(mm)。为了实现这样的运动，本文描述的平坦头部单元可包括平坦头部移动支撑机构，该平坦头部移动支撑机构用于支撑负载并且使得所述单元能够移动。例如，本文描述的平坦头部单元可被体现为包括设置在滚珠保持器(retainer)中的一组滚珠的平坦头部滚珠(FHB)单元。本文描述的平坦头部单元可进一步包括对中(centering)部件或对中机构，该对中部件或对中机构可在该平坦头部单元上不存在负载时将平坦头部单元带回到中心。例如，对中部件可包括一组拉伸弹簧。

为了简单和说明起见，本文描述的实施方式将参考其中平坦头部单元被体现为具有圆形表面的实施方式。然而，本文描述的平坦头部单元的表面可具有任何合适的几何形状以提供根据本文描述的实施方式的负载对准。用于平坦头部单元的表面的其他合适的几何形状的示例包括椭圆形、多边形(例如四边形、六边形、八边形)等。

在一些实施方式中，平坦头部单元可被实现为在包括掩模框架的设备内的掩模框架支撑单元。在这样的实施方式中，平坦头部单元可支撑放置在该平坦头部单元上的掩模片的重量，由此减少或消除掩模变形(例如凹痕)的发生。例如，可在视觉系统内利用多个平坦头部单元，其中每个平坦头部单元与对应轴(例如惰视觉轴(idle vision shaft))相关联。说明性地，本文描述的平坦头部单元可被实现在包括薄膜封装(TFE)系统的电子器件处理系统内。TFE系统可用于在电子器件处理期间形成薄膜阻挡物(例如有机发光二极管(OLED)器件)。例如，TFE系统可用于使得能够形成柔性有机发光二极管(OLED)器件，该器件具有薄膜阻挡物作为基板材料(与诸如玻璃之类的其他材料相反)，这可降低成本并且实现更轻且更薄的OLED显示器。TFE系统可以是例如TFE化学气相沉积(CVD)(TFE CVD)系统(例如TFE等离子体增强CVD(TFE PECVD)系统)。

本公开内容的方面和实现方式带来优于其他方法的技术优势。例如，如上所述，本文描述的平坦头部单元可防止变形和痕迹，并且可减少或消除BTU和其他类似的单元可能存在的接触应力问题。此外，本文描述的平坦头部单元可实现在掩模框架对准期间可能需要的掩模框架移动。本文描述的平坦头部单元的寿命周期可以比其他单元(例如具有相同负载和测试条件的BTU)长。例如，本文描述的平坦头部单元可被设计为在例如约80℃的温度下承受例如约100千克(kg)的负载。相应地，本文描述的平坦头部单元在被实现为掩模框架支撑单元时，与其他单元(例如BTU)相比，可提供改善的掩模框架和/或视觉对准准确度。

图1是根据一些实施方式的设备100的透视图。在一些实施方式中，设备100被包括在薄膜封装(TFE)系统的视觉系统内。然而，这样的实施方式不应当被视为限制性的，并且设备100可根据本文描述的实施方式在任何合适的系统内实现。

如图所示，设备100包括平坦头部单元(“单元”)110、基座主体120和对准轴130。更具体地，如本文将进一步详细地描述的，单元110可经由对准轴130的开口整合到对准轴130中或与该对准轴配合。根据本文描述的实施方式，可使用任何合适的机构来将单元100整合到对准轴130中。

如以下将关于图2进一步详细地描述的，单元110可为掩模框架提供支撑。也就是说，单元110可被实现为掩模框架支撑单元。例如，单元110可以是TFE掩模框架支撑单元。如将在以下进一步详细地描述的，单元110具有被设计为以能够减小接触应力并且因此减少或消除掩模变形的方式支撑包括掩模框架和掩模片的掩模的重量的几何形状。例如，在此说明性实施方式中，单元110具有圆形表面。现在将在以下参考图2来描述关于单元110的更多细节。

图2是根据一些实施方式的设备200的截面图。设备200包括对准轴210和整合到对准轴210中或与该对准轴配合的平坦头部单元(“单元”)。例如，对准轴210可以是视觉系统的惰视觉轴。单元220包括突出主体(“主体”)222、壳体224和工作站226。

如本文将进一步详细地描述的，主体222包括渐缩区域和圆柱形区域。渐缩区域包括耦接到壳体224的具有第一直径的第一端部，并且包括与第一端部相对的具有第二直径的第二端部。第二直径小于第一直径，并且渐缩区域在第二端部处耦接到圆柱形区域。

如本文将进一步详细地描述的，壳体224容纳多个部件，包括与工作站接触的上接收板、设置在上接收板下方的下接收板、设置在下接收板与主体之间的平坦头部单元移动支撑机构、和对中部件。

在此说明性实施方式中，壳体224是圆形壳体，并且工作站226具有圆形平坦头部。借助形成在壳体224内的部件，工作站226可具有围绕中心的大体上自由的移动(例如X-Y移动)，如以下将参考图4A-图4B进一步详细描述的。如进一步所示，掩模框架230的一个端部放置在工作站226上。设备200可包括一个或多个其他单元(未示出)以支撑掩模框架230。现在将在以下参考图3和图4来描述关于该单元的另外的细节。

图3是示出根据一些实施方式的平坦头部单元(“单元”)300的尺寸的示意图。如图所示，单元300包括突出主体(“主体”)310、壳体320和具有下部部分332和上部部分334的工作站330。主体310可整合在包括中空圆柱体的轴内的开口内或配合到该开口。在一些实施方式中，轴是用于掩模框架对准的视觉系统的对准轴。

更具体地，主体310可包括圆柱形区域312和渐缩区域314。渐缩区域314包括耦接到壳体320的具有第一直径的第一端部317-1，并且包括与第一端部相对的具有第二直径的第二端部317-2。第二直径小于第一直径。渐缩区域314在第二端部317-2处耦接到圆柱形区域312。

工作站330可以是可移动工作站，具有围绕中心的大体上自由的移动。在此说明性实施方式中，壳体320是圆形壳体，并且工作站330具有圆形平坦头部。

从下部部分332的左外边缘到壳体320的左外边缘的距离“L1”可例如在约7毫米(mm)与约8mm之间。更具体地，L1可以是例如约7.5mm。

类似地，从下部部分332的右外边缘到壳体320的右外边缘的距离“L2”可例如在约7mm与约8mm之间。更具体地，L2可以是例如约7.5mm。

在下部部分332的左外边缘与右外边缘之间的距离“L3”(该距离也对应于下部部分332的长度和工作站330的长度)可例如在约52mm与约60mm之间。更具体地，L3可以是例如约56mm。

上部部分334的长度“L4”可例如在约35mm与约45mm之间。更具体地，L4可以是例如约39mm。

工作站330的高度“L5”可例如在约10mm与约16mm之间。更具体地，L5可以是例如约13mm。

上部部分334的高度“L6”可例如在约5mm与约4mm之间。更具体地，L6可以是例如约2mm。相应地，下部部分332的高度(L5-L6)可例如在约9.5mm与约12mm之间，并且更具体地，例如是约11mm。

壳体320的长度“L7”可例如在约65mm与约75mm之间。更具体地，L7可以是例如约70mm。

壳体320和工作站330的组合高度“L8”可例如在约44mm与约52mm之间。更具体地，L8可以是例如约47.75mm。相应地，壳体320的高度(L8-L5)可例如在约34mm与约36mm之间，并且更具体地，例如是约34.75mm。

渐缩区域314的高度“L9”可例如在约12mm与约22mm之间。更具体地，L9可以是例如约17.1mm。

圆柱形区域312的高度“L10”可例如在约18mm与约28mm之间。更具体地，L10可以是例如约23mm。因此，主体310的高度(L9+L10)可例如在约30mm与约50mm之间，并且更具体地，例如约40.1mm。相应地，单元300的总高度(L8+L9+L10)可例如在约74mm与约102mm之间，并且更具体地，例如是约87.85mm。

如进一步所示，圆柱形区域312包括多个边缘，所述多个边缘包括边缘316。例如，边缘316的尺寸可包括例如在约17mm与约27mm之间的长度和例如在约1mm与约4mm之间的宽度。更具体地，边缘316的尺寸可包括例如约22mm的长度和例如约2.5mm的宽度。

如进一步所示，渐缩区域314包括第一上边缘318-1和第二上边缘318-2。在第一上边缘318-1与第二上边缘318-2之间的角度“A”可例如在约80°与约100°之间。更具体地，A可以是例如约90°。

主体310的在第一上边缘318-1到壳体320的接触点与第二上边缘318-2到壳体320的接触点之间测量的长度“L11”可例如在约31.2mm与约41.2mm之间。更具体地，L11可以是例如约36.2mm。

图4A是根据一些实施方式的平坦头部单元(“单元”)400的截面图。在此说明性示例中，单元400被体现为平坦头部滚珠(FHB)单元，其中平坦头部单元移动支撑机构包括一组滚珠。然而，这样的实施方式不应当被认为是限制性的。

如图所示，单元400包括突出主体(“主体”)1、壳体2和工作站4。如以下将进一步详细描述的，工作站4具有平坦头部，该平坦头部具有围绕中心的大体上自由的移动(例如X-Y移动)。在此说明性实施方式中，壳体2是圆形壳体，并且工作站4具有圆形平坦头部。主体1可整合在包括中空圆柱体的轴内的开口内或配合到该开口。在一些实施方式中，轴是用于掩模框架对准的视觉系统的对准轴。

壳体2容纳多个部件。例如，壳体2容纳下接收板3、工作站4、滚珠保持器5、中心结构6、弹簧加载凸缘7、上接收板8、第一螺钉9、多个第二螺钉(包括螺钉10(在此截面中不可见))、多个第三螺钉(包括螺钉11)、多个滚珠(包括滚珠12)和多个拉伸弹簧(包括拉伸弹簧13)。更具体地，第二螺钉可包括2个螺钉，第三螺钉可包括3个螺钉，滚珠可包括9个滚珠，并且拉伸弹簧可包括3个拉伸弹簧。

用第二螺钉(包括螺钉10)将工作站4安装到上接收板8和下接收板3中。在组装期间，下接收板3可安置在上接收板内的凹坑(pocket)内。第一螺钉9插入穿过板3与8和中心结构6，以将板3和8固定在单元400内。

滚珠用于支撑放置在单元400上的掩模的负载并且支持单元400的移动，并且滚珠保持器5用于在所有情况下确保滚珠中的每一者的位置。滚珠的间距提供放置在单元400上的负载的近似均匀的分布。更具体地，如以下将参考图5A-图5H进一步详细地描述的，相应组滚珠在相应拉伸弹簧之间的相应区域中放置在主体1上。例如，如果滚珠包括9个滚珠并且拉伸弹簧包括3个弹簧，则第一组3个滚珠可放置在限定在第一拉伸弹簧与第二拉伸弹簧之间的第一区域(例如扇区(sector))中，第二组3个滚珠可放置在限定在第二拉伸弹簧与第三拉伸弹簧之间的第二区域中，并且第三组3个滚珠可放置在限定在第三拉伸弹簧与第一拉伸弹簧之间的第三区域中。相应地，在此说明性实施方式中，单元400是平坦头部滚珠(FHB)单元，其中平坦头部单元移动支撑机构包括一组滚珠。

拉伸弹簧是对中部件或对中机构的部分，该对中部件或对中机构在单元400上不存在负载时使得工作站4返回到中心，如图4A中所示。例如，如以下将参考图5A-图5H进一步详细地描述的，拉伸弹簧中的每一者可具有使用弹簧加载凸缘7附接到中心结构6的对中环的一个端部和附接到壳体2的另一个端部。例如，如果存在3个拉伸弹簧，则3个拉伸弹簧中的每一者都可相对于彼此成约120°角放置。以下将参考图5A-图5H描述关于在单元400内的拉伸弹簧的配置的进一步细节。

在此说明性实施方式中，对中部件使用拉伸弹簧实现。然而，这样的实施方式不应当被认为是限制性的。例如，当单元400上不存在负载时，可使用基于磁性的机构来代替拉伸弹簧将工作站4带回到中心。

使用多个第三螺钉(包括螺钉11)将壳体2连接到主体1。主体1可具有合适的螺纹特征，以便用单元400容易地替换另一个掩模框架支撑单元(例如BTU)。

根据本文描述的实施方式，单元400的部件可由任何合适的材料形成。例如，部件1、3和4可说明性地由合适的陶瓷材料形成。在一些实施方式中，陶瓷材料可以是氧化铝(aluminum oxide)或氧化铝(alumina)(Al

部件2和5-11可由合金或其他合适的材料形成。在一些实施方式中，合金是铝(Al)合金。例如，Al合金可以是6061Al合金(例如6061-T6Al合金)。

根据本文描述的实施方式，多个滚珠(包括滚珠12)可由任何合适的材料形成。例如，多个滚珠可由陶瓷材料形成。在一些实施方式中，多个滚珠可由二氧化锆或氧化锆(ZrO

多个拉伸弹簧可由具有优异的机械强度(特别是在高温下)并且对腐蚀和/或氧化作用有高抵抗性的合适的材料(例如合金)形成。在一些实施方式中，多个拉伸弹簧可由合适的镍合金形成。合适的镍合金的一个示例是镍钼合金。例如，多个拉伸弹簧可由合适的镍-钼-铬合金形成。这样的镍-钼-铬合金可包括少量的钨以提供附加的耐腐蚀性质。

根据本文描述的实施方式，第一螺钉9、第二螺钉(包括螺钉10)和第三螺钉(包括螺钉11)各自可具有任何合适的尺寸。例如，第一螺钉9可具有例如在约2.5mm与约3.5mm之间的直径和例如在约16mm与约20mm之间的长度(例如M3x18mm螺钉)，第二螺钉10可具有例如在约3.5mm与约4.5mm之间的直径和例如在约13mm与约17mm之间的长度(例如M4x15mm螺钉)，并且第三螺钉11可具有例如在约2.5mm与约3.5mm之间的直径和例如在约4mm与约8mm之间的长度(例如，M3x6mm螺钉)。

根据本文描述的实施方式，第一螺钉9、第二螺钉(包括螺钉10)和第三螺钉(包括螺钉11)可由任何合适的材料形成。合适的材料的一个示例是阳极化Al。然而，也设想其他类似的合适的材料

在图4A中，单元400在中间位置，在该位置中，由线A-A'表示的工作站4、下接收板3、上接收板8等的中心位置与由线B-B'表示的主体1的中心位置共线。然而，如以下将参考图4B描述的，线A-A'可响应于放置在单元400上的负载而在远离中心位置的方向上(例如在任何X-Y方向上)移动。

图4B是在从图4A中示出的中间位置移动到偏移位置之后的单元400的另一个截面图。更具体地，在此说明性示例中，线A-A'相对于线B-B'已经向右移动了至多最大距离“L”。在其他实施方式中，线A-A'可相对于线B-B'向左移动至多最大距离L。在其他实施方式中，线A-A'可相对于线B-B'“向前”或“向后”(例如向页面内或向页面外)移动至多最大距离L。相应地，线A-A'可在任何合适的X-Y方向上远离线B-B'移动至多L的距离。在移除单元400上的负载时，包括多个拉伸弹簧的对中部件可使单元400从图4B中示出的偏移位置返回到图4A中示出的中间位置。也就是说，对中部件可自动地将线A-A'与线B-B'重新对准。

最大距离L由单元400的尺寸限定，如以上参考图3进一步详细描述的。例如，在一些实施方式中，最大距离L例如为距中心位置约7.5mm，使得单元400可在任何X-Y方向上从中心位置移动至多约7.5mm。

图5A-图5H描绘根据一些实施方式的制造平坦头部单元500的工艺流程。平坦头部单元500可以是用于支撑掩模框架的掩模框架支撑单元。在此说明性实施方式中，平坦头部单元500是平坦头部滚珠(FHB)单元。然而，这样的实施方式不应当被认为是限制性的。

图5A示出包括壳体502的平坦头部单元500的仰视图。上接收板504将插入在限定在壳体502的顶部内的区域503内。壳体502和上接收板504类似于以上参考图4A-图4B描述的壳体和上接收板。

图5B示出上接收板504的插入、下接收板506在上接收板504上的插入、和将放置在下接收板506上的滚珠保持器508。下接收板506和滚珠保持器508类似于以上参考图4A-图4B描述的下接收板和滚珠保持器。

图5C示出滚珠保持器508在下接收板506上的放置、一组拉伸弹簧(包括拉伸弹簧510)在滚珠保持器508的相应间隙之间的放置、和要被放置在由滚珠保持器508限定的区域509中的对中环512。包括拉伸弹簧510的一组拉伸弹簧和对中环512与以上参考图4A-图4B描述的一组拉伸弹簧和对中环相似。

图5D示出对中环512与区域509内的一组拉伸弹簧中的每个拉伸弹簧的附接、和要被放置在对中环512内以形成对中部件或机构的中心销514。对中部件类似于以上参考图4A-图4B描述的对中部件。

图5E描绘平坦头部单元500的俯视图，其示出螺栓或螺钉518，该螺栓或螺钉518将穿过设置在壳体502的顶部内的孔519放置以固定中心销514。螺钉518类似于以上参考图4A-图4B描述的第一螺钉。

图5F返回到平坦头部单元500的仰视图，其示出包括滚珠520的一组滚珠，每个滚珠插入滚珠保持器508的相应位置内。在此说明性实施方式中，该组滚珠包括9个滚珠。如进一步所示，螺钉518的端部可以是可见的，并且相对于中心销514齐平。包括滚珠520的一组滚珠类似于以上参考图4A-图4B描述的一组滚珠。

图5G示出经由多个螺栓或螺钉(包括螺栓或螺钉524)固定到壳体502的底部的突出主体(“主体”)522。主体522和多个螺栓或螺钉(包括螺栓或螺钉524)分别类似于以上参考图4A-图4B描述的主体和多个第三螺钉。如图所示，主体522包括渐缩区域523和圆柱形区域525。

图5H描绘平坦头部单元500的俯视图，其示出用包括螺钉528的螺钉固定到壳体502的顶部的工作站526。分别地，工作站526类似于以上参考图4A-图4B描述的工作站，并且螺钉(包括螺钉528)类似于以上参考图4A-图4B描述的多个第二螺钉。

主体522可整合到中空圆柱体内的开口中或与该开口配合。在一些实施方式中，中空圆柱体是用于掩模框架对准的视觉系统的对准轴。在此说明性实施方式中，圆柱形区域525被设计有螺纹，使得主体522可使用螺纹锁定机构整合到中空圆柱体中(例如“拧入”中空圆柱体中)。然而，根据本文描述的实施方式，可使用任何合适的整合机构来将主体522整合在中空圆柱体内。

图6描绘根据一些实施方式的将掩模框架支撑单元整合在掩模对准系统内的方法600的流程图。例如，单元组件可类似于以上参考图2-图5描述的单元。

在框602处，形成具有平坦头部的掩模框架支撑单元。在一些实施方式中，掩模框架支撑单元是平坦头部滚珠(FHB)单元。例如，掩模框架支撑单元可根据以上参考图5A-图5H描述的工艺流程形成。

在框604处，将掩模框架支撑单元安装在掩模对准系统内。安装掩模框架支撑单元可包括将掩模框架支撑单元的突出主体整合到包括中空圆柱体的对准轴的开口中。更具体地，对准轴可以是惰视觉轴。

在框606处，将掩模框架放置在掩模框架支撑单元上。掩模框架支撑单元可支撑掩模框架的重量，同时减少或消除凹痕或其他变形。掩模框架支撑单元还可包括使得掩模框架能够移动的对中部件或机构。例如，在移除掩模时，对中部件可引起平坦头部单元使该平坦头部单元自身重新对中。

以上参考图1-图5描述关于方法600的进一步细节，包括平坦头部单元和掩模框架。

图7A-图7C是根据一些实施方式的掩模对准系统700的俯视图。例如，700可包括视觉系统。

图7A示出系统700的概览。如图所示，系统700包括腔室主体710、多个平坦头部单元720-1至720-6、多个滚珠传送单元(BTU)730-1与730-2、和放置在多个平坦头部单元720-1至720-6和多个BTU 730-1与730-2上的掩模框架740。尽管示出6个平坦头部单元和2个BTU，但是可根据本文描述的实施方式使用任何合适数量的平坦头部单元和/或BTU。在一些实施方式中，多个平坦头部单元720-1至720-6包括平坦头部滚珠(FHB)单元。还描绘对应于平坦头部单元720-1的区域750和对应于BTU 730-1的区域760。图案化掩模片可用于在例如涂覆工艺期间覆盖基板的区域。

图7B示出对应于图7A中示出的区域750的系统700的放大图。图7C示出对应于图7B中示出的区域760的系统700的放大图。

前述描述阐述了许多特定细节，诸如特定系统、部件、方法等的示例，以便提供对本发明的若干实施方式的良好理解。然而，对于本领域技术人员来说，显然可在没有这些特定细节的情况下实践本发明的至少一些实施方式。在其他情况下，所熟知的部件或方法未详细地描述，或者以简单框图格式呈现这些部件或方法，以便避免不必要地使本发明模糊。因此，所阐述的特定细节仅是示例性的。特定实现方式可与这些示例性细节不同，并且仍然被认为是在本发明的范围内。

在整个本说明书中对“一个实施方式”或“实施方式”的提及意指结合实施方式描述的特定特征、结构或特性被包括在至少一个实施方式中。因此，在本说明书的各个地方出现的短语“在一个实施方式中”或“在实施方式中”不一定指代相同的实施方式。另外，术语“或”旨在表示包括性“或”而非排他性“或”。当本文使用术语“约”或“近似”时，这旨在表示所呈现的标称值精确在±10％内。

尽管本文的方法的操作以特定次序被示出和描述，但是每个方法的操作的次序可更改，使得可以相反次序执行某些操作或使得可至少部分地与其他操作同时地执行某些操作。在另一个实施方式中，不同操作的指令或子操作可以以间歇和/或交替方式进行。

应当理解，以上描述旨在是说明性而非限制性的。在阅读和理解以上描述后，许多其他实现方式示例对于本领域技术人员来说将显而易见。尽管本公开内容描述了特定示例，但是应当认识到，本公开内容的系统和方法不限于本文描述的示例，而是可实践在所附权利要求的范围内的修改。相应地，本说明书和附图被认为是说明性意义而非限制性意义。因此，本公开内容的范围应当参考所附权利要求连同这样的权利要求的等同物的全部范围来确定。