掌桥专利:专业的专利平台
掌桥专利
首页

显示装置和用于制造显示装置的方法

文献发布时间:2024-04-18 19:58:21


显示装置和用于制造显示装置的方法

相关申请的交叉引用

本申请要求于2022年5月25日在韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2022-0064346号韩国专利申请的优先权和权益,其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

实施例涉及一种包括具有改善的折叠可靠性的窗模块的显示装置以及用于制造该显示装置的方法。

背景技术

电子装置在显示屏上显示各种图像并向用户提供信息。通常,电子装置在分配的屏幕上显示信息。如今,正在开发包括柔性显示面板的柔性电子装置。与刚性电子装置不同,柔性电子装置是可折叠的、可卷曲的或可弯曲的。无论屏幕的尺寸如何,形状可以以各种方式改变的柔性电子装置都可以被携带,因此可以改善用户便利性。

在将用于实现柔性电子装置的柔性的结构应用于柔性电子装置的情况下,柔性电子装置抵抗冲击的耐久性可能被削弱。此外,在将用于增强柔性电子装置抵抗冲击的耐久性的结构应用于柔性电子装置的情况下,柔性电子装置的柔性可能劣化。

发明内容

实施例提供一种包括具有改善的折叠可靠性的窗模块的显示装置和用于制造该显示装置的方法。

然而,本公开的实施例不限于本文所阐述的那些实施例。通过参考下面给出的本公开的详细描述,上述和其它实施例对于本公开所属领域的普通技术人员将变得更加显而易见。

根据一实施例,一种显示装置可以包括:显示模块,包括折叠区;和窗模块,设置在所述显示模块上。所述窗模块可以包括:基底基板,包括第一表面和第二表面,多个第一槽形成在所述第一表面上,多个第二槽形成在所述第二表面上;第一覆盖层,设置在所述基底基板的所述第一表面上并且填充在所述多个第一槽中;以及第二覆盖层,设置在所述基底基板的所述第二表面上并且填充在所述多个第二槽中。所述多个第一槽的深度和所述多个第二槽的深度大于或等于所述基底基板的所述第一表面和所述第二表面之间的距离的一半。

所述窗模块可以进一步包括覆盖所述基底基板的多个侧表面的第三覆盖层,所述多个侧表面连接所述第一表面和所述第二表面,并且所述基底基板可以被所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层覆盖。

所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的折射率可以在约1.49至约1.53的范围内。

所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的泊松比可以在约0.3至约0.6的范围内。

所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的杨氏模量可以在约20kPa至约50kPa的范围内。

在所述显示模块和所述窗模块折叠的情况下,所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的体积应变可以在约5%至约20%的范围内。

所述第一覆盖层和所述第二覆盖层可以比所述第三覆盖层薄。

所述第一覆盖层和所述第二覆盖层可以具有约20微米至约40微米的厚度,并且所述第三覆盖层可以具有约90微米至约110微米的厚度。

在所述显示模块和所述窗模块折叠的折叠状态下,可以在所述第二覆盖层中形成分别朝向所述多个第二槽凹入的多个凹槽。

所述多个凹槽的深度可以小于所述多个第二槽的深度。

所述多个第一槽的宽度和所述多个第二槽的宽度可以随着靠近所述多个第一槽的第一底表面和所述多个第二槽的第二底表面而减小。

所述基底基板可以具有约200微米至约400微米的厚度。

所述基底基板的所述第二表面可以设置在所述基底基板的所述第一表面和所述显示模块之间。在所述显示模块和所述窗模块是平坦的平坦状态下,所述多个第一槽可以具有第一宽度,并且在所述显示模块和所述窗模块折叠的折叠状态下,所述多个第一槽可以具有第二宽度。所述多个第一槽在所述折叠状态下的所述第二宽度可以小于所述多个第一槽在所述平坦状态下的所述第一宽度。

在所述显示模块和所述窗模块是平坦的所述平坦状态下,所述多个第二槽可以具有第三宽度,并且在所述显示模块和所述窗模块折叠的所述折叠状态下,所述多个第二槽可以具有第四宽度。所述多个第二槽在所述折叠状态下的所述第四宽度可以大于所述多个第二槽在所述平坦状态下的所述第三宽度。

根据一实施例,一种显示装置可以包括:显示模块,包括折叠区;和窗模块,设置在所述显示模块上。所述窗模块可以包括:基底基板,包括第一表面、第二表面以及连接所述第一表面和所述第二表面的多个侧表面,多个第一槽形成在所述第一表面上,多个第二槽形成在所述第二表面上;第一覆盖层,设置在所述基底基板的所述第一表面上并且填充在所述多个第一槽中;第二覆盖层,设置在所述基底基板的所述第二表面上并且填充在所述多个第二槽中;以及第三覆盖层,覆盖所述多个侧表面。所述基底基板可以被所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层覆盖,并且在所述显示模块和所述窗模块折叠的折叠状态下,多个凹槽可以分别朝向所述多个第二槽凹入并且可以形成在所述第二覆盖层中。

所述多个第一槽的深度和所述多个第二槽的深度可以大于或等于所述第一表面和所述第二表面之间的距离的一半。

所述多个凹槽的深度可以小于所述多个第二槽的深度。

所述多个第一槽的宽度和所述多个第二槽的宽度可以随着靠近所述多个第一槽的第一底表面和所述多个第二槽的第二底表面而减小。

所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的折射率可以在约1.49至约1.53的范围内。

所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的泊松比可以在约0.3至约0.6的范围内。

所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的杨氏模量可以在约20kPa至约50kPa的范围内。

在所述显示模块和所述窗模块折叠的情况下,所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的体积应变可以在约5%至约20%的范围内。

所述基底基板的所述第二表面可以设置在所述基底基板的所述第一表面和所述显示模块之间。在所述显示模块和所述窗模块是平坦的平坦状态下,所述多个第一槽可以具有第一宽度,并且在所述显示模块和所述窗模块折叠的折叠状态下,所述多个第一槽可以具有第二宽度。所述多个第一槽在所述折叠状态下的所述第二宽度可以小于所述多个第一槽在所述平坦状态下的所述第一宽度。在所述显示模块和所述窗模块是平坦的所述平坦状态下,所述多个第二槽可以具有第三宽度,并且在所述显示模块和所述窗模块折叠的所述折叠状态下,所述多个第二槽可以具有第四宽度。所述多个第二槽在所述折叠状态下的所述第四宽度可以大于所述多个第二槽在所述平坦状态下的所述第三宽度。

所述第一覆盖层和所述第二覆盖层可以具有约20微米至约40微米的厚度,并且所述第三覆盖层可以具有约90微米至约110微米的厚度。

根据一实施例,一种用于制造显示装置的方法可以包括形成显示模块、形成窗模块以及将所述窗模块附接到所述显示模块。所述形成所述窗模块可以包括:将基底基板放置在载体膜上,所述基底基板包括第一表面、第二表面以及连接所述第一表面和所述第二表面的多个侧表面,多个第一槽形成在所述第一表面上,多个第二槽形成在所述第二表面上;将引导膜附接到所述载体膜,所述引导膜具有形成在其中以围绕所述基底基板的开口;形成覆盖所述基底基板的所述第一表面和所述多个侧表面的上初步覆盖层;形成覆盖所述第二表面的下初步覆盖层;以及沿着切割线切割所述上初步覆盖层的一部分和所述下初步覆盖层的一部分。

所述切割线可以与所述多个侧表面间隔开。

所述形成所述上初步覆盖层可以包括:将第一树脂材料施加到所述基底基板的所述第一表面;将第一保护模块放置在所述第一树脂材料上,所述第一保护模块包括保护层和平面化基板;通过滚压所述第一保护模块的上表面将所述保护层设置成与所述第一树脂材料紧密接触;从所述保护层去除所述平面化基板;将所述载体膜、所述基底基板和所述保护层倒置,使得所述第一表面和所述第二表面的位置互换;以及固化所述第一树脂材料。

所述形成所述下初步覆盖层可以包括:从所述基底基板去除所述载体膜;将第二树脂材料施加到所述基底基板的所述第二表面;将第二保护模块附接到所述第二树脂材料,所述第二保护模块包括离型纸(release paper)膜和平面化基板;通过滚压所述第二保护模块的上表面将所述离型纸膜设置成与所述第二树脂材料紧密接触;从所述离型纸膜去除所述平面化基板;以及固化所述第二树脂材料。

所述第一保护模块可以进一步包括粘合层,并且所述粘合层可以设置在所述保护层下面。

所述引导膜的所述开口的深度可以大于或等于所述基底基板的高度,并且所述基底基板可以设置在所述引导膜的所述开口中。

所述引导膜可以包括提供在所述引导膜的侧表面上的流动通道。

所述切割线的长度可以长于所述基底基板的周长。

附图说明

通过参考附图详细描述本公开的实施例,本公开的以上和其它目的和特征将变得显而易见。

图1是根据一实施例的显示装置的示意性透视图。

图2A是例示根据一实施例的显示装置的内折叠状态的示意图。

图2B是例示根据一实施例的显示装置的外折叠状态的示意图。

图3A是根据一实施例的显示装置的示意性剖视图。

图3B是例示图3A的区AA’的示意性放大图。

图4是例示根据一实施例的显示装置的折叠状态的示意性剖视图。

图5A是根据一实施例的弯曲的窗模块的一部分的剖视图。

图5B是例示对应于图5A的区BB’的一部分的曲线图。

图6是例示根据一实施例的作为显示装置制造方法的一部分的窗模块制造方法的流程图。

图7至图16B是例示根据一实施例的窗模块制造方法的各部分的示意图。

图17是例示根据一实施例的窗模块和离型纸膜的示意性剖视图。

具体实施方式

在下面的描述中,出于解释的目的,阐述许多具体细节,以便提供对本发明的各种实施例或实施方式的透彻理解。如本文所使用的,“实施例”和“实施方式”是可互换的词语,其是本文公开的装置或方法的非限制性示例。然而,显而易见的是,可以在不具有这些具体细节或具有一个或多个等效布置的情况下实践各种实施例。这里,各种实施例不必是排他性的,也不限制本公开。例如,一实施例的具体形状、配置和特性可以在另一实施例中使用或实现。

除非另有说明,否则例示的实施例将被理解为提供本发明的特征。因此,除非另有说明,否则在不脱离本发明的情况下,可以以其它方式组合、分离、互换和/或重新布置各种实施例的特征、部件、模块、层、膜、面板、区域和/或方面等(下文中单独称为或统称为“元件”)。

附图中交叉影线和/或阴影的使用通常被提供为阐明相邻元件之间的边界。因此,除非有所说明,否则交叉影线或阴影的存在或不存在都不传达或指示对特定材料、材料性能、尺寸、比例、例示的元件之间的共性和/或元件的任何其它特性、属性、性能等的任何偏好或要求。此外,在附图中,为了清楚和/或描述的目的,元件的尺寸和相对尺寸可能被夸大。当可以不同地实现实施例时,可以与描述的顺序不同地执行具体的过程顺序。例如,两个连续描述的过程可以基本上同时执行或者以与描述的顺序相反的顺序执行。而且,类似的附图标记表示类似的元件。

当元件或层被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”另一元件或层或者“联接到”另一元件或层时,它可以直接在另一元件或层上、直接连接到另一元件或层或者直接联接到另一元件或层,或者可以存在居间元件或层。然而,当元件或层被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”另一元件或层或者“直接联接到”另一元件或层时,不存在居间元件或层。为此,术语“连接”可以指具有或不具有居间元件的物理、电和/或流体连接。此外,DR1轴、DR2轴和DR3轴不限于直角坐标系的诸如X轴、Y轴和Z轴的三个轴,并且可以在较广的意义上解释。例如,DR1轴、DR2轴和DR3轴可以彼此垂直,或者可以表示彼此不垂直的不同方向。为了本公开的目的,“A和B中的至少一个”可以被理解为指仅A、仅B或A和B的任意组合。而且,“X、Y和Z中的至少一个”和“选自由X、Y和Z组成的组的至少一个”可以被解释为仅X、仅Y、仅Z或X、Y和Z中的两个或更多个的任意组合。如本文所使用的,术语“和/或”包括相关列出项中的一个或多个的任何和所有组合。

尽管本文可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种类型的元件,但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语用于将一个元件与另一元件区分开。因此,在不脱离本公开的教导的情况下,下面讨论的第一元件可以被称为第二元件。

诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下面”、“下部”、“在……上方”、“上部”、“在……上面”、“更高”、“侧”(例如,如在“侧壁”中)等的空间相对术语在本文中可用于描述的目的,从而描述如图中所例示的一个元件与另外的元件的关系。除了图中描绘的方位之外,空间相对术语旨在涵盖设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如,如果图中的设备被翻转,则被描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件于是将被定向为“在”其它元件或特征“上方”。因此,术语“在……下方”可以涵盖上方和下方两种方位。此外,设备可以以其它方式定向(例如,旋转90度或处于其它方位),并且因此,本文使用的空间相对术语被相应地解释。

本文使用的术语用于描述特定实施例的目的,并不旨在是限制性的。如本文所使用的,单数形式“一”和“该”旨在也包括复数形式,除非上下文另外明确指示。此外,术语“包括”和/或“包含”当在本说明书中使用时说明存在所陈述的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或它们的组,但不排除存在或添加一个或多个其它特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或它们的组。还注意的是,如本文所使用的,术语“基本上”、“约”和其它类似术语用作近似术语而不用作程度术语,并且因此用于解释将由本领域普通技术人员认识到的测量值、计算值和/或提供值的固有偏差。

本文参考作为实施例和/或中间结构的示意性图示的剖视图示和/或分解图示描述各种实施例。因此,将预期例如由于制造技术和/或公差而导致的图示形状的变化。因此,本文公开的实施例不应必然被解释为限于特别例示的区域的形状,而是将包括由例如制造引起的形状偏差。以这种方式,图中例示的区域本质上可以是示意性的,并且这些区域的形状可不反映装置的区域的实际形状,并且因此不一定旨在是限制性的。

按照本领域的惯例,在附图中以功能块、单元和/或模块的形式描述和例示一些实施例。本领域技术人员将理解,这些功能块、单元和/或模块通过电子(或光学)电路物理地实现,电子(或光学)电路诸如为逻辑电路、分立部件、微处理器、硬连线电路、存储器元件、布线连接等,这些电子(或光学)电路可以使用基于半导体的制造技术或其他制造技术形成。在功能块、单元和/或模块由微处理器或其它类似硬件实现的情况下,它们可以使用软件(例如,微代码)来编程和控制以执行本文讨论的各种功能,并且可以可选地由固件和/或软件驱动。还预期,每个功能块、单元和/或模块可以由专用硬件实现,或者实现为用以执行一些功能的专用硬件和用以执行其它功能的处理器(例如,一个或多个编程的微处理器和相关联的电路)的组合。而且,在不脱离本发明的范围的情况下,一些实施例的每个功能块、单元和/或模块可以物理地分成两个或更多个相互作用的离散的功能块、单元和/或模块。此外,在不脱离本发明的范围的情况下,一些实施例的功能块、单元和/或模块可以物理地组合成更复杂的功能块、单元和/或模块。

在下文中,将参考附图描述实施例。

图1是根据一实施例的显示装置ED的示意性透视图。

参考图1,显示装置ED可以通过显示表面DD-IS显示图像IMG。时钟窗图像、搜索窗图像和图标图像被例示为图像IMG的示例。显示表面DD-IS可以平行于由第一方向DR1和第二方向DR2限定的平面。显示表面DD-IS的法线方向(例如,显示装置ED的厚度方向)由第三方向DR3指示。下面将描述的构件或单元的前表面(或上表面)和后表面(或下表面)基于第三方向DR3彼此区分。

显示表面DD-IS可以包括上面显示图像IMG的显示区DD-DA和与显示区DD-DA相邻的非显示区DD-NDA。非显示区DD-NDA可以是上面不显示图像的区。显示区DD-DA可以具有矩形形状。非显示区DD-NDA可以围绕显示区DD-DA。然而,实施例不限于此,可以相对地设计显示区DD-DA的形状和非显示区DD-NDA的形状。在另一示例中,可以省略非显示区DD-NDA。

在图1中,便携式电子装置被例示为显示装置ED的示例。然而,实施例不限于此,并且显示装置ED可以用在诸如移动电话、平板计算机、汽车导航单元、游戏机、智能手表等的小型和中型电子装置中以及诸如电视、监视器等的大型电子装置中。

图2A是例示根据一实施例的显示装置ED的内折叠状态的示意图。图2B是例示根据一实施例的显示装置ED的外折叠状态的示意图。

参考图2A,显示装置ED可以包括根据操作类型限定的区。显示装置ED可以包括第一非折叠区NFA1、第二非折叠区NFA2以及设置在第一非折叠区NFA1和第二非折叠区NFA2之间的折叠区FA。折叠区FA可以基于折叠轴线FX折叠并且可以基本上形成弯曲部。

根据一实施例的显示装置ED可以以内折叠方式折叠,使得第一非折叠区NFA1的显示表面DD-IS和第二非折叠区NFA2的显示表面DD-IS可以彼此面对。

参考图2B,显示装置ED可以以外折叠方式折叠,使得显示表面DD-IS可以暴露于外部。折叠轴线FX可在第二方向DR2上延伸。折叠轴线FX可以面向显示装置ED的短轴方向。

图3A是根据一实施例的显示装置ED的示意性剖视图。图3B是例示图3A的区AA’的示意性放大图。

参考图3A,显示装置ED可以包括窗模块WM、显示模块DM、保护膜BPF、保护面板PP和下部构件BP。显示装置ED可以是柔性显示装置ED。相应地,窗模块WM、显示模块DM、保护膜BPF、保护面板PP和下部构件BP可以各自具有柔性性能。显示装置ED可以包括第一非折叠区NFA1、第二非折叠区NFA2和折叠区FA。

窗模块WM可以设置在显示模块DM上。窗模块WM可以包括保护层WPF、粘合层BL、窗WD和覆盖层CL。

窗WD可以设置在显示模块DM上。窗WD可被称为基底基板WD。窗WD可以保护显示模块DM免受外部冲击和刮擦。窗WD可以包括光学透明的绝缘材料。例如,窗WD可以包括薄玻璃。在显示模块DM上产生的图像可以通过窗WD被提供给用户。窗WD可以具有单层结构或多层结构。例如,窗WD可以包括触摸屏膜和光学膜中的至少一种。光学膜可以是例如偏振膜、漫射膜或保护膜。

参考图3A和图3B,窗WD可以包括第一表面S1、第二表面S2和侧表面SS。窗WD的第一表面S1可以与显示模块DM间隔开,在它们之间具有第二表面S2,并且第二表面S2可以面向显示模块DM。例如,第二表面S2可以设置在第一表面S1和显示模块DM之间。侧表面SS可以连接第一表面S1和第二表面S2。第一槽HM1可以形成在窗WD的与折叠区FA重叠的第一表面S1上,并且第二槽HM2可以形成在窗WD的与折叠区FA重叠的第二表面S2上。

第一槽HM1的深度D-HM1和第二槽HM2的深度D-HM2可以大于或等于第一表面S1和第二表面S2之间的距离DT的一半。例如,第一槽HM1的深度D-HM1可以是第一槽HM1的第一底表面B-HM1与第一虚拟表面之间的距离,该第一虚拟表面在第三方向DR3上与第一表面S1共面。例如,第二槽HM2的深度D-HM2可以是第二槽HM2的第二底表面B-HM2与第二虚拟表面之间的距离,该第二虚拟表面在第三方向DR3上与第二表面S2共面。例如,当从侧面观察时,第一槽HM1中的一些可以与第二槽HM2中的一些重叠。根据上述配置,可以减小在折叠期间施加到折叠区FA的排斥力,并且可以增加张力。第一槽HM1的宽度(例如,图3B中的W1和图5A中的W2)和第二槽HM2的宽度(例如,图3B中的W3和图5A中的W4)可以随着靠近第一槽HM1的第一底表面B-HM1和第二槽HM2的第二底表面B-HM2而减小。

覆盖层CL可以设置在粘合层BL和显示模块DM之间。覆盖层CL可以包括第一覆盖层CL1、第二覆盖层CL2和第三覆盖层CL3。第一覆盖层CL1和第三覆盖层CL3可以被称为上覆盖层UCL(参考图17),并且第二覆盖层CL2可以被称为下覆盖层CL2。第一覆盖层CL1可以设置在基底基板WD的第一表面S1上,并且第二覆盖层CL2可以设置在基底基板WD的第二表面S2上。第三覆盖层CL3可以设置在粘合层BL和显示模块DM之间,并且可以与窗WD的侧表面SS接触(例如,直接接触)。

第一覆盖层CL1的厚度TK1和第二覆盖层CL2的厚度TK2可以小于第三覆盖层CL3的厚度TK3。第一覆盖层CL1的厚度TK1和第二覆盖层CL2的厚度TK2可以在约20微米至约40微米的范围内,并且第三覆盖层CL3的厚度TK3可以在约90微米至约110微米的范围内。

第一覆盖层CL1、第二覆盖层CL2和第三覆盖层CL3的折射率可以在约1.49至约1.53的范围内。折射率可以等于或类似于窗WD的折射率。由于第一覆盖层至第三覆盖层CL1、CL2和CL3的折射率类似于窗WD的折射率,因此形成在窗WD中的第一槽HM1和第二槽HM2可从外部不可见。

在显示装置ED被折叠的情况下,第一覆盖层至第三覆盖层CL1、CL2和CL3可以被拉伸(或延伸)和收缩(或压缩)。泊松比可以表示在材料在一方向上经受竖直应力的情况下横向应变与纵向应变的比率。在包括具有约200微米至约400微米的厚度的基底基板WD的显示装置ED被折叠的情况下,第一覆盖层至第三覆盖层CL1、CL2和CL3的泊松比可以在约0.3至约0.6的范围内。然而,第一覆盖层至第三覆盖层CL1、CL2和CL3的泊松比可以根据基底基板WD的厚度而变化。

杨氏模量是测量固体材料的刚度的机械性能。杨氏模量是指材料抵抗弹性变形的性能。相应地,杨氏模量可以具有根据材料的物理性能的值。在包括具有约200微米至约400微米的厚度的基底基板WD的显示装置ED被折叠的情况下,第一覆盖层至第三覆盖层CL1、CL2和CL3的杨氏模量可以在约20kPa至约50kPa的范围内。

体积应变表示在物体通过外力变形的情况下变形体积与原始体积的比率。在包括具有约200微米至约400微米的厚度的基底基板WD的显示装置ED被折叠的情况下,第一覆盖层至第三覆盖层CL1、CL2和CL3的体积应变可以在约5%至约20%的范围内。例如,第一覆盖层至第三覆盖层CL1、CL2和CL3可以具有约33%的横向应变和约17%的纵向应变。然而,这是说明性的,并且横向应变和纵向应变可以根据第一槽HM1和第二槽HM2的形状、宽度、深度和物理性能而变化。

覆盖层CL可以覆盖窗WD的第一表面S1、第二表面S2和侧表面SS。例如,第一覆盖层CL1可以覆盖窗WD的第一表面S1并且可以填充第一槽HM1。第二覆盖层CL2可以覆盖窗WD的第二表面S2并且可以填充第二槽HM2。第三覆盖层CL3可以覆盖侧表面SS。例如,窗WD(例如,基底基板)可以被第一覆盖层CL1、第二覆盖层CL2和第三覆盖层CL3覆盖(例如,完全覆盖)。

由于覆盖层CL具有围绕窗WD的结构,因此可以减少从外部观察到形成在折叠区FA中的第一槽HM1和第二槽HM2的形状的现象。例如,可以实现改善窗模块WM的耐久性的效果。

保护层WPF可以被称为窗保护膜WPF。由于保护层WPF附接到覆盖层CL,因此可以改善显示装置ED的抗冲击性。保护层WPF可以保护设置在保护层WPF下面的部件。可以在保护层WPF中另外包括硬涂层、防指纹层等,以改善诸如耐化学性、耐磨性等的特性。保护层WPF可以包括透明材料。

保护层WPF可以包括挡光材料BM。保护层WPF的挡光材料BM可以与显示装置ED的非显示区DD-NDA(参考图1)重叠。挡光材料BM可以是光不能穿过的材料。

粘合层BL可以设置在窗WD和保护层WPF之间。粘合层BL可以是光学透明粘合膜、光学透明树脂或压敏粘合膜。虽然图3A例示粘合层BL设置在窗WD和保护层WPF之间的示例,但是粘合膜可以设置在窗模块WM和显示模块DM之间。在另一示例中,可以省略粘合层BL。例如,保护层WPF可以设置(例如,直接设置)在窗WD上,并且窗模块WM可以设置(例如,直接设置)在显示模块DM上。

显示模块DM可以包括第一非折叠区NFA1、第二非折叠区NFA2和折叠区FA。显示模块DM可以包括显示面板、传感单元和抗反射层。在另一示例中,可以省略传感单元和抗反射层中的至少一个。例如,显示模块DM可以仅包括显示面板。显示面板可以是发射型显示面板。然而,实施例不限于此。例如,显示面板可以是有机发光显示面板或量子点发光显示面板。有机发光显示面板的发射层可以包括有机发光材料。量子点发光显示面板的发射层可以包括量子点或量子棒。

保护膜BPF可以被称为下保护膜BPF。保护膜BPF可以设置在显示模块DM下面。保护膜BPF可以在制造显示模块DM的过程期间防止显示模块DM的后表面上的刮擦。保护膜BPF可以是彩色聚酰亚胺膜。例如,保护膜BPF可以是不透明的黄色膜。然而,保护膜BPF的材料不限于任何一个示例,只要其是柔性的并且能够保护显示模块DM的下部部分即可。

保护面板PP可以设置在保护膜BPF下面。下部构件BP可以设置在保护面板PP下面。由于保护面板PP和下部构件BP附接到保护膜BPF的底部,因此可以改善显示装置ED的抗冲击性。保护面板PP和下部构件BP可以保护设置在保护面板PP上的部件。下部构件BP可以包括诸如缓冲层的功能层。

图4是例示根据一实施例的显示装置ED的折叠状态的示意性剖视图。

参考图4,显示装置ED可以基于在第二方向DR2上延伸的折叠轴线FX折叠。在显示装置ED折叠的情况下,由显示装置ED的上表面U-ED限定的圆的半圆周IR可以是内半圆周IR。术语“半圆周”可以被定义为对应于圆周的一半的部分。在显示装置ED折叠的情况下,由显示装置ED的下表面B-ED限定的圆的半圆周OR可以是外半圆周OR。由显示装置ED的中间平面M-ED限定的圆的半圆周CR可以是中心半圆周CR。

中心半圆周CR可以对应于显示装置ED的内部结构不被拉伸或收缩的长度。例如,显示装置ED的设置在中心半圆周CR和内半圆周IR之间的内部结构可以收缩,并且显示装置ED的设置在中心半圆周CR和外半圆周OR之间的内部结构可以拉伸。相应地,显示装置ED的内部结构可需要拉伸或收缩的性能。

例如,可以要求由显示装置ED的上表面U-ED限定的圆的半径为大约1.5mm。在作为显示装置ED的内部结构中的一个的窗WD具有约400微米的厚度的情况下,覆盖层CL(参考图3A)可以在覆盖窗WD的情况下收缩或拉伸。与相关技术中的窗模块相比,折叠的窗模块WM可以具有改善的耐久性和减小的排斥力。窗WD的厚度和内半圆周IR已经作为示例进行了描述。窗WD的厚度和内半圆周IR可以根据显示装置ED的特性(例如,尺寸和厚度)而变化。

图5A是根据一实施例的弯曲的窗模块WM的一部分的剖视图。图5B是例示对应于图5A的区BB’的一部分的曲线图。在图5B中例示覆盖层CL变形之前的曲线图CL-B、覆盖层CL变形之后的曲线图CL-A、窗WD(参考图5A)变形之前的曲线图W-B以及窗WD变形之后的曲线图W-A。

参考图5A和图5B,在显示模块DM(参考图3A)和窗模块WM折叠(例如,处于折叠状态)的情况下,可以在第二覆盖层CL2中形成分别对应于第二槽HM2的凹槽CHM。例如,在折叠状态下,凹槽CHM可以分别朝向第二槽HM2凹入。凹槽CHM的深度D-CHM可以小于第二槽HM2的深度D-HM2。凹槽CHM的宽度和深度D-CHM可以根据第一槽HM1的位置、第二槽HM2的位置和弯曲程度而变化。

参考图3B,在显示模块DM和窗模块WM是平坦的平坦状态下,第一槽HM1可以具有第一宽度W1,并且第二槽HM2可以具有第三宽度W3。参考图5A,在显示模块DM和窗模块WM折叠的折叠状态下,第一槽HM1可以具有第二宽度W2,并且第二槽HM2可以具有第四宽度W4。第一槽HM1在折叠状态下的第二宽度W2可以小于第一槽HM1在平坦状态下的第一宽度W1。第二槽HM2在折叠状态下的第四宽度W4可以大于第二槽HM2在平坦状态下的第三宽度W3。

图6是例示根据一实施例的作为显示装置制造方法的一部分的窗模块制造方法的流程图。图7至图16B是例示根据一实施例的窗模块制造方法的各部分的示意图。

参考图3A、图6和图7,显示装置制造方法可以包括形成显示模块DM的步骤、形成窗模块WM的步骤以及将窗模块WM和显示模块DM彼此附接的步骤。然而,该顺序是说明性的,并且可以改变或修改形成显示模块DM的步骤和形成窗模块WM的步骤的顺序。下面将描述形成窗模块WM的过程。

可以将载体膜CAF设置在台ST上。可以将基底基板WD(例如,窗)设置在载体膜CAF上(S100)。基底基板WD可以包括第一表面S1、第二表面S2以及连接第一表面S1和第二表面S2的侧表面SS,第一槽HM1形成在第一表面S1上,第二槽HM2形成在第二表面S2上。

参考图6、图8A和图8B,可以将引导膜GF附接到载体膜CAF(S200)。可以在引导膜GF中形成围绕基底基板WD的开口HO,并且可以在引导膜GF的侧表面上提供流动通道FC。基底基板WD可以设置在引导膜GF的开口HO中。开口HO的深度可以大于或等于基底基板WD的高度(或厚度)。流动通道FC的深度可以小于开口HO的深度。流动通道FC可以是用于防止填充开口HO的材料溢出引导膜GF的上表面的部件。

参考图6以及图9至图12B,可以在基底基板WD上形成上初步覆盖层UCL_I(S300)。上初步覆盖层UCL_I可以覆盖第一表面S1和侧表面SS。

参考图6、图9、图10A和图10B,可以将第一树脂材料CL_I1施加到基底基板WD的第一表面S1。例如,第一树脂材料CL_I1可以均匀地施加到第一表面S1,并且第一树脂材料CL_I1的一部分可以填充引导膜GF的开口HO。施加到第一表面S1并填充开口HO的第一树脂材料CL_I1可以形成第一初步覆盖层CL1_I和第三初步覆盖层CL3_I。第一初步覆盖层CL1_I和第三初步覆盖层CL3_I可以形成上初步覆盖层UCL_I。

可以在第一树脂材料CL_I1上设置第一保护模块PM1。如图10A中所例示,第一保护模块PM1可以以一倾斜度设置在施加有第一树脂材料CL_I1的基底基板WD上。如图10B中所例示,第一保护模块PM1可以包括粘合层BL、保护层WPF、保护膜PPF和平面化基板FTW。

粘合层BL可以设置在保护层WPF和第一初步覆盖层CL1_I之间,并且可以将保护层WPF和第一初步覆盖层CL1_I彼此附接。附接到基底基板WD的保护层WPF可以保护设置在保护层WPF下面的部件。保护膜PPF可以设置在平面化基板FTW和保护层WPF之间,并且可以防止对保护层WPF的损坏。平面化基板FTW可以是设置在第一保护模块PM1的顶部处的部件。

第一保护模块PM1的上表面可以由辊RR滚压。例如,辊RR可以滚压平面化基板FTW的上表面。因此,保护层WPF可以设置成与第一树脂材料CL_I1紧密接触。通过使用平面化基板FTW,可以将恒定压力均匀地施加到施加有第一树脂材料CL_I1的整个表面。可以通过平面化工艺使第一初步覆盖层CL1_I和第三初步覆盖层CL3_I的上表面变平。滚压过程可以在腔室CHB中执行。腔室CHB的内部可以处于真空状态。

参考图6和图11,可以从保护层WPF去除平面化基板FTW。此时,还可以从保护层WPF去除保护膜PPF。设置在平面化基板FTW和保护层WPF之间的保护膜PPF可以防止在滚压过程和去除平面化基板FTW的过程中在保护层WPF上发生的刮擦。此后,可以倒置载体膜CAF、基底基板WD和保护层WPF,使得基底基板WD的第一表面S1和第二表面S2的位置可以互换。

参考图6、图12A和图12B,第一树脂材料CL_I1可以通过固化装置UVM固化。固化装置UVM可以朝向基底基板WD的第二表面S2发射紫外(UV)光。在第一树脂材料CL_I1暴露于UV光的情况下,可以固化第一树脂材料CL_I1。在固化装置UVM朝向第一表面S1施加UV光的情况下,UV光不可以穿过设置在保护层WPF上的挡光材料BM,从而第一树脂材料CL_I1的与挡光材料BM重叠的部分可以不固化。

根据一实施例,固化装置UVM可以朝向第二表面S2施加UV光。阻挡UV光的挡光材料BM可以不设置在第二表面S2上,并且因此可以固化所有的第一树脂材料CL_I1。固化的第一树脂材料CL_I1可以形成第一初步覆盖层CL1_I和第三初步覆盖层CL3_I。例如,固化的第一树脂材料CL_I1可以形成上初步覆盖层UCL_I。

参考图6以及图13A至图15B,可以在基底基板WD上形成下初步覆盖层CL2_I(S400)。下初步覆盖层CL2_I可以覆盖第二表面S2。

参考图6、图13A和图13B,可以从引导膜GF和基底基板WD去除载体膜CAF(参考图12B)。基底基板WD的第二表面S2可以暴露于外部。在形成下初步覆盖层CL2_I的过程中,保护层WPF可以用作后载体膜。

可以将第二树脂材料CL_I2施加到基底基板WD的第二表面S2。例如,第二树脂材料CL_I2可以均匀地施加到第二表面S2,并且第二树脂材料CL_I2的一部分可以施加到第三初步覆盖层CL3_I的上表面。施加到第二表面S2和第三初步覆盖层CL3_I的上表面的第二树脂材料CL_I2可以形成第二初步覆盖层CL2_I(参考图14B)。第二初步覆盖层CL2_I可以被称为下初步覆盖层CL2_I。

参考图6、图14A和图14B,可以在第二树脂材料CL_I2上设置第二保护模块PM2。如图14A中所例示,第二保护模块PM2可以以一倾斜度设置在施加有第二树脂材料CL_I2的基底基板WD上。如图14B中所例示,第二保护模块PM2可以包括离型纸膜RP、保护膜PPF和平面化基板FTW。

离型纸膜RP可以设置在第二初步覆盖层CL2_I上。离型纸膜RP可以临时附接,并且然后被去除。例如,在制造窗模块WM的情况下,离型纸膜RP可以附接到第二覆盖层CL2(参考图17),并且离型纸膜RP可以在将窗模块WM和显示模块DM彼此附接的步骤中被去除。保护膜PPF可以设置在平面化基板FTW和离型纸膜RP之间,并且可以防止对离型纸膜RP的损坏。平面化基板FTW可以是设置在第二保护模块PM2的顶部处的部件。

第二保护模块PM2的上表面可以由辊RR滚压。例如,辊RR可以滚压平面化基板FTW的上表面。因此,离型纸膜RP可以设置成与第二树脂材料CL_I2紧密接触。通过使用平面化基板FTW,可以将恒定压力均匀地施加到施加有第二树脂材料CL_I2的整个表面。滚压过程可以在腔室CHB中执行。腔室CHB的内部可以处于真空状态。

参考图6、图15A和图15B,可以从离型纸膜RP去除平面化基板FTW。此时,还可以从离型纸膜RP去除保护膜PPF。设置在平面化基板FTW和离型纸膜RP之间的保护膜PPF可以防止在滚压过程和去除平面化基板FTW的过程中可能发生的对窗模块WM的损坏。

第二树脂材料CL_I2可以通过固化装置UVM固化。固化装置UVM可以朝向基底基板WD的第二表面S2施加UV光。在第二树脂材料CL_I2暴露于UV光的情况下,可以固化第二树脂材料CL_I2。与固化第一树脂材料CL_I1(参考图9)的过程不同,在第二表面S2上可以不设置UV光不穿过的材料。可以在不倒置保护层WPF、基底基板WD和离型纸膜RP的情况下执行固化过程。固化的第二树脂材料CL_I2可以形成第二初步覆盖层CL2_I。例如,固化的第二树脂材料CL_I2可以形成下初步覆盖层CL2_I。

参考图6、图16A和图16B,可以沿着切割线CTL切割上初步覆盖层UCL_I的一部分和下初步覆盖层CL2_I的一部分(S500)。激光装置LBM可以施加激光束LB以执行切割。切割线CTL可以与侧表面SS间隔开。切割线CTL的长度可以长于基底基板WD的周长。例如,激光束LB可以施加到与第三初步覆盖层CL3_I重叠的区,并且可以不施加到基底基板WD。根据一实施例,通过在不切割基底基板WD的情况下切割第一初步覆盖层至第三初步覆盖层CL1_I、CL2_I和CL3_I,可以防止对基底基板WD的损坏。

图17是例示根据一实施例的窗模块WM和离型纸膜RP的示意性剖视图。图17的窗模块WM可以是通过参考图6至图16B描述的窗模块制造方法制造的窗模块WM。在描述图17时,将参考图3A进行描述,并且为了描述方便,将省略相同附图标记的冗余描述。

参考图17,窗模块WM可以包括保护层WPF、粘合层BL、窗WD和覆盖层CL。在覆盖层CL具有优异的粘合力的情况下,可以省略粘合层BL。例如,窗模块WM可以包括保护层WPF、窗WD和覆盖层CL。

覆盖层CL可以包括上覆盖层UCL和下覆盖层CL2。上覆盖层UCL可以包括第一覆盖层CL1和第三覆盖层CL3。上覆盖层UCL可以通过切割第一初步覆盖层CL1_I(参考图16B)的一部分和第三初步覆盖层CL3_I(参考图16B)的一部分来形成。下覆盖层CL2可以被称为第二覆盖层CL2。下覆盖层CL2可以通过切割第二初步覆盖层CL2_I(参考图16B)的一部分来形成。

根据一实施例制造的窗模块WM的冲击强度可以通过笔掉落评价或两点弯曲评价来测量。

笔掉落评价可以是将待评价的窗模块WM放置在花岗岩板上并且在通过使样品掉落而失效的情况下测量高度的评价方法。与相关技术中的窗的失效高度相比,窗模块WM的折叠区FA(参考图3A)的失效高度可以增加约10cm或更多。由于窗模块WM具有由第一槽HM1和第二槽HM2形成的图案结构,因此基于折叠部分,失效高度可以为约29cm,并且由于窗模块WM具有覆盖层CL覆盖图案结构的结构,因此失效高度可以增加约1cm至约4cm。例如,其中覆盖层CL覆盖图案结构的窗模块WM可以具有约30cm至约33cm的失效高度。窗模块WM的结构可以减轻冲击量,并且因此可以改善抗冲击性。

在笔掉落评价中,样品可以具有约5.8g的重量并且可以具有球形状,该球形状具有约0.3mm的直径。然而,样品的形状和重量不限于此。此外,窗模块WM的第一非折叠区NFA1和第二非折叠区NFA2的失效高度可以为约1m或更多。

两点弯曲评价是将折叠的窗模块WM放置在两个板之间并且在减小两个板之间的间隙的情况下测量断裂内径和排斥力的评价方法。在窗模块WM具有约1.5mm的内径的情况下,与相关技术中的窗相比,窗模块WM可以实现低排斥力和断裂内径的减小。例如,具有约200微米至约400微米的厚度的窗模块WM可以具有与相关技术中具有约30微米的厚度的窗WD的排斥力相似或比其低的排斥力。

如上所述,第一槽HM1和第二槽HM2可以形成在窗WD中并与折叠区FA重叠。因此,可以减小在显示装置ED的折叠状态下施加到折叠区FA的排斥力,并且可以增加张力。

具有与窗WD的折射率相似的折射率的覆盖层CL可以覆盖窗。因此,形成在窗WD中的第一槽HM1和第二槽HM2可从外部不可见。例如,覆盖层CL可以具有围绕窗WD的结构。因此,可以改善窗模块WM的抗冲击性,并且厚的窗模块WM可以具有低排斥力。

在总结详细描述时,本领域技术人员将理解,在基本上不脱离本公开的原理和精神以及范围的情况下,可以对实施例进行许多变化和修改。因此,所公开的实施例仅在一般和描述性意义上使用,而不是为了限制的目的。

相关技术
  • 有机发光显示装置和用于制造有机发光显示装置的光掩模
  • 一种显示装置的制造方法、修复方法和显示装置
  • 发光元件、显示装置及发光元件与显示装置的制造方法
  • 显示装置及制造该显示装置的方法
  • 一种显示模组、显示装置及显示装置的制造方法
  • 显示装置用基板、显示装置用基板的制造方法、显示装置、液晶显示装置、液晶显示装置的制造方法和有机电致发光显示装置
  • 显示装置用基板、显示装置用基板的制造方法、显示装置、液晶显示装置、液晶显示装置的制造方法和有机电致发光显示装置
技术分类

06120116485563