一种抗污釉料、抗污陶瓷制品及其制备方法

技术领域

本发明属于釉料领域，尤其涉及一种抗污釉料、抗污陶瓷制品及其制备方法。

背景技术

陶瓷制品种类繁多，包括陶瓷砖、陶瓷餐具、陶瓷洁具等等，是美好生活的必须品，人们在享受它所带来的便利时，也广泛的存在一些问题，影响着美感。传统的陶瓷制品，特别是卫生类陶瓷制品在使用一段时间后，产品的表面容易产生一层污渍，经过时间的积累污渍渗入到釉层里面，无论使用什么清洁剂都无法清除干净。产生这种情况的主要原因是传统陶瓷制品的生产工艺决定的，传统的陶瓷制品的表层釉料在高温煅烧过程中，产生许多细小毛孔，在使用过程中，许多灰尘污水会经过这些细微毛孔渗入到釉层中形成污渍，影响了美感，甚至散发出异味，降低了生活质量。

目前市场上常见的易洁釉、智洁釉只是比传统釉料相对更容易清洗而已，但仍无法具备抗污效果，使用时间长了仍然容易吸污形成污渍，这也是因为这些易洁釉、智洁釉并未从根本解决技术问题。因此，提出一种具备抗污效果的陶瓷制品将拥有较大的市场前景。

发明内容

本发明的目的是解决现有技术的不足，提供一种抗污釉料，为了实现上述目的，本发明采用以下的技术方案：

一种抗污釉料，其原料按照重量百分比计包括：SiO

发明人经过无数次的试验和改进提高，终于研发出一种新型洁净抗污釉，产品经过高温烧成后，釉面平整亮泽细腻，质感晶莹柔滑，解决了传统陶瓷制品表面的釉面细微毛孔藏污纳垢的技术难题，达到冲水抺试就可洁净如新的效果。

在一些优选的实施情况中，上述抗污釉料的原料按照重量百分比计包括：SiO

在一些优选的实施情况中，上述抗污釉料的原料按照重量百分比计包括：SiO

在一些优选的实施情况中，上述抗污釉料的原料按照重量百分比计包括：SiO

在一些优选的实施情况中，上述抗污釉料的原料中的所述ZnO和所述SrO均为纳米级。采用纳米级的ZnO和SrO一方面能够进一步提高釉面的致密性，另一方面能够使得釉面具有一定的抗菌性能。

本发明还提出了一种抗污陶瓷制品，包括坯体层和抗污釉层，所述抗污釉层由上述抗污釉料烧制而成。所述陶瓷制品包括陶瓷砖、陶瓷洁具、陶瓷餐具，还可以是其它任意陶瓷制品。

本发明还提供了一种抗污陶瓷制品的制备方法，包括以下步骤：

S1、按照重量百分比取权利要求1至5任一项所述的抗污釉料的原料，混合得到预混物，将所述预混物、球石和水按照(1.2～1.4)：1：(0.7～0.9)的质量比混合研磨得到釉浆；

S2、在坯体上布施所述釉浆，烧制即得所述抗污陶瓷制品。

其中，步骤S2中，烧制时间为75～90min，烧制温度为1250～1340℃；在步骤S2之前，预先将所述釉浆过320目筛。

本发明的有益效果为：本发明提出的新型抗污釉料制成的釉面平整亮泽细腻，质感晶莹柔滑，紧密度高，抗污效果优异，用户清洁方便；可以适用于陶瓷砖和陶瓷洁具等广泛的陶瓷制品中。

具体实施方式

以下将结合实施例对本发明的构思及产生的技术效果进行清楚、完整的描述，以充分地理解本发明的目的、方案和效果。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

实施例1：

一种抗污釉料，其原料按照重量百分比计包括：SiO

一种抗污陶瓷砖，包括坯体层和抗污釉层，该抗污釉层由本实施例的抗污釉料烧制而成，具体过程如下：

S1、将本实施例的抗污釉料的原料按照重量百分比混合得到预混物，将预混物、球石和水按照1.3：1：0.8的质量比混合研磨得到釉浆；

S2、将S1的釉浆过320目筛，然后布施在坯体上，烧制制得该抗污陶瓷砖；其中，烧制时间为85min，烧制温度为1320℃。

实施例2：

一种抗污釉料，其原料按照重量百分比计包括：SiO

一种抗污陶瓷砖，包括坯体层和抗污釉层，该抗污釉层由本实施例的抗污釉料烧制而成，具体过程如下：

S1、将本实施例的抗污釉料的原料按照重量百分比混合得到预混物，将预混物、球石和水按照1.2：1：0.9的质量比混合研磨得到釉浆；

S2、将S1的釉浆过320目筛，然后布施在坯体上，烧制制得该抗污陶瓷砖；其中，烧制时间为82min，烧制温度为1285℃。

实施例3：

一种抗污釉料，其原料按照重量百分比计包括：SiO

一种抗污陶瓷砖，包括坯体层和抗污釉层，该抗污釉层由本实施例的抗污釉料烧制而成，具体过程如下：

S1、将本实施例的抗污釉料的原料按照重量百分比混合得到预混物，将预混物、球石和水按照1.4：1：0.7的质量比混合研磨得到釉浆；

S2、将S1的釉浆过320目筛，然后布施在坯体上，烧制制得该抗污陶瓷砖；其中，烧制时间为78min，烧制温度为1335℃。

对比例1：

一种釉料，其原料按照重量百分比计包括：SiO

根据本对比例的釉料制得一种陶瓷砖，包括坯体层和釉层，该釉层由本对比例的釉料烧制而成，具体过程如下：

S1、将本对比例的釉料的原料按照重量百分比混合得到预混物，将预混物、球石和水按照1.2：1：0.9的质量比混合研磨得到釉浆；

S2、将S1的釉浆过320目筛，然后布施在坯体上，烧制制得该陶瓷砖；其中，烧制时间为80min，烧制温度为1300℃。

对比例2：

一种釉料，其原料按照重量百分比计包括：SiO

根据本对比例的釉料制得一种陶瓷砖，包括坯体层和釉层，该釉层由本对比例的釉料烧制而成，具体过程如下：

S1、将本对比例的釉料的原料按照重量百分比混合得到预混物，将预混物、球石和水按照1.2：1：0.9的质量比混合研磨得到釉浆；

S2、将S1的釉浆过320目筛，然后布施在坯体上，烧制制得该陶瓷砖；其中，烧制时间为83min，烧制温度为1320℃。

对比例3：

一种釉料，其原料按照重量百分比计包括：SiO

根据本对比例的釉料制得一种陶瓷砖，包括坯体层和釉层，该釉层由本对比例的釉料烧制而成，具体过程如下：

S1、将本对比例的釉料的原料按照重量百分比混合得到预混物，将预混物、球石和水按照1.2：1：0.9的质量比混合研磨得到釉浆；

S2、将S1的釉浆过320目筛，然后布施在坯体上，烧制制得该陶瓷砖；其中，烧制时间为83min，烧制温度为1320℃。

效果实施例：

将现有技术中的易洁陶瓷砖作为对比例4，现有技术中的普通陶瓷砖作为对比例5；对实施例1～3制得的陶瓷砖、对比例1～5得到的陶瓷砖分别进行吸污测试、光泽度测试和防污等级测定，保持所有陶瓷砖均为10*10cm大小，厚度一致。

其中，光泽度测试采用光泽度计检测；吸污测试的测试方法为：在各个陶瓷砖釉面层上涂抹墨水，使用橡胶手套涂抹5分钟，等墨水阴干后使用清水冲洗，擦干，查看吸污点数；防污等级测定按照GB/T3810.14-2006这一标准进行，一共5个等级，1级抗污效果最差，5级抗污效果最好。

具体结果如表1所示：

表1

由表1可知，相比于对比例1～5制得的陶瓷砖，采用本发明的抗污釉料制得的抗污陶瓷砖，即实施例1～3制得的陶瓷砖，其吸污点数明显更少，几乎没有，光泽度也是保持在115～118GU之间，防污等级也是达到了最高的5级，这也表明本发明制得的釉面紧密度高，抗污效果优异，从外观上也可以看出釉面平整亮泽细腻，质感晶莹柔滑，保持靓丽外观的同时，也使得用户清洁更加方便。

此外，对比例1～3中釉料的原料与本发明中的抗污釉料的原料主体相同，相比于本发明的抗污釉料的配方，其区别在于：

对比例1中对SiO

对比例2中对SiO

对比例3中删去了纳米级SrO和纳米级ZnO，并添加了一定量釉料行业内常用的原料Fe

但从表1可以看出，对比例1～3制得的陶瓷砖的抗污性能和光泽度与完全采用本发明的抗污釉料的配方制得的陶瓷砖(即实施例1～3制得的陶瓷砖)之间还是存在一定的差距的，这充分说明了本发明提出的抗污釉料的配方，其原料及其用量都是特定的，随意改变会造成性能的骤降。

以上所述，只是本发明的较佳实施例而已，本发明并不局限于上述实施方式，只要其以相同的手段达到本发明的技术效果，都应属于本发明的保护范围。在本发明的保护范围内其技术方案和/或实施方式可以有各种不同的修改和变化。