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利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒及其制备方法

文献发布时间:2023-06-19 11:16:08


利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒及其制备方法

技术领域

本发明是一种利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒的方法,属于液晶屏技术领域。

背景技术

铜具有优异的电学和低阻抗性能,并且在通电状态下,分子结构稳定性高,不容易被电腐蚀,所以被广泛的应用于电子产品的布线设计当中。传统射频器件具有体积大、笨重、机械转动容易损坏、成本高的问题也难以满足如车载/飞机等新应用的需求。液晶盒具有体积小,结构轻而简单,功耗小,且液晶具有可控的光电效应等特点。使用液晶的特点制作的器件可以优化传统的射频器件原有的缺点。通常液晶盒内使用的导电材料为氧化铟锡(ITO)。但氧化铟锡导电性能不能满足射频器件中所需的分子结构稳定,抗腐蚀的需求。这样,我们采用在玻璃基板的双面进行镀铜,再对玻璃基板的上下铜层进行光学刻蚀得到所需的图案,实现使用铜玻璃基板制作的液晶盒。

发明内容

本发明提出的是一种利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒的方法,其目的在于针对现有技术存在的缺陷,提出一种针对现有技术存在的缺陷,提出一种更准确,辐射面更广的四层铜结构液晶盒。

本发明的技术解决方案:用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒,其结构包括上玻璃基板1、框胶2、下玻璃基板3、下玻璃上铜层4、液晶相层 5、下配向膜6、下玻璃下铜层7、上玻璃上铜层 8、 上配向膜 9、 上玻璃下铜层 10,所述上玻璃基板和下玻璃基板通过框胶固定成玻璃液晶盒,上玻璃基板上是上玻璃上铜层,上玻璃基板下是上玻璃下铜层,下玻璃基板上是下玻璃上铜层,下玻璃基板下是下玻璃下铜层,上玻璃下铜层和下玻璃上铜层分别涂布有上配向膜和下配向膜,所述上配向膜与下配向膜之间是液晶相层。所述玻璃液晶盒的厚度为4.0 um。

利用四次光刻工艺分别对上基板玻璃的上表面铜层和下表面铜层,下基板玻璃的上表面铜层和下表面铜层进行刻蚀形成所设计的图案;在光刻其中一枚基板的其中一表面铜层时,需通过耐酸耐碱膜把另一面铜层进行保护后,方可刻蚀,这样依次进行四次曝光刻蚀形成四层铜层的玻璃基板;最后再通过带有铜层的玻璃基板组成液晶盒。

所述的上玻璃上铜层与上玻璃下铜层利用在光罩上设计MARK进行套合刻蚀成所需要图案,下玻璃上铜层与下玻璃下铜层利用在光罩上设计MARK进行套合刻蚀成所需要图案,

本发明的有益效果:

适用于射频电子的组成器件,由于液晶通过铜层能够被精确的控制,所以使射频器件的电信号更准确,辐射面更广。铜层刻蚀工艺比较成熟,利用现有液晶生产线,更换刻蚀液就可以实现,利于批量生产。

附图说明

附图1是利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒的方法制作的液晶屏示意图。

附图2是保护铜层结构示意图。

图中1是上玻璃基板、2是框胶、3是下玻璃基板、4是下玻璃上铜层、5是液晶相层、6是下配向膜、7是下玻璃下铜层、8是上玻璃上铜层、9是上配向膜 、10是上玻璃下铜层、11是耐酸耐碱膜。

具体实施方式

通过在玻璃基板的双面进行镀铜,再对上基板玻璃的上表面铜层和下表面铜层,下基板玻璃的上表面铜层和下表面铜层进行刻蚀形成所设计的图案,组成的四层铜结构液晶盒。在光刻其中一枚玻璃基板的其中一表面铜层时,需通过耐酸耐碱膜把另一面铜层进行保护后,方可刻蚀。然后对玻璃基板另一面进行刻蚀时,需把已刻蚀的图案使用耐酸耐碱膜进行保护。另外,玻璃基板上下两面铜层的图案刻蚀时,需通过在光罩上设计的MARK进行套合刻蚀,便于满足玻璃基板上下表面铜层图案的位置精度需求。一枚玻璃基板上下表面铜层刻蚀完成后,再进行另一枚玻璃基板上下表面铜层刻蚀。这样利用四次光刻工艺制作四层铜层的玻璃基板。最后再通过带有铜层的玻璃基板组成液晶盒。

下面结合附图对本发明技术方案进一步说明

如附图1、2所示,利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒的方法制作的液晶屏示意图和保护铜层结构示意图。其结构包括上玻璃基板1、框胶2、下玻璃基板3、下玻璃上铜层4、液晶相层 5、下配向膜6、下玻璃下铜层 7、上玻璃上铜层 8、 上配向膜 9、 上玻璃下铜层 10、 耐酸耐碱膜 11 。

其中上玻璃基板 1 和下玻璃基板 3 通过框胶 2 固定构成盒的厚度为4.0 um玻璃液晶盒,上玻璃基板 1 上是上玻璃上铜层8 ,上玻璃基板 1 下是上玻璃下铜层 10 ,下玻璃基板 3 上是下玻璃上铜层 4 ,下玻璃基板 3 下是下玻璃下铜层 7,所述的上玻璃上铜层 8与上玻璃下铜层 10 利用在光罩上设计MARK进行套合刻蚀成所需要图案,下玻璃上铜层4 与下玻璃下铜层 7也需利用在光罩上设计MARK进行套合刻蚀成所需要图案(在刻蚀上铜层时,需通过耐酸耐碱膜 11 把下铜层进行保护,上铜层刻蚀完成后,把下铜层上的耐酸耐碱膜 11 去除,然后刻蚀下铜层时,上铜层也需耐酸耐碱膜 11 保护,下铜层刻蚀完成后,把上铜层上的耐酸耐碱膜 11 去除)。分别在上玻璃基板 1 下的上玻璃下铜层 10 和下玻璃基板 3 上的下玻璃上铜层4 涂布上配向膜 9和下配向膜 6。上配向膜 9与下配向膜 6之间是液晶相层 5。

相关技术
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技术分类

06120112860687