显示面板及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)以其大尺寸、高度集成、功能强大、工艺灵活、低成本等优势而广泛地应用于电视、手机、电脑等领域，成为了平板显示器的主流。液晶显示面板，简称液晶面板，是TFT-LCD的主要部件，通常由一彩膜基板(ColorFilter，CF)、一薄膜晶体管阵列基板(Thin FilmTransistor Array Substrate，TFTArray Substrate)以及一灌装于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。

在阵列基板的生产过程中，受生产工艺及外部环境的影响，薄膜晶体管中会存在一些金属碎屑或异物等残留物，导致受该薄膜晶体管驱动的像素在显示时成为亮点，进而使得显示面板的画面显示异常。因此，通常需要对显示异常的像素进行暗点化修补，以改善显示面板的显示质量。目前，阵列基板的暗点化修补手法为：采用镭射工艺切断显示异常像素对应的薄膜晶体管的信号输入，使得显示异常像素对应的液晶无法偏转，进而实现暗点化。

请参照图1以及图2，在具有数据线共享(Data Line Sharing，DLS)架构的显示器中，相邻的两个子像素P1和P2分别通过晶体管T1和T2进行信号输入，晶体管T1和T2共用一根数据线D，且分别连接不同的两根扫描线G，且晶体管T1通过较短的连接体a连接于子像素P1，晶体管T2通过较长的连接体b连接于子像素P2；当子像素P1或P2发生异常时，需要对子像素P1或P2进行暗点化修补时，在背光下，观察到的结构图如图2所示，其中包括与晶体管T1的漏极T11以及晶体管T2的漏极T21，而与漏极连接的像素电极由于是透明材料制成(例如ITO)，无法观察到，进而从观察到的图2中无法判断漏极T11和T21分别连接的是哪个子像素，进而无法准确有效的对子像素P1或P2进行暗点化修补。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法，能够提高修补成功率以及修补效率。

本发明实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括多个像素功能区，且每一所述像素功能区皆包括相邻的一第一子像素区和一第二子像素区；

所述显示面板还包括：

基板；

第一导通层；设置于所述基板的一侧，并包括位于所述像素功能区内且至少设置于所述第一子像素区周侧的第一公共信号部；

第二导通层，设置于所述第一导通层远离所述基板的一侧，并包括设置于各所述像素功能区内的第一漏极与第二漏极，在每一所述像素功能区内，所述第一漏极到所述第一子像素区的距离小于所述第一漏极到所述第二子像素区的距离，所述第二漏极到所述第一子像素区的距离小于所述第二漏极到所述第二子像素区的距离；

像素电极层，设置于所述第二导通层远离所述第一导通层的一侧，所述像素电极层包括设置于所述第一子像素区内的第一像素电极以及设置于所述第二子像素区内的第二像素电极；

其中，所述第一漏极与所述第一像素电极电性连接，所述第二漏极与所述第二像素电极电性连接，且所述第一公共信号部靠近各所述第一漏极处皆设置有标记结构。

在本发明的一种实施例中，多个所述像素功能区沿第一方向与第二方向呈阵列排布，且所述第一方向与所述第二方向相异，每一所述像素功能区内，一所述第一子像素区与一所述第二子像素区沿所述第一方向相邻设置；

其中，任一所述第一漏极以及任一所述第二漏极皆沿所述第二方向与所述第一子像素区相邻设置，且在每一所述像素功能区内，所述第一漏极与所述第二漏极分别位于所述第一子像素区的相对两侧，所述标记结构沿所述第二方向设置于所述第一公共信号部靠近所述第一漏极的一侧。

在本发明的一种实施例中，在每一所述像素功能区内，所述第一公共信号部围绕所述第一子像素区和所述第二子像素区设置，并包括位于所述第一子像素区与所述第二子像素区之间的第一子部，所述标记结构设置于所述第一子部靠近所述第一漏极的一侧。

在本发明的一种实施例中，沿所述第一方向相邻的两所述第一子部上的两所述标记结构呈轴对称分布，或者呈中心对称分布。

在本发明的一种实施例中，沿所述第二方向相邻的两所述第一子部中，其中一所述第一子部设有所述标记结构的一侧与另一所述第一子部设有所述标记结构的一侧相对设置，或者相背设置。

在本发明的一种实施例中，所述标记结构包括设置于所述第一子部上的凸起，所述凸起沿所述第一方向上的长度小于或等于所述第一子部沿所述第一方向上的宽度，且所述凸起的材料与所述第一子部的材料相同。

在本发明的一种实施例中，所述第一导通层还包括沿所述第一方向延伸且沿所述第二方向排列的多个扫描线，任一所述扫描线位于沿所述第二方向相邻的所述像素功能区之间，且所述凸起远离所述第一子部的一端到所述扫描线任一位置的距离大于或等于6微米。

在本发明的一种实施例中，所述像素电极层包括多个第一连接部以及多个第二连接部，且一所述第一连接部连接于一所述第一像素电极与一所述第一漏极之间，一所述第二连接部连接于一所述第二像素电极与一所述第二漏极之间；

其中，所述标记结构在所述基板上的正投影与所述第一连接部在所述基板上的正投影、所述第二连接部在所述基板上的正投影皆不重叠。

根据本发明的上述目的，提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括多个像素功能区，且每一所述像素功能区皆包括相邻的一第一子像素区和一第二子像素区；

所述显示面板的制作方法包括以下步骤：

提供基板；

在所述基板的一侧形成第一导通层，所述第一导通层包括位于所述像素功能区内且至少设置于所述第一子像素区周侧的第一公共信号部，所述第一公共信号部上设置有标记结构；

在所述第一导通层远离所述基板的一侧形成第二导通层，所述第二导通层包括设置于各所述像素功能区内的第一漏极与第二漏极，在每一所述像素功能区内，所述第一漏极到所述第一子像素区的距离小于所述第一漏极到所述第二子像素区的距离，所述第二漏极到所述第一子像素区的距离小于所述第二漏极到所述第二子像素区的距离，且所述标记结构位于所述第一公共信号部靠近各所述第一漏极的一侧；

在所述第二导通层远离所述第一导通层的一侧形成像素电极层，所述像素电极层包括设置于所述第一子像素区内的第一像素电极以及设置于所述第二子像素区内的第二像素电极，其中，所述第一漏极与所述第一像素电极电性连接，所述第二漏极与所述第二像素电极电性连接。

在本发明的一种实施例中，所述显示面板的制作方法还包括以下步骤：

检测所述显示面板的显示状态，并获取显示异常的修补子像素区；

获取所述修补子像素区所在的所述像素功能区内的所述标记结构的位置；

识别靠近所述标记结构的所述第一漏极以及与所述第一漏极对应的所述第一子像素区；

若所述修补子像素区为所述第一子像素区，则切断所述第一漏极的信号传输通道，若所述修补子像素区为所述第二子像素区，则切断所述第二漏极的信号传输通道。

本发明的有益效果：本发明通过在第一公共信号部靠近第一漏极处设置标记结构，进而在修补过程中，可以通过识别标记结构，来获取靠近标记结构处的第一漏极，获取像素功能区内距离第一漏极较近的第一子像素区，以及确定第二漏极以及与第二漏极对应的第二子像素区，进而可以准确的对第一子像素区或第二子像素区进行暗点化修补，提高了暗点化修补的成功率以及修补效率。

附图说明

下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为现有的显示面板的一种DLS架构平面分布示意图；

图2为现有的显示面板的一种DLS架构走线器件分布示意图；

图3为本发明实施例提供的显示面板的一种平面分布结构示意图；

图4为本发明实施例提供的显示面板的另一种平面分布结构示意图；

图5为本发明实施例提供的显示面板的一种制作方法流程图；

图6为本发明实施例提供的显示面板的暗点化修补结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

本发明实施例提供一种显示面板，请参照图3以及图4，该显示面板包括多个像素功能区101，且每一像素功能区101皆包括相邻的一第一子像素区1011和一第二子像素区1012。

进一步地，该显示面板还包括基板(图中并未示出)、第一导通层20、第二导通层30以及像素电极层40；第一导通层20设置于基板的一侧，并包括位于像素功能区101内且至少设置于第一子像素区1011周侧的第一公共信号部21；第二导通层30设置于第一导通层20远离基板的一侧，并包括设置于各像素功能区101内的第一漏极31与第二漏极32，在每一像素功能区101内，第一漏极31到第一子像素区1011的距离小于第一漏极31到第二子像素区1012的距离，第二漏极到32到第一子像素区1011的距离小于第二漏极32到第二子像素区1012的距离；像素电极层40设置于第二导通层30远离第一导通层20的一侧，像素电极层40包括设置于第一子像素区1011内的第一像素电极41以及设置于第二子像素区1012内的第二像素电极42。

其中，第一漏极31与第一像素电极41电性连接，第二漏极32与第二像素电极42电性连接，且第一公共信号部21靠近各第一漏极31处皆设置有标记结构25。

在实施应用过程中，本发明实施例通过在第一公共信号部21靠近第一漏极31的一侧设置标记结构25，进而在修补过程中，可以通过识别标记结构25，来获取靠近标记结构25处的第一漏极31，获取像素功能区101内距离第一漏极31较近的第一子像素区1011，以及确定第二漏极32以及与第二漏极32对应的第二子像素区1012，进而可以准确的对第一子像素区1011或第二子像素区1012进行修补，提高了修补的成功率以及修补效率。

具体地，请继续参照图3以及图4，该显示面板包括多个像素功能区101，且每一像素功能区101皆包括相邻的一第一子像素区1011和一第二子像素区1012，该显示面板包括多个第一子像素区1011以及多个第二子像素区1012。

在本发明实施例中，设定相互垂直的第一方向X与第二方向Y，多个像素功能区101沿第一方向X与第二方向Y呈阵列排布，则多个第一子像素区1011与多个第二子像素区1012也沿第一方向X以及第二方向Y呈阵列排布，且在每一像素功能区101内，第一子像素区1011与第二子像素区1012沿第一方向X相邻设置。

该显示面板还包括基板、设置于基板上的第一导通层20、设置于第一导通层20上的第二导通层30以及设置于第二导通层30上的像素电极层40。

其中，第一导通层20包括沿第一方向X延伸且沿第二方向与排列的多个扫描线23、与各扫描线23电性连接的栅极24、围绕各第一子像素区1011以及各第二子像素区1012的第一公共信号部21、以及位于各第一子像素区1011和各第二子像素区1012内并连接第一公共信号部21的第二公共信号部22。可以理解的是，扫描线23用于传输扫描信号至栅极24中，而第一公共信号部21与第二公共信号部22内可以传输公共电压信号，且第一公共信号部21与第二公共信号部22相互连接以形成网状结构分布于基板上。

第二导通层30包括沿第二方向Y延伸且沿第一方向X排列的多个数据线33、多个源极34、多个第一漏极31以及多个第二漏极32，其中，每一像素功能区101位于相邻的两个数据线33之间；在每一像素功能区101内设置有一栅极24、一源极34、一第一漏极31以及一第二漏极32，且上述一栅极24、一源极34、一第一漏极31以及一第二漏极32皆位于第一子像素区1011以及第二子像素区1012以外，以避免栅极24、源极34、第一漏极31以及第二漏极32对第一子像素区1011以及第二子像素区1012的透光造成影响，且在每一像素功能区101内，第一漏极31与第二漏极32皆与第一子像素区1011相邻设置，即第一漏极31到第一子像素区1011的距离小于第一漏极31到第二子像素区1012的距离，第二漏极32到第一子像素区1011的距离小于第二漏极32到第二子像素区1012的距离。

优选的，在每一像素功能区101内，第一漏极31与第二漏极32沿第二方向Y与第一子像素区1011相邻设置，且第一漏极31以及第二漏极32沿第二方向Y分别位于第一子像素区1011的相对两侧。

像素电极层40包括多个像素电极，且多个像素电极包括多个第一像素电极41以及多个第二像素电极42，其中，每一第一像素电极41皆对应设置于一第一子像素区1011内，每一第二像素电极42皆对应设置于一第二子像素区1012内。在本发明实施例中，在每一像素功能区101内，第一漏极31与第一像素电极41电性连接，第二漏极32与第二像素电极42电性连接；且像素电极层40还包括多个第一连接部43和多个第二连接部44，且每一第一连接部43连接于对应的一第一漏极31和第一像素电极41之间，每一第二连接部44连接于对应的一第二漏极32和一第二像素电极42之间；具体地，第一连接部43的一端连接于第一像素电极41，另一端通过过孔45连接于第一漏极31，第二连接部43的一端连接于第二像素电极42，另一端通过过孔45连接于第二漏极32。

在本发明实施例中，在每一像素功能区101内，第一漏极31和第二漏极32沿第二方向Y位于第一子像素区1011的相对两侧，则第一漏极31到第一子像素区1011的距离小于第一漏极31到第二子像素区1012的距离，第二漏极32到第一子像素区1011的距离小于第二漏极32到第二子像素区1012的距离，即第一漏极31与第一像素电极41之间的连接距离小于第二漏极32与第二像素电极42之间的连接距离，对应的，第一连接部43沿第一方向X上的长度小于第二连接部44沿第一方向X上的长度。

但是，在显示进行暗点化修补过程中，由于像素电极层40需要满足透光需求，一般为透明导电材料制成，进而在背光下所观察到的图像如图3所示，无法观察到像素电极层40，进而无法判断第一漏极31、第二漏极32与第一子像素区1011、第二子像素区1012之间的连接关系。在本发明实施例中，在第一公共信号部21靠近第一漏极31处设置标记结构25，即在每一像素功能区101内，第一漏极31到标记结构25的距离小于第二漏极32到标记结构25的距离，且标记结构25沿第二方向Y设置于第一公共信号部21靠近第一漏极31的一侧，且远离第二漏极32的一侧，进而可以通过获取标记结构25的位置，以识别靠近标记结构25处的为第一漏极31，即第一漏极31与其相邻的一子像素区(即第一子像素区1011)为对应关系，而第二漏极32与另一子像素区(即第二子像素区1012)为对应关系。

进一步地，第一公共信号部21包括位于第一子像素区1011和第二子像素区1012之间的第一子部211，且标记结构25设置于第一子部211靠近第一漏极31的一侧。

可选的，标记结构25包括设置于第一子部211靠近第一漏极31一侧的凸起251，且凸起251沿第一方向X上的长度小于或等于第一子部211沿第一方向X上的宽度，且凸起251的材料与第一子部211的材料相同，即凸起251可与第一子部211一体成型设置。

在本发明的其他实施例中，标记结构25也可为设置于第一子部211靠近第一漏极31一侧的凹部，且凹部的形状与尺寸在此不作限定。

在本发明实施例中，任一扫描线23设置于沿第二方向Y相邻的两个像素功能区101之间，沿第二方向Y相邻的两个像素功能区101之间设置有两条扫描线23，且其中一条扫描线23用于连接一个像素功能区101中的栅极24，另一条扫描线23用于连接另一个像素功能区101中的栅极24。

需要说明的是，第一子部211靠近第一漏极31的一侧设置有标记结构25，即标记结构25同样设置于第一子部211靠近扫描线23的一侧，在本发明实施例中，标记结构25到扫描线23任一位置的距离小于或等于6微米，有标记结构25与第一子部211相连接，则标记结构25与第一子部211上加载有相同的电信号，进而本发明实施例中将标记结构25与扫描线23设置得较远，以防止标记结构25与扫描线23之间发生信号串扰。进一步地，标记结构25在基板上的正投影与第一连接部43在基板上的正投影、第二连接部44在基板上的正投影不重叠，以避免产生寄生电容和产生信号串扰。

在本发明实施例中，沿第一方向X相邻的两个像素功能区101之间，其中一像素功能区101内的第一子像素区1011与另一像素功能区101内的第二子像素区1012相邻设置，即在沿第一方向X排列的多个像素功能区101内，一第一子像素区1011与一第二子像素区1012交替排布；沿第二方向Y相邻的两个像素功能区101之间，其中一像素功能区101内的第一子像素区1011与另一像素功能区101内的第二子像素区1012相对设置，其中一像素功能区101内的第二子像素区1012与另一像素功能区101内的第一子像素区1011相对设置。

其中，沿第一方向X相邻的两第一子部211上的两标记结构25呈轴对称分布，或者呈中心对称分布。沿第二方向Y相邻的两第一子部211中，其中一第一子部211设有标记结构25的一侧与另一第一子部211设有标记结构25的一侧相对设置，或者相背设置，或者其中一第一子部211设有标记结构25的一侧与另一第一子部211没有设置标记结构25的一侧相对设置。

需要说明的是，本发明实施例提供的显示面板可为具有DLS架构的显示面板，其中，每一像素功能区101皆位于相邻的两个数据线33之间，每一像素功能区101内的第一子像素区1011和第二子像素区1012均对应连接于同一数据线33，沿第一方向X相邻的两个像素功能区101分别对应连接相邻的两个数据线33，且每一像素功能区101内的第一子像素区1011和第二子像素区1012分别对应连接的两个不同的扫描线23，且该两个不同的扫描线23分别沿第二方向Y位于像素功能区101的相对两侧，沿第二方向Y相邻的两个像素功能区101内的第一子像素区1011和第二子像素区1012分别对应连接相邻的两个数据线33。可以理解的是，上述描述中第一子像素区1011和第二子像素区1012对应连接数据线33或扫描线23，表示的是第一子像素区1011对应的源极34和第二子像素区1012对应的源极34连接于对应的数据线33，或者第一子像素区1011对应的栅极24和第二子像素区1012对应的栅极24连接于对应的扫描线23。

此外，标记结构25不限于设置在第一子部211靠近第一漏极31的一侧，在本发明的其他实施例中，当第一漏极31和第二漏极32位于第一子像素区1011的相对两侧时，标记结构25设置于第一公共信号部21靠近第一漏极31的一侧，并可位于该侧的任意位置上，以作为识别第一漏极31的标记。

承上，本发明实施例通过在第一公共信号部21靠近第一漏极31的一侧设置标记结构25，进而在修补过程中，可以通过识别标记结构25，来获取靠近标记结构25处的第一漏极31，获取像素功能区101内距离第一漏极31较近的第一子像素区1011，以及确定第二漏极32以及与第二漏极32对应的第二子像素区1012，进而可以准确的对第一子像素区1011或第二子像素区1012进行修补，提高了修补的成功率以及修补效率。

另外，本发明实施例还提供一种上述实施例中所述的显示面板的制作方法，请结合图3、图4、图5以及图6，该显示面板包括多个像素功能区101，且每一像素功能区101皆包括相邻的一第一子像素区1011和一第二子像素区1012。

该显示面板的制作方法包括以下步骤：

S10、提供基板。

S20、在基板的一侧形成第一导通层20，第一导通层20包括位于像素功能区101内且至少设置于第一子像素区1011周侧的第一公共信号部21，第一公共信号部21上设置有标记结构25。

在基板的一侧形成第一导通层20，且第一导通层20包括沿第一方向X延伸且沿第二方向与排列的多个扫描线23、与各扫描线23电性连接的栅极24、围绕各第一子像素区1011以及各第二子像素区1012的第一公共信号部21、以及位于各第一子像素区1011和各第二子像素区1012内并连接第一公共信号部21的第二公共信号部22。可以理解的是，扫描线23用于传输扫描信号至栅极24中，而第一公共信号部21与第二公共信号部22内可以传输公共电压信号，且第一公共信号部21与第二公共信号部22相互连接以形成网状结构分布于基板上。

需要说明的是，针对每个像素功能区101，在第一公共信号部21的一侧设置标记结构25。

S30、在第一导通层20远离基板的一侧形成第二导通层30，第二导通层30包括设置于各像素功能区101内的第一漏极31与第二漏极32，在每一像素功能区101内，第一漏极31到第一子像素区1011的距离小于第一漏极31到第二子像素区1012的距离，第二漏极32到第一子像素区1011的距离小于第二漏极32到第二子像素区1012的距离，且标记结构25位于第一公共信号部21靠近各第一漏极31的一侧。

在第一导通层20远离基板的一侧形成第二导通层30，包括沿第二方向Y延伸且沿第一方向X排列的多个数据线33、多个源极34、多个第一漏极31以及多个第二漏极32，其中，每一像素功能区101位于相邻的两个数据线33之间；在每一像素功能区101内设置有一栅极24、一源极34、一第一漏极31以及一第二漏极32，且上述一栅极24、一源极34、一第一漏极31以及一第二漏极32皆位于第一子像素区1011以及第二子像素区1012以外，以避免栅极24、源极34、第一漏极31以及第二漏极32对第一子像素区1011以及第二子像素区1012的透光造成影响，且在每一像素功能区101内，第一漏极31与第二漏极32皆与第一子像素区1011相邻设置，即第一漏极31到第一子像素区1011的距离小于第一漏极31到第二子像素区1012的距离，第二漏极32到第一子像素区1011的距离小于第二漏极32到第二子像素区1012的距离。

优选的，在每一像素功能区101内，第一漏极31与第二漏极32沿第二方向Y与第一子像素区1011相邻设置，且第一漏极31以及第二漏极32沿第二方向Y分别位于第一子像素区1011的相对两侧。

在本发明实施例中，标记结构25设置于第一公共信号部21靠近第一漏极31的一侧，且远离第二漏极32的一侧。

S40、在第二导通层30远离第一导通层20的一侧形成像素电极层40，像素电极层40包括设置于第一子像素区1011内的第一像素电极41以及设置于第二子像素区1012内的第二像素电极42，其中，第一漏极31与第一像素电极41电性连接，第二漏极32与第二像素电极42电性连接。

在第二导通层30远离第一导通层20的一侧形成像素电极层40，像素电极层40包括多个像素电极，且多个像素电极包括多个第一像素电极41以及多个第二像素电极42，其中，每一第一像素电极41皆对应设置于一第一子像素区1011内，每一第二像素电极42皆对应设置于一第二子像素区1012内。在本发明实施例中，在每一像素功能区101内，第一漏极31与第一像素电极41电性连接，第二漏极32与第二像素电极42电性连接；且像素电极层40还包括多个第一连接部43和多个第二连接部44，且每一第一连接部43连接于对应的一第一漏极31和第一像素电极41之间，每一第二连接部44连接于对应的一第二漏极32和一第二像素电极42之间；具体地，第一连接部43的一端连接于第一像素电极41，另一端通过过孔45连接于第一漏极31，第二连接部43的一端连接于第二像素电极42，另一端通过过孔45连接于第二漏极32。

进一步地，该显示面板的制作方法还包括以下步骤：

检测该显示面板的显示状态，并获取显示异常的修补子像素区。

获取修补子像素区所在的像素功能区101内的标记结构25的位置。在背光下观察得到的图像如图3和图6所示，确认该修补子像素区属于那一像素功能区101，且每一像素功能区101皆位于相邻的两数据线33之间。获取对应的像素功能区101内的标记结构25的位置。

识别靠近标记结构25的第一漏极31以及与第一漏极31对应的第一子像素区1011。在本发明实施例中，第一漏极31与第二漏极32分别位于第一子像素区1011的相对两侧，进而可以通过标记结构25的位置，识别与标记结构25位于同侧的一漏极为第一漏极31，进而可以确该漏极(即第一漏极31)与相邻的第一子像素区1011相对应，而另一漏极则为第二漏极32，且另一漏极(即第二漏极32)与对应的像素功能区101内的另一子像素区(即第二子像素区1012)相对应。

若修补子像素区为第一子像素区1011，则切断第一漏极31的信号传输通道，若修补子像素区为第二子像素区1012，则切断第二漏极32的信号传输通道。

本发明实施例中以修补子像素区为第一子像素区1011为例，进行说明，则需要切断第一漏极31的信号传输通道，具体可采用镭射技术将第一漏极31靠近源极34的一侧切断，以形成第一隔断部61，还可以采用镭射技术将第一漏极31与第一像素电极41的连接部分切断，即可通过盲切将第一连接部43切断，以形成第二隔断部62，进而使得第一子像素区1011形成暗点，以达到修补的目的。

综上所述，本发明实施例通过在第一公共信号部21靠近第一漏极31的一侧设置标记结构25，进而在修补过程中，可以通过识别标记结构25，来获取靠近标记结构25处的第一漏极31，获取像素功能区101内距离第一漏极31较近的第一子像素区1011，以及确定第二漏极32以及与第二漏极32对应的第二子像素区1012，进而可以准确的对第一子像素区1011或第二子像素区1012进行修补，提高了修补的成功率以及修补效率。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及其制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。