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一种消除α-AlH3中孪晶的方法

文献发布时间:2024-04-18 19:58:53


一种消除α-AlH3中孪晶的方法

技术领域

本发明涉及固体推进剂技术领域,具体涉及一种消除α-AlH

背景技术

AlH

现有技术中采用为LiAlH

发明内容

针对上述问题,本发明提供了一种消除α-AlH

本发明所采用的技术方案是:一种消除α-AlH

优选的,所述纳米磨料粒子分散液与原料α-AlH

优选的,纳米磨料粒子分散液中纳米磨料粒子的质量分数为0.5%~10%。

优选的,所述纳米磨料粒子为纳米二氧化硅或纳米三氧化二铝。

优选的,纳米磨料粒子的粒径为100~500nm。

优选的,所述纳米磨料粒子分散液为纳米二氧化硅水分散液或纳米三氧化二铝水分散液。

优选的,纳米磨料粒子分散液的pH值为5~8。

优选的,所述纳米磨料粒子分散液为纳米二氧化硅乙醇分散液或纳米二氧化硅甲醇分散液。

优选的,所述搅拌的条件为:搅拌时间12~48h,搅拌转速60~400rpm。

优选的,所述过滤除去纳米磨料粒子为使用布氏漏斗过滤。

上述技术方案的有益效果:

本发明提供的消除α-AlH

附图说明

图1为本发明一个对比例1提供的重结晶脱乙醚法制备的原料α-AlH

图2为本发明一个对比例1提供的重结晶脱乙醚法制备的原料α-AlH

图3为本发明一个实施例1提供的消除α-AlH

图4为本发明一个实施例1提供的消除α-AlH

图5为本发明一个实施例2提供的消除α-AlH

图6为本发明一个实施例2提供的消除α-AlH

图7为本发明一个实施例3提供的消除α-AlH

图8为本发明一个实施例3提供的消除α-AlH

图9为本发明一个实施例4提供的消除α-AlH

图10为本发明一个实施例4提供的消除α-AlH

图11为本发明一个实施例5提供的消除α-AlH

图12为本发明一个实施例5提供的消除α-AlH

图13为本发明一个实施例6提供的消除α-AlH

图14为本发明一个实施例6提供的消除α-AlH

图15为本发明一个实施例7提供的消除α-AlH

图16为本发明一个实施例7提供的消除α-AlH

图17为本发明一个实施例8提供的消除α-AlH

图18为本发明一个实施例8提供的消除α-AlH

具体实施方式

下面对本申请的实施方式作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例,而不是所有实施例的穷举。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等(如果存在)是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的实施例能够以除了在这里图示或描述的内容以外的顺序实施。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备,不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

应当理解,本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,A和/或B,可以表示:单独存在A,同时存在A和B,单独存在B这三种情况。另外,本文中字符“/”,一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

本发明提供的消除α-AlH

消除α-AlH

配置纳米磨料粒子分散液:取粒径为100~500nm的纳米磨料粒子,使得纳米磨料粒子分散液中纳米磨料粒子的质量分数为0.5%~10%。

纳米磨料粒子为纳米二氧化硅或纳米三氧化二铝;纳米磨料粒子分散液为纳米二氧化硅水分散液或纳米三氧化二铝水分散液,pH值为5~8;或者纳米二氧化硅乙醇分散液或纳米二氧化硅甲醇分散液。

称取重结晶脱乙醚法制备的原料α-AlH

将原料α-AlH

对比例一

采用现有技术中的重结晶脱乙醚法制备原料α-AlH

具体的重结晶脱乙醚法制备α-AlH

通过乙醚化学法合成α-AlH

整个合成过程使用惰性气体保护,将三氯化铝溶解于低温乙醚中制备低温三氯化铝乙醚溶液,氢化铝锂溶解于低温乙醚中制备低温氢化铝锂溶液,然后控制流入和反应温度孔昂三氯化铝乙醚溶液与氢化铝锂乙醚溶液混合制备三氢化铝乙醚络合物乙醚溶液,同时生成副产物LiCl沉淀,经过滤器除去LiCl沉淀后,三氢化铝乙醚络合物溶液进入静置釜,然后进入结晶釜与高温甲苯混合快速蒸出乙醚完成三氢化铝结晶,得到三氢化铝悬浮液,过滤干燥后得到三氢化铝产品。

图1为对比例1提供的重结晶脱乙醚法制备的原料α-AlH

从图1中也可以看出,对比例1采用现有技术中的重结晶脱乙醚法制备的原料α-AlH

实施例一

取15g对比例一中的原料α-AlH

纳米磨料粒子为纳米二氧化硅,粒径为200nm。

纳米磨料粒子分散液中纳米磨料粒子的质量分数为10%。

纳米磨料粒子分散液为纳米二氧化硅乙醇分散液。

将原料α-AlH

使用激光粒度仪对实施例一的粉末进行测量,使用扫描电镜拍摄实施例一的粉末原料形态图。实施例一中α-AlH

从图3中也可以看出,较对比例1相比,实施例一经过消除α-AlH

实施例二

取40g对比例一中的原料α-AlH

纳米磨料粒子为纳米二氧化硅,粒径为300nm。

纳米磨料粒子分散液中纳米磨料粒子的质量分数为5%。

纳米磨料粒子分散液为纳米二氧化硅甲醇分散液。

将原料α-AlH

使用激光粒度仪对实施例二的粉末进行测量,使用扫描电镜拍摄实施例二的粉末原料形态图。实施例二中α-AlH

从图5中也可以看出,较对比例1相比,实施例二经过消除α-AlH

实施例三

取30g对比例一中的原料α-AlH

纳米磨料粒子为纳米二氧化硅,粒径为200nm。

纳米磨料粒子分散液中纳米磨料粒子的质量分数为2%。

纳米磨料粒子分散液为纳米二氧化硅水分散液,pH值为6.8。

将原料α-AlH

使用激光粒度仪对实施例三的粉末进行测量,使用扫描电镜拍摄实施例三的粉末原料形态图。实施例三中α-AlH

从图7中也可以看出,较对比例1相比,实施例三经过消除α-AlH

实施例四

取10g对比例一中的原料α-AlH

纳米磨料粒子为纳米三氧化二铝,粒径为300nm。

纳米磨料粒子分散液中纳米磨料粒子的质量分数为1%。

纳米磨料粒子分散液为纳米三氧化二铝水分散液,pH值为7.8。

将原料α-AlH

使用激光粒度仪对实施例四的粉末进行测量,使用扫描电镜拍摄实施例四的粉末原料形态图。实施例四中α-AlH

从图9中也可以看出,较对比例1相比,实施例四经过消除α-AlH

实施例五

取20g对比例一中的原料α-AlH

纳米磨料粒子为纳米三氧化二硅,粒径为300nm。

纳米磨料粒子分散液中纳米磨料粒子的质量分数为2%。

纳米磨料粒子分散液为纳米三氧化二硅乙醇分散液。

将原料α-AlH

使用激光粒度仪对实施例四的粉末进行测量,使用扫描电镜拍摄实施例四的粉末原料形态图。实施例四中α-AlH

从图11中也可以看出,较对比例1相比,实施例五经过消除α-AlH

实施例六

取25g对比例一中的原料α-AlH

纳米磨料粒子为纳米三氧化二硅,粒径为100nm。

纳米磨料粒子分散液中纳米磨料粒子的质量分数为5%。

纳米磨料粒子分散液为纳米三氧化二铝甲醇分散液。

将原料α-AlH

使用激光粒度仪对实施例四的粉末进行测量,使用扫描电镜拍摄实施例四的粉末原料形态图。实施例四中α-AlH

从图13中也可以看出,较对比例1相比,实施例六经过消除α-AlH

实施例七

取30g对比例一中的原料α-AlH

纳米磨料粒子为纳米三氧化二铝,粒径为500nm。

纳米磨料粒子分散液中纳米磨料粒子的质量分数为8%。

纳米磨料粒子分散液为纳米三氧化二铝水分散液,pH值为7.8。

将原料α-AlH

使用激光粒度仪对实施例四的粉末进行测量,使用扫描电镜拍摄实施例四的粉末原料形态图。实施例四中α-AlH

从图15中也可以看出,较对比例1相比,实施例七经过消除α-AlH

实施例八

取40g对比例一中的原料α-AlH

纳米磨料粒子为纳米三氧化二硅,粒径为500nm。

纳米磨料粒子分散液中纳米磨料粒子的质量分数为0.5%。

纳米磨料粒子分散液为纳米三氧化二铝水分散液,pH值为7.8。

将原料α-AlH

使用激光粒度仪对实施例四的粉末进行测量,使用扫描电镜拍摄实施例四的粉末原料形态图。实施例四中α-AlH

从图17中也可以看出,较对比例1相比,实施例八经过消除α-AlH

表1α-AlH

结合上述实施例一至实施例八,与对比例一相比,可知本发明提供的消除α-AlH

显然,本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例,而并非是对本发明的实施方式的限定,对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动,这里无法对所有的实施方式予以穷举,凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。

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技术分类

06120116510792