显示面板及其制备方法和显示装置

技术领域

本发明一般涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。

背景技术

由于受制于生产设备及玻璃基板的尺寸，对于大型或超大型显示器来说，一般都是通过多块较小的显示面板进行拼接而成的。例如，户外的大型广告显示屏，就是由多块较小的显示面板以矩阵排布的方式进行拼接形成的。

由于显示面板的边缘不可避免的存在信号等线路以及封框等结构，导致显示面板不可能做到完全无边框，即最边缘的像素不能无限制的靠近显示面板的边缘，由于边框无法消除，那么在拼接后，相邻显示面板的相邻像素间的间距会大于其余位置的像素间距，这样在两相邻的显示面板之间，会存在较明显的视觉拼缝(在拼接处表现为视觉“黑缝”)，影响整体观感。

发明内容

本申请期望提供一种显示面板及其制备方法和显示装置，用以至少解决现有拼接屏存在较明显的视觉拼缝，影响整体观感的问题。

第一方面，本发明提供一种显示面板，包括：

像素层，所述像素层包括第一显示区和位于所述第一显示区之外的第二显示区，所述第二显示区内与所述第一显示区内相邻的像素之间的距离，小于所述第一显示区内相邻像素的距离；

光导层，设置于所述像素层的出光侧，所述光导层包括透射区和折射区，所述透射区与所述第一显示区对应设置，所述折射区与所述第二显示区对应设置，所述折射区用于将所述第二显示区的至少部分光线向远离所述第一显示区的方向折射；或者，所述光导层包括透射区和光致发光区，所述透射区与所述第一显示区对应设置，所述光致发光区与所述第二显示区对应设置，所述光致发光区具有光致发光像素，在与所述像素层平行的投影方向上，所述光致发光区内与所述第一显示区内相邻的像素之间的距离，等于所述第一显示区内相邻像素的距离。

作为可实现方式，所述第二显示区围绕所述第一显示区设置。

作为可实现方式，所述第二显示区内的像素沿所述第一显示区对应边缘呈单列和/或单行设置。

作为可实现方式，所述折射区内布设有多个纳米晶粒。

作为可实现方式，所述纳米晶粒为纳米球晶、纳米椭球晶和纳米多面体晶中的至少任一种。

作为可实现方式，所述纳米晶粒的粒径为1nm～200nm。

作为可实现方式，所述纳米晶粒的材料为纳米硅、纳米氮化硅、纳米氮氧化硅、纳米氧化硅和纳米氧化锆中的任一种。

第二方面，本发明提供一种如上述的显示面板的制备方法，包括：

形成像素层，所述像素层包括第一显示区和位于所述第一显示区之外的第二显示区，所述第二显示区内与所述第一显示区内相邻的像素之间的距离，小于所述第一显示区内相邻像素的距离；

在所述像素层的出光侧形成光导层，所述光导层包括透射区和折射区，所述透射区与所述第一显示区对应设置，所述折射区与所述第二显示区对应设置，所述折射区用于将所述第二显示区的至少部分光线向远离所述第一显示区的方向折射；或者，所述光导层包括透射区和光致发光区，所述透射区与所述第一显示区对应设置，所述光致发光区与所述第二显示区对应设置，所述光致发光区具有光致发光像素，在与所述像素层平行的投影方向上，所述光致发光区内与所述第一显示区内相邻的像素之间的距离，等于所述第一显示区内相邻像素的距离。

第三方面，本发明提供一种显示装置，其特征在于，包括至少一个如上述的显示面板。

作为可实现方式，包括多个所述显示面板，多个所述显示面板呈矩阵排布。

上述方案中，由于折射区用于将第二显示区的至少部分光线向远离第一显示区的方向折射，或者，对应于第二显示区的位置设置光致发光区，光致发光区内与第一显示区内相邻的像素之间的距离，等于第一显示区内相邻像素的距离，而第二显示区内与第一显示区内相邻的像素之间的距离，小于第一显示区内相邻像素的距离，这样在视觉效果上，第二显示区的像素趋近于显示面板的边缘，使得两个显示面板拼接处相邻的像素之间的间距可以等于第一显示区内像素的间距，因此可以消除视觉拼缝，提高了显示效果。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图；

图2为本发明另一实施例提供的显示面板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程图；

图4为本发明实施例提供的显示面板的制备过程结构示意图；

图5为本发明又一实施例提供的显示面板的制备过程结构示意图；

图6为本发明再一实施例提供的显示面板的制备过程结构示意图；

图7为本发明实施例提供的显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。

至少参见图1(图1中仅示出了显示面板的右半部分)所示，本发明其一实施例示出的一种显示面板，该显示面板例如但不限于为LCD(Liquid Crystal Display；液晶显示器)面板、OLED(Organic Light Emitting Diode；有机发光半导体)面板、QLED(Quantum DotLightEmitting Diodes；量子点发光二极管)面板等，该显示面板包括：像素层，对于LCD面板来说像素层至少对应于彩膜基板的色阻层，对于OLED面板、QLED面板来说像素层至少对应于发光层。该示例中以OLED面板为例进行说明。

其中，所述像素层3包括第一显示区A和位于所述第一显示区之外的第二显示区B，也就是说第一显示区A位于显示面板的中部，第二显示区B位于显示面板靠近边缘的位置，所述第二显示区B内与所述第一显示区A内相邻的像素32之间的距离D2，小于所述第一显示区内A相邻像素32的距离D1，这样，在第二显示区B内的像素32所发出的部分光线向远离第一显示区A的方向折射后，在视觉上，第二显示区B内与第一显示区A内相邻的像素32之间的距离可以等于第一显示区A内相邻像素32的距离，以使显示图像不会因像素32之间距离的不同而产生畸变；

本领域技术人员可以理解，对于每一个像素32，其都是有多个子像素构成，例如，对于RGB(Red、Green、Blue；红、绿、蓝)像素，其由R子像素、G子像素、B子像素这三个三原色的子像素构成；对于RGBW(Red、Green、Blue、White；红、绿、蓝、白)像素，其由R子像素、G子像素、B子像素、W子像素这四个子像素构成。当然，各像素中的子像素还可以为单色的子像素，如白光子像素或蓝光子像素等，并通过色阻将其发出的光转化为对应的颜色。对于OLED面板来说，每一个子像素对应一个子像素电极，一般地，子像素电极为阳极，不同的子像素可以共用同一阴极。

光导层5，设置于所述像素层3的出光侧，所述光导层5包括透射区52和折射区51，这里所说的透射区52是指光线可以直接从其中穿过并直接出射，出射的光线与入射的光线在传播方向上不变；这里所说的折射区51是指光线在其中散射或折射后出射，出射的光线与入射的光线在传播方向上发生改变。所述透射区52与所述第一显示区A对应设置，所述折射区51与所述第二显示区B对应设置，所述折射区51用于将所述第二显示区B的至少部分光线向远离所述第一显示区A的方向折射。

上述方案中，由于折射区51用于将第二显示区B的至少部分光线向远离第一显示区A的方向折射，这样在视觉效果上，第二显示区B的像素趋近于显示面板的边缘，使得两个显示面板拼接处相邻的像素32之间的间距可以等于第一显示区A内像素的间距，可以均为D1(如图7所示)，因此可以消除视觉拼缝，提高了显示效果。

如图2所示，本发明另一实施例示出的一种显示面板，包括：

像素层3，所述像素层3包括第一显示区A和位于所述第一显示区A之外的第二显示区B，所述第二显示区B内与所述第一显示区A内相邻的像素32之间的距离D2，小于所述第一显示区A内相邻像素的距离D1；

光导层5，设置于所述像素层3的出光侧，所述光导层5包括透射区52和光致发光(Photoluminescent，PL)区，所述透射区52与所述第一显示区A对应设置，所述光致发光区与所述第二显示区B对应设置，所述光致发光区具有光致发光像素56，在与所述像素层3平行的投影方向上，所述光致发光区内与所述第一显示区A内相邻的像素之间的距离D3，等于所述第一显示区A内相邻像素的距离D1。

光致发光像素56例如但不限于包括红色荧光材料子像素、绿色荧光材料子像素及蓝色子像素，蓝色子像素通常可以不含荧光材料；当蓝光通过红色荧光材料子像素时可转换成红光，通过绿色荧光材料子像素时可转换成绿光，通过蓝色像素区时该蓝光可直接显示。

上述方案中，对应于第二显示区B的位置设置光致发光区，光致发光区内与所述第一显示区A内相邻的像素之间的距离D3，等于第一显示区A内相邻像素的距离D1，而第二显示区B内与第一显示区A内相邻的像素之间的距离D2，小于第一显示区A内相邻像素的距离D1，也即光致发光像素56相较于像素层3的第二显示区A内的像素，更靠近显示面板的边缘，这样在视觉效果上，第二显示区B的像素趋近于显示面板的边缘，使得两个显示面板拼接处相邻的像素之间的间距可以等于第一显示区A内像素的间距，因此消除了视觉拼缝，提高了显示效果。

作为可实现方式，为了使该显示面板在使用时，可以呈矩阵的方式进行横竖两个方向的拼接，并在拼接的位置处均消除视觉拼缝，则所述第二显示区B围绕所述第一显示区A设置，这样无论是在显示面板上下左右的哪一侧进行拼接，均可以消除拼接处的视觉拼缝。

作为可实现方式，为了防止在拼缝处出现串色，所述第二显示区B内的像素沿所述第一显示区A对应边缘呈单列和/或单行设置。

例如，显示面板为矩形结构，相应地，第一显示区A亦为矩形，矩形的长边可以对应于行，矩形的短边可以对应于列，那么，沿着第一显示区两个短边分别设置一列像素，沿着第一显示区两个长边分别设置一行像素。

作为可实现方式，折射区51内布设有多个纳米晶粒，第二显示区B内的像素32所发出的光入射至折射区51后，在折射区51内经纳米晶粒多次反射，最终至少部分光线折射向远离第一显示区A的方向出射。

作为可实现方式，所述纳米晶粒为纳米球晶、纳米椭球晶和纳米多面体晶中的至少任一种。

作为可实现方式，所述纳米晶粒5的粒径为1nm～200nm。

作为可实现方式，所述纳米晶粒5的材料为纳米硅(Si)、纳米氮化硅(SiNx)、纳米氮氧化硅(Si(ON)x)、纳米氧化硅(SiOx)和纳米氧化锆(ZrOx)中的任一种。

第二方面，如图3所示，本发明提供一种如上述的显示面板的制备方法，包括：

S1：形成像素层3，所述像素层3包括第一显示区A和位于所述第一显示区A之外的第二显示区B，所述第二显示区B内与所述第一显示区A内相邻的像素32之间的距离D2，小于所述第一显示区A内相邻像素32的距离D1；

S2：在所述像素层3的出光侧形成光导层5，所述光导层5包括透射区52和折射区51，所述透射区52与所述第一显示区A对应设置，所述折射区51与所述第二显示区B对应设置，所述折射区51用于将所述第二显示区B的至少部分光线向远离所述第一显示区A的方向折射；或者，所述光导层5包括透射区52和光致发光区，所述透射区52与所述第一显示区A对应设置，所述光致发光区与所述第二显示区B对应设置，所述光致发光区具有光致发光像素55，在与所述像素层3平行的投影方向上，所述光致发光区内与所述第一显示区A内相邻的像素之间的距离D3，等于所述第一显示区A内相邻像素的距离D1。

下面以其中几种实现方式，对该发明提供的显示面板的制备方法予以示例性说明，其并非是对该制备方法的唯一性限定，可以根据实际需要对某一或某些工艺步骤进行替换或省略。该示例中的显示面板以OLED面板为例。

第一种实现方式：

如图4所示，提供一衬底1，该衬底例1如但不限于为玻璃衬底，PI(Polyimide；聚酰亚胺)衬底等，该衬底1具有第一显示区A和位于第一显示区A之外的第二显示区B；

在所述衬底1上形成薄膜晶体管层2，薄膜晶体管层2中的薄膜晶体管可以采用正交叠型、背沟道刻蚀型及背沟道保护型等中的任一种结构；例如，该薄膜晶体管层2可以采用背沟道刻蚀型，其包括顺次层叠设置在衬底上的栅极层、栅绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层，并在钝化层上形成像素电极；

在薄膜晶体管层2上形成黑矩阵层31，所述黑矩阵层31中具有形成子像素的开口，在各开口内打印对应的发光材料，以形成对应的像素32；且第二显示区B内与第一显示区A内相邻的像素32之间的距离D2，小于第一显示区A内相邻像素32的距离D1；

在黑矩阵层31上形成阴极层(图中未示出)；

在阴极层上形成封装层4；

在封装层4上形成OC(Over Cover；上层覆盖)层，并对OC层进行图案化，形成与第一显示区A对应的透射区52和与第二显示区B对应的镂空区53；

通过蒸镀、涂布或打印等的方式在镂空区53形成折射区51，折射区51内布设有多个纳米晶粒，纳米晶粒的粒径为1nm～200nm，材料为纳米硅(Si)、纳米氮化硅(SiNx)、纳米氮氧化硅(Si(ON)x)、纳米氧化硅(SiOx)和纳米氧化锆(ZrOx)中的任一种，纳米晶粒的形状为纳米球晶、纳米椭球晶和纳米多面体晶中的至少任一种。透射区和折射区共同形成了光导层。

在光导层5上形成偏光层6。

第二种实现方式：

如图5所示，提供一衬底1，该衬底1例如但不限于为玻璃衬底，PI(Polyimide；聚酰亚胺)衬底等，该衬底1具有第一显示区A和位于第一显示区之外的第二显示区B；

在所述衬底1上形成薄膜晶体管层2，薄膜晶体管层2中的薄膜晶体管可以采用正交叠型、背沟道刻蚀型及背沟道保护型等中的任一种结构；例如，该薄膜晶体管层2可以采用背沟道刻蚀型，其包括顺次层叠设置在衬底上的栅极层、栅绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层，并在钝化层上形成像素电极。

在薄膜晶体管层2上形成黑矩阵层31，所述黑矩阵层31中具有形成子像素的开口，在各开口内打印对应的发光材料，以形成对应的像素32；且第二显示区B内与第一显示区A内相邻的像素32之间的距离D2，小于第一显示区A内相邻像素32的距离D1；

在黑矩阵层31上形成阴极层(图中未示出)；

在阴极层上形成封装层4；

在封装层4上位于第二显示区B的位置，通过蒸镀、涂布、打印等方式形成折射区51，折射区51内布设有多个纳米晶粒，纳米晶粒的粒径为1nm～200nm，材料为纳米硅(Si)、纳米氮化硅(SiNx)、纳米氮氧化硅(Si(ON)x)、纳米氧化硅(SiOx)和纳米氧化锆(ZrOx)中的任一种，纳米晶粒的形状为纳米球晶、纳米椭球晶和纳米多面体晶中的至少任一种。

在封装层4上形成OC(Over Cover；上层覆盖)层54，且OC层54覆盖折射区51，及第一显示区A内的封装层4；

如图5所述，在OC层54上形成偏光层6。

第三种实现方式：

如图6所示，提供一衬底1，该衬底1例如但不限于为玻璃衬底，PI(Polyimide；聚酰亚胺)衬底等，该衬底1具有第一显示区A和位于第一显示区A之外的第二显示区B；

如图6所示，在所述衬底1上形成薄膜晶体管层2，薄膜晶体管层2中的薄膜晶体管可以采用正交叠型、背沟道刻蚀型及背沟道保护型等中的任一种结构；例如，该薄膜晶体管层2可以采用背沟道刻蚀型，其包括顺次层叠设置在衬底上的栅极层、栅绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层，并在钝化层上形成像素电极。

如图6所示，在薄膜晶体管层2上形成黑矩阵层31，所述黑矩阵层31中具有形成子像素的开口，在各开口内打印对应的发光材料，以形成对应的像素32；且第二显示区B内与第一显示区A内相邻的像素32之间的距离D2，小于第一显示区A内相邻像素32的距离D1；

在黑矩阵层31上形成阴极层(图中未示出)；

在阴极层上形成封装层4；

在封装层4上形成OC层，并对OC层图案化，形成与第一显示区A对应的透射区52和与第二显示区B对应的镂空区53；

在镂空区53形成黑矩阵55，该黑矩阵55具有形成光致发光子像素的开口，各对应开口内形成有对应的发光材料，以形成位于第二显示区B的光致发光像素56；且光致发光像素56与所述第一显示区A内相邻的像素32之间的距离D3，等于第一显示区A内相邻像素32的距离D1。

在OC层上形成偏光层6，偏光层6覆盖光致发光区(对应于第二显示区B)，及第一显示区A内的OC层。

第三方面，本发明提供一显示装置，包括至少一个上述的显示面板。

作为可实现方式，另参见图7所示，该显示装置，包括多个所述显示面板，多个所述显示面板呈矩阵排布。在相邻的两个显示面板的拼接处，在视觉上，与像素层平行的投影方向上，光致发光区内与第一显示区内相邻的像素之间的距离，以及拼接处相邻显示面板之间相邻的像素之间的间距均与第一显示区A内像素的间距相等，即均为D1，因此消除了视觉拼缝，提高了显示效果。

需要理解的是，上文如有涉及术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。