一种碳纳米片增韧PyC/SiC复合界面及其制备方法
文献发布时间:2023-06-19 18:30:43
技术领域
本发明涉及SiC
背景技术
SiC
陶瓷纤维与基体的直接接触会形成纤维-基体强结合,使得纤维的增强增韧效果无法发挥,同时,制备过程也会对纤维造成较为严重的损伤。在纤维和基体间引入界面层是解决纤维-基体结合问题、避免损伤纤维的有效手段,对调节陶瓷复材综合性能尤为关键,因此,界面层的设计及制备工艺十分重要。
现阶段SiC
发明内容
针对上述SiC
本发明的技术方案是:
一种碳纳米片(CNS)增韧PyC/SiC复合界面的制备方法,通过化学气相沉积工艺在纤维预制体表面依次沉积PyC界面、CNS和SiC界面,弥补单一PyC弱界面和单一SiC强界面的不足,利用CNS的钉扎效应增强SiC界面与PyC界面的结合,改善SiC界面的脆性,从而通过界面改性提升SiC
进一步的,上述一种碳纳米片(CNS)增韧PyC/SiC复合界面的制备方法,具体步骤如下:
步骤1)纤维预制体编织
采用二代SiC纤维,2.5D编织结构,经纱密度为8±0.2根/cm,纬纱密度为3.5±0.2根/cm,编织体尺寸为200×100×3.5mm
步骤2)PyC界面沉积
采用化学气相沉积工艺在纤维表面沉积PyC界面层,将纤维预制体置于PyC沉积炉中,以丙烯C
步骤3)CNS沉积
采用化学气相沉积工艺沉积CNS,以甲醇为先驱体,对甲醇进行水浴加热,保持水浴温度在20~30°C;调节甲醇流量,使沉积室内压力保持在10~20kPa;沉积温度为1000~1300°C,沉积时间为1~3h;
步骤4)SiC界面沉积
采用化学气相沉积工艺沉积SiC界面层,以一甲基三氯硅烷MTS为先驱体,高纯度H
步骤5)SiC基体沉积
采用化学气相沉积工艺实现SiC基体增密,以一甲基三氯硅烷MTS为先驱体,高纯度H
一种上述的碳纳米片增韧PyC/SiC复合界面的制备方法制备得到的碳纳米片增韧PyC/SiC复合界面。
本发明的优点及有益效果:
本发明的碳纳米片增韧PyC/SiC复合界面,相较现有的PyC/SiC复合界面,通过引入纳米碳强化PyC界面和SiC界面层间结合,增加裂纹扩展阻力,发挥纳米相的桥连和脱粘作用,显著改善界面脆性,继而提升SiC
附图说明
图1为本发明PyC界面层表面CNS形貌图;
图2为本发明制备的SiC
具体实施方式
下面结合说明书附图和具体实施方式对本发明做进一步详细描述。
一种碳纳米片增韧PyC/SiC复合界面,按照以下步骤制备:
步骤1)纤维预制体编织
采用二代SiC纤维,2.5D编织结构,经纱密度为8±0.2根/cm,纬纱密度为3.5±0.2根/cm,编织体尺寸为200×100×3.5mm
步骤2)PyC界面沉积
采用化学气相沉积工艺在纤维表面沉积PyC界面层,将纤维预制体置于PyC沉积炉中,以丙烯C
步骤3)CNS沉积
采用化学气相沉积工艺沉积CNS,以甲醇为先驱体,对甲醇进行水浴加热,保持水浴温度在28°C;调节甲醇流量,使沉积室内压力保持在10kPa;沉积温度为1200°C,沉积时间为1.5h;
步骤4)SiC界面沉积
采用化学气相沉积工艺沉积SiC界面层,以一甲基三氯硅烷MTS为先驱体,高纯度H
步骤5)SiC基体沉积
采用化学气相沉积工艺实现SiC基体增密,以一甲基三氯硅烷MTS为先驱体,高纯度H
如图1所示,本发明PyC界面层表面CNS形貌图,在PyC层上可以观察到大量纳米相的存在。
采用万能试验机(CMT5304-30kN)测试SiCf/SiC复合材料的弯曲性能。测试参数为:试样尺寸为40×5×3mm
- SiC纳米线增韧化学气相共沉积HfC-SiC复相涂层的制备方法
- 一种氧化石墨烯上生长碳纳米片矩阵衍生碳纳米复合材料的制备方法
- 一种含富碳氮化硼界面相C/C-SiC复合材料的制备方法
- SiCf/SiC复合材料的SiC纳米线增韧PyC/SiC复合界面及其制备方法
- 一种碳/碳复合材料SiC纳米线增韧莫来石-SiC复合涂层的制备方法