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一种碳纳米片增韧PyC/SiC复合界面及其制备方法

文献发布时间:2023-06-19 18:30:43



技术领域

本发明涉及SiC

背景技术

SiC

陶瓷纤维与基体的直接接触会形成纤维-基体强结合,使得纤维的增强增韧效果无法发挥,同时,制备过程也会对纤维造成较为严重的损伤。在纤维和基体间引入界面层是解决纤维-基体结合问题、避免损伤纤维的有效手段,对调节陶瓷复材综合性能尤为关键,因此,界面层的设计及制备工艺十分重要。

现阶段SiC

发明内容

针对上述SiC

本发明的技术方案是:

一种碳纳米片(CNS)增韧PyC/SiC复合界面的制备方法,通过化学气相沉积工艺在纤维预制体表面依次沉积PyC界面、CNS和SiC界面,弥补单一PyC弱界面和单一SiC强界面的不足,利用CNS的钉扎效应增强SiC界面与PyC界面的结合,改善SiC界面的脆性,从而通过界面改性提升SiC

进一步的,上述一种碳纳米片(CNS)增韧PyC/SiC复合界面的制备方法,具体步骤如下:

步骤1)纤维预制体编织

采用二代SiC纤维,2.5D编织结构,经纱密度为8±0.2根/cm,纬纱密度为3.5±0.2根/cm,编织体尺寸为200×100×3.5mm

步骤2)PyC界面沉积

采用化学气相沉积工艺在纤维表面沉积PyC界面层,将纤维预制体置于PyC沉积炉中,以丙烯C

步骤3)CNS沉积

采用化学气相沉积工艺沉积CNS,以甲醇为先驱体,对甲醇进行水浴加热,保持水浴温度在20~30°C;调节甲醇流量,使沉积室内压力保持在10~20kPa;沉积温度为1000~1300°C,沉积时间为1~3h;

步骤4)SiC界面沉积

采用化学气相沉积工艺沉积SiC界面层,以一甲基三氯硅烷MTS为先驱体,高纯度H

步骤5)SiC基体沉积

采用化学气相沉积工艺实现SiC基体增密,以一甲基三氯硅烷MTS为先驱体,高纯度H

一种上述的碳纳米片增韧PyC/SiC复合界面的制备方法制备得到的碳纳米片增韧PyC/SiC复合界面。

本发明的优点及有益效果:

本发明的碳纳米片增韧PyC/SiC复合界面,相较现有的PyC/SiC复合界面,通过引入纳米碳强化PyC界面和SiC界面层间结合,增加裂纹扩展阻力,发挥纳米相的桥连和脱粘作用,显著改善界面脆性,继而提升SiC

附图说明

图1为本发明PyC界面层表面CNS形貌图;

图2为本发明制备的SiC

具体实施方式

下面结合说明书附图和具体实施方式对本发明做进一步详细描述。

一种碳纳米片增韧PyC/SiC复合界面,按照以下步骤制备:

步骤1)纤维预制体编织

采用二代SiC纤维,2.5D编织结构,经纱密度为8±0.2根/cm,纬纱密度为3.5±0.2根/cm,编织体尺寸为200×100×3.5mm

步骤2)PyC界面沉积

采用化学气相沉积工艺在纤维表面沉积PyC界面层,将纤维预制体置于PyC沉积炉中,以丙烯C

步骤3)CNS沉积

采用化学气相沉积工艺沉积CNS,以甲醇为先驱体,对甲醇进行水浴加热,保持水浴温度在28°C;调节甲醇流量,使沉积室内压力保持在10kPa;沉积温度为1200°C,沉积时间为1.5h;

步骤4)SiC界面沉积

采用化学气相沉积工艺沉积SiC界面层,以一甲基三氯硅烷MTS为先驱体,高纯度H

步骤5)SiC基体沉积

采用化学气相沉积工艺实现SiC基体增密,以一甲基三氯硅烷MTS为先驱体,高纯度H

如图1所示,本发明PyC界面层表面CNS形貌图,在PyC层上可以观察到大量纳米相的存在。

采用万能试验机(CMT5304-30kN)测试SiCf/SiC复合材料的弯曲性能。测试参数为:试样尺寸为40×5×3mm

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技术分类

06120115591441