显示面板及显示装置
文献发布时间:2024-04-18 19:52:40
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
相关技术中,在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机电致发光器件)中为增大显示屏的屏占比,会通过切割开孔的方式避让前置摄像头等功能器件。通常在开孔的周围,通过隔离柱来隔断发光材料膜层的连续性,以阻断水汽的侵入。
然而,现有的隔离柱并未完全隔断电子传输路径,存在容易腐蚀隔离柱的问题。
发明内容
有鉴于此,本申请的目的在于提出一种显示面板及显示装置。
基于上述目的,本申请提供了一种显示面板,包括:衬底基板和发光层;所述衬底基板包括显示区和开孔区,所述显示区与所述开孔区之间设置有缓冲区;所述缓冲区设置有隔离柱;所述发光层设置于所述隔离柱远离所述衬底层的一侧;
其中,所述隔离柱包括第一无机层和第二无机层;相邻所述隔离柱的所述第一无机层之间间隔设置有凹槽;相邻所述隔离柱的所述第二无机层之间间隔设置有镂空;所述凹槽与所述镂空连通;在远离显示区的方向上,所述隔离柱包括第一隔离柱和第二隔离柱;在所述第二无机层远离所述第二隔离柱一侧的侧壁处和/或在所述第二无机层远离所述第一隔离柱的一侧的侧壁处,所述发光层断开;
所述第一隔离柱和所述第二隔离柱分别包括第一金属层和加厚层;所述第一金属层设置在所述第一无机层与所述第二无机层之间;所述加厚层设置在所述第二无机层与所述发光层之间。
在其中一些实施例中,在所述第一隔离柱远离所述第二隔离柱的一侧,所述第一隔离柱在所述衬底基板的正投影的边缘覆盖所述加厚层在所述衬底基板的正投影的边缘;且在所述第二隔离柱远离所述第一隔离柱的一侧,所述第二隔离柱在所述衬底基板的正投影的边缘覆盖所述加厚层在所述衬底基板的正投影的边缘。
在其中一些实施例中,在所述第二无机层远离所述第二隔离柱一侧的侧壁处所述发光层断开,在所述第二无机层远离所述第一隔离柱的一侧的侧壁处所述发光层断开。
在其中一些实施例中,在所述第二无机层远离所述第二隔离柱一侧的侧壁处所述发光层断开;在所述第二无机层远离所述第一隔离柱的一侧的侧壁处所述发光层连续且呈阶梯状。
在其中一些实施例中,所述第二无机层远离所述第一隔离柱的一侧的侧壁处包括第一台阶和第二台阶,所述第二台阶位于所述第一台阶的远离所述衬底基板的一侧;所述第二无机层靠近所述第二隔离柱一侧的侧壁呈阶梯状,包括第一台阶和第二台阶,所述第二台阶位于所述第一台阶的远离所述衬底基板的一侧。
在其中一些实施例中,所述加厚层为有机层,设置在所述发光层与所述第二无机层之间,且贯穿所述第一隔离柱和所述第二隔离柱之间的所述镂空和所述凹槽。
在其中一些实施例中,所述显示区包括在远离所述衬底基板的方向上层叠设置的平坦层、像素界定层和发光层;所述平坦层和所述像素界定层中的至少一者与所述加厚层同层设置。
在其中一些实施例中,所述平坦层包括在远离所述衬底基板的方向上层叠设置的第一平坦层和第二平坦层;所述第一平坦层、所述第二平坦层和所述像素界定层中的至少一者与所述加厚层同层设置。
在其中一些实施例中,所述第一平坦层、所述第二平坦层和所述像素界定层与所述加厚层同层设置。
在其中一些实施例中,所述显示区还包括在所述第一平坦层靠近所述衬底基板的方向上层叠设置的钝化层、第一源漏电极层和层间绝缘层;
所述层间绝缘层与所述第一无机层同层设置;所述第一金属层与所述第一源漏电极层同层设置;所述第二无机层与所述钝化层同层设置。
在其中一些实施例中,所述加厚层的截面的形状为梯形或者近半圆形。
在其中一些实施例中,所述隔离柱还包括在所述第一隔离柱远离所述第二隔离柱一侧设置的第三隔离柱,和在所述第二隔离柱远离所述第一隔离柱一侧设置的第四隔离柱;
所述第一隔离柱和所述第四隔离柱分别包括第二金属层,所述第二金属层设置在所述第二无机层与所述发光层之间,在所述第三隔离柱和所述第四隔离柱中的所述第二无机层的侧壁处的发光层分别断开。
在其中一些实施例中,所述显示区还包括第二源漏电极层,所述第二源漏电极层设置在所述第一平坦层与所述第二平坦层之间,所述第二金属层与所述第二源漏电极层同层设置。
在其中一些实施例中,所述第一无机层的厚度大于所述第二无机层的厚度。
本申请实施例还提供一种显示装置,包括如前任一项所述的显示面板。
从上面所述可以看出,本申请提供的显示面板,包括:衬底基板和发光层;所述衬底基板包括显示区和开孔区,所述显示区与所述开孔区之间设置有缓冲区;所述缓冲区设置有隔离柱;所述发光层设置于所述隔离柱远离所述衬底层的一侧;其中,所述隔离柱包括第一无机层和第二无机层;相邻所述隔离柱的所述第一无机层之间间隔设置有凹槽;相邻所述隔离柱的所述第二无机层之间间隔设置有镂空;所述凹槽与所述镂空连通;在远离显示区的方向上,所述隔离柱包括第一隔离柱和第二隔离柱;在所述第二无机层远离所述第二隔离柱一侧的侧壁处和/或在所述第二无机层远离所述第一隔离柱的一侧的侧壁处,所述发光层断开;所述第一隔离柱和所述第二隔离柱分别包括第一金属层和加厚层;所述第一金属层设置在所述第一无机层与所述第二无机层之间;所述加厚层设置在所述第二无机层与所述发光层之间。能够在隔断电势差下存在的电子&杂质离子移动通道的前提下,增强抗静电击伤的能力,避免对发光层/阴极层造成损害。
附图说明
为了更清楚地说明本申请或相关技术中的技术方案,下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例的显示面板的结构示意图;
图2为本申请实施例的缓冲区NA的局部的示意图;
图3为本申请实施例的电容击穿示意图;
图4为本申请实施例的电容击穿的模型示意图;
图5a为图1中沿B-B’方向的剖面示意图;
图5b为本申请实施例的另一种形状的加厚层的示意图;
图6a为本申请实施例的在第一隔离柱和第二隔离柱均断电的结构示意图;
图6b为本申请实施例的在第一隔离柱和第二隔离柱均断电的另一种结构的示意图;
图7为本申请实施例的显示装置的示意图。
其中,衬底基板11,发光层/阴极12,隔离柱13,第一隔离柱131,第二隔离柱132,第三隔离柱133,第四隔离柱134,第一无机层14,第二无机层15,凹槽141,镂空151,第一金属层16,第一子金属层161,第二子金属层162,加厚层17,第二金属层18,移动通道19。
具体实施方式
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本申请进一步详细说明。
需要说明的是,除非另外定义,本申请实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。
目前在OLED显示技术中,为增大显示屏的屏占比,会通过切割开孔的方式避让前置摄像头等功能器件。通常在开孔的周围,通过金属隔离柱13来隔断发光材料膜层的连续性,以阻断水汽的侵入,但并未完全隔断电子传输路径。但在实际屏体环境验证中,尤其通电运行测试中发现金属隔离柱13存在严重腐蚀。
基于此,本申请实施例通过在开孔的内外隔离柱13位置处的内隔离柱13处进行断电设计,并搭配无机层覆盖,利用无机材料不导电性能彻底隔断电势差下存在的电子&杂质离子的移动通道19,从而能够避免现有的金属隔离柱13存在容易严重腐蚀的问题。
图1示出了本申请实施例的示例性的显示面板的结构示意图。图2为缓冲区NA的局部的示意图。
如图1和图2所示,本申请实施例的显示面板可以包括:衬底基板11和发光层12。其中,所述衬底基板11包括显示区AA和开孔区HA,显示区AA至少部分围绕开孔区HA,显示区AA与开孔区HA之间设置有缓冲区NA。显示区AA内可以设置多个像素结构,像素结构可以通过发光器件发光,实现画面显示。开孔区HA可以用于设置显示设备的前置摄像头、听筒或者光源等功能器件,本申请实施例不作具体限定。所述缓冲区可以设置有隔离柱13;所述发光层12设置于所述隔离柱13远离所述衬底层的一侧。
所述隔离柱13可以包括第一无机层14和第二无机层15;相邻所述隔离柱13的所述第一无机层14之间可以间隔设置有凹槽141;相邻所述隔离柱13的所述第二无机层15之间间隔设置有镂空151;所述凹槽141与所述镂空151连通。
在远离显示区的方向上,所述隔离柱13可以包括第一隔离柱131和第二隔离柱132。在所述第二无机层15远离所述第二隔离柱132一侧的侧壁处和/或在所述第二无机层15远离所述第一隔离柱131的一侧的侧壁处,所述发光层12断开。所述第一隔离柱131和所述第二隔离柱132还可以分别包括第一金属层16。所述第一金属层16设置在所述第一无机层14与所述第二无机层15之间。这样,可以利用第二无机层15不导电的性能彻底隔断电势差下存在的电子&杂质离子移动通道19。
在其中一些实施例中,所述第一金属层16可以包括在远离衬底基板11的方向层叠设置的第一子金属层161和第二子金属层162。第一子金属层161的材料可以为金属钛,第二子金属层162的材料可以为金属铝。光发层可以在第二子金属层162的侧壁和第二无机层15的侧壁处断开设置。其中,第一金属层16在靠近显示区一侧的侧壁可以呈阶梯状。其中,第二子金属层162的宽度可以小于第一子金属层161,可以使第二金属层18相较于第一子金属层161凹陷,这样可以利用发光层12的发光材料较差的爬坡性使得发光层12在第二子金属层162的侧壁和第二无机层15的侧壁处断开设置。这样还可以断开在显示面板运行过程中铝搭接发光层12形成的电流通道,避免在接触外界的POL等资材时,易移动的杂质离子沿着电流通道在电势差驱动下持续移动对隔离柱13中Al的腐蚀。相较于第一金属层16为Ti-Al-Ti的膜层,能够良好地隔断电势差下存在的电子&杂质离子移动通道19。
如图3和图4所示。在长期深入的研究后申请人发现,上述结构的显示面板,在隔离柱13的断电位置处显示面板的内外部的电势差最大,由于采用第二无机层15隔断电流,而无机层受限于工艺通常较薄,会导致当组装工艺去离子Bar功率不稳定或者撕膜等工艺波动时,容易在第一隔离柱131和第二隔离柱132中的发光层12断开位置处产生瞬时高电压,从而使得该处极易发生静电电容击穿,造成短路,使得发光层12/阴极容易被熔化,形成孔洞。如图4所示,在IC侧裸露的VSS走线中,远离显示区AA的方向上依次排列为第一根走线,第二根走线,第三根走线和第四根走线。可以看出,在第二根走线对应的隔离柱13处断电位容易产生瞬时高电压,在第三根走线对应的隔离柱13位置处容易产生瞬时高电压。
基于上述的问题,本申请实施例提供的显示面板中在第一隔离柱131和第二隔离柱132中增加现有击穿膜层(例如第一金属层16和发光层12)之间的层间介质,并利用后续工艺堆叠,增加第一金属层16与上方的发光层12之间的距离和面积,能够在隔断电势差下存在的电子&杂质离子移动通道19的前提下,增强抗静电击伤的能力,避免对发光层12/阴极层造成损害。
如图5a所示,在其中一些实施例中,所述第一隔离柱131和所述第二隔离柱132还可以分别包括加厚层17;所述加厚层17可以设置在所述第二无机层15与所述发光层12之间。这样,加厚层17的设置可以增加第二无机层15与所述发光层12之间的厚度和电容板面积,增强抗静电击伤的能力,避免对发光层12/阴极层造成损害。
在其中一些实施例中,在所述第一隔离柱131远离所述第二隔离柱132的一侧,所述第一隔离柱131在所述衬底基板11的正投影的边缘覆盖所述加厚层17在所述衬底基板11的正投影的边缘;且在所述第二隔离柱132远离所述第一隔离柱131的一侧,所述第二隔离柱132在所述衬底基板11的正投影的边缘覆盖所述加厚层17在所述衬底基板11的正投影的边缘。这样,在宽度方向上,加厚层17的尺寸小于第一隔离柱131和第二隔离柱132的互相远离的侧壁之间的尺寸,可以更好地断开在显示面板运行过程中铝搭接发光层12形成的电流通道。
在其中一些实施例中,如图5a和图5b所示,所述加厚层17的截面的形状可以为近半圆形或者梯形,且贯穿所述第一隔离柱131和所述第二隔离柱132之间的所述镂空151和所述凹槽141。所述加厚层17的侧壁可以为倾斜状的侧壁或者圆弧状的侧壁。这样可以使得加厚层17具有更大的面积。
所述隔离柱13还可以包括在所述第一隔离柱131远离所述第二隔离柱132一侧设置的第三隔离柱133,和在所述第二隔离柱132远离所述第一隔离柱131一侧设置的第四隔离柱134。也即,所述隔离柱13还可以包括分别设置在第一隔离柱131和第二隔离柱132互相远离的一侧的第三隔离柱133和第四隔离柱134。其中,第三隔离柱133和第四隔离柱134的结构可以相同。在其中一些实施例中,所述第一隔离柱131和所述第四隔离柱134分别包括第二金属层18,所述第二金属层18可以设置在所述第二无机层15与所述发光层12之间,在所述第三隔离柱133和所述第四隔离柱134中的所述第二无机层15的侧壁处的发光层12分别断开。可以实现对于水汽的隔绝,且不在第三隔离柱133处断开铝搭接发光层12形成的电流通道,且不在第四隔离柱134处造成IC侧的静电的断开。
在其中一些实施例中,所述第二金属层18可以为三层金属组成的层级结构,例如为Ti-Al-Ti的膜层。
在其中一些实施例中,在所述第二无机层15远离所述第二隔离柱132一侧的侧壁处所述发光层12断开;在所述第二无机层15远离所述第一隔离柱131的一侧的侧壁处所述发光层12连续且呈阶梯状。也即,发光层12在第一隔离柱131的侧壁处断开,而在第二隔离柱132的侧壁处是连续的。这样,可以在第二无机层15远离所述第二隔离柱132一侧的侧壁处实现铝搭接发光层12形成的电流通道的断开,和IC侧的裸露的VSS走线的静电的断开。
在其中一些实施例中,在所述第二隔离柱132中,所述第二无机层15远离所述第一隔离柱131的一侧的侧壁处包括第一台阶和第二台阶,所述第二台阶位于所述第一台阶的远离所述衬底基板11的一侧;所述第二台阶的高度大于所述第一台阶的高度。在所述第一隔离柱131中,所述第二无机层15靠近所述第二隔离柱132一侧的侧壁呈阶梯状,包括第一台阶和第二台阶,所述第二台阶位于所述第一台阶的远离所述衬底基板11的一侧。所述第一金属层16的宽度小于所述第二无机层15的宽度。
在其中一些实施例中,如图6a和图6b所示,在第一隔离柱131中所述第二无机层15远离所述第二隔离柱132一侧的侧壁处所述发光层12断开,所述第二无机层15靠近所述第二隔离柱132一侧的侧壁呈阶梯状。且在第二隔离柱132中所述第二无机层15远离所述第一隔离柱131的一侧的侧壁处所述发光层12断开,所述第二无机层15靠近所述第一隔离柱131的一侧的侧壁呈阶梯状。这样可以更好地隔断易移动的杂质离子沿着铝搭接发光层12形成的电流通道的移动通道19。
在其中一些实施例中,所述显示区可以包括在衬底基板11上设置的层间绝缘层,第一源漏电极层、钝化层、第一平坦层、第二源漏电极层、第二平坦层、像素界定层和发光层。也即,所述显示区可以包括在远离所述衬底基板11的方向上层叠设置的平坦层、像素界定层和发光层12。平坦层可以包括第一平坦层和第二平坦层。其中,第一平坦层设置在钝化层远离衬底基板11的一侧,第二平坦层设置在第一平坦层远离衬底基板11的一侧。还包括在所述第一平坦层靠近所述衬底基板11的方向上层叠设置的钝化层、第一源漏电极层和层间绝缘层;还包括第二源漏电极层,所述第二源漏电极层设置在所述第一平坦层与所述第二平坦层之间。
所述加厚层17可以为有机层。这样可以与显示区中的相关层级结构同层设置,不会对显示区造成影响。所述平坦层和所述像素界定层中的至少一者与所述加厚层17同层设置。所述层间绝缘层与所述第一无机层14同层设置;所述第一金属层16与所述第一源漏电极层同层设置;所述第二无机层15与所述钝化层同层设置。所述第二金属层18与所述第二源漏电极层同层设置。在其中一些实施例中,所述第一无机层14的厚度可以大于所述第二无机层15的厚度。
在其中一些实施例中,所述第一平坦层可以与所述加厚层17同层设置。
在其中一些实施例中,所述第二平坦层可以与所述加厚层17同层设置。
在其中一些实施例中,所述像素界定层可以与所述加厚层17同层设置。
在其中一些实施例中,所述第一平坦层和所述第二平坦层可以与所述加厚层17同层设置。
在其中一些实施例中,所述第一平坦层和所述像素界定层可以与所述加厚层17同层设置。
在其中一些实施例中,所述第二平坦层和所述像素界定层可以与所述加厚层17同层设置。
在其中一些实施例中,所述第一平坦层、所述第二平坦层和所述像素界定层可以与所述加厚层17同层设置。这样,可以使得加厚层17具有更厚的厚度,极大增强整体的抗静电能力。
基于同一发明构思,与上述任意实施例的显示面板相对应的,本申请还提供了一种显示装置。
参考图7,所述显示装置100,可以包括如前任一项所述的显示面板。
需要说明的是,本申请实施例提供的显示装置可以包括智能手机、平板电脑、笔记本电脑、电视和智能穿戴显示装置等,智能穿戴显示装置可以包括智能手表等,本申请实施例不作具体限定。
上述实施例的装置具有前述任一实施例中相应的显示面板,并且具有相应的显示面板实施例的有益效果,在此不再赘述。
所属领域的普通技术人员应当理解:以上任何实施例的讨论仅为示例性的,并非旨在暗示本申请的范围(包括权利要求)被限于这些例子;在本申请的思路下,以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合,步骤可以以任意顺序实现,并存在如上所述的本申请实施例的不同方面的许多其它变化,为了简明它们没有在细节中提供。
另外,为简化说明和讨论,并且为了不会使本申请实施例难以理解,在所提供的附图中可以示出或可以不示出与集成电路(IC)芯片和其它部件的公知的电源/接地连接。此外,可以以框图的形式示出装置,以便避免使本申请实施例难以理解,并且这也考虑了以下事实,即关于这些框图装置的实施方式的细节是高度取决于将要实施本申请实施例的平台的(即,这些细节应当完全处于本领域技术人员的理解范围内)。在阐述了具体细节(例如,电路)以描述本申请的示例性实施例的情况下,对本领域技术人员来说显而易见的是,可以在没有这些具体细节的情况下或者这些具体细节有变化的情况下实施本申请实施例。因此,这些描述应被认为是说明性的而不是限制性的。
尽管已经结合了本申请的具体实施例对本申请进行了描述,但是根据前面的描述,这些实施例的很多替换、修改和变型对本领域普通技术人员来说将是显而易见的。例如,其它存储器架构(例如,动态RAM(DRAM))可以使用所讨论的实施例。
本申请实施例旨在涵盖落入所附权利要求的宽泛范围之内的所有这样的替换、修改和变型。因此,凡在本申请实施例的精神和原则之内,所做的任何省略、修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。
- 日志数据处理方法、装置、计算机设备和存储介质
- 一种数据库的审计日志处理方法及相关装置
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- 地图引擎的日志数据处理方法及相关设备
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