光处理装置

技术领域

本发明涉及光处理装置。

背景技术

以往，已知有将膜材料、玻璃板等(以下，有时将处理对象物统称为“工件”。)暴露于通过向氧照射紫外光而生成的臭氧，从而来进行工件的表面处理的技术。例如，在下述专利文献1中，公开了利用由臭氧引起的氧化反应对膜材料的表面进行改性处理的方法。另外，在下述专利文献2中，公开了利用由臭氧引起的氧化反应对玻璃板的表面进行清洗处理的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2012/077553号

专利文献2：日本专利第5083318号公报

发明内容

发明要解决的课题

近年来，通过将工件暴露于臭氧来处理工件表面的方法不仅用于膜材料的改性处理、玻璃板的清洗处理，还用于构成薄型显示器的液晶基板上的细微器件的处理等。具体而言，例如，用于由金属层构成的薄膜晶体管的栅极电极表面的亲水化处理中。

然而，在将半导体基板上、液晶基板上的金属层暴露于臭氧而进行亲水化处理的情况下，该金属层的表面被亲水化处理，并且逐渐被氧化而形成金属氧化膜。特别是，当臭氧浓度过高时，促进金属氧化膜的形成，在金属层的表面形成的金属氧化膜的厚度容易变大。

金属氧化膜与被氧化前的金属的物性不同，也取决于所使用的蚀刻溶液等，但一般来说，与被氧化前的金属相比，反应性差，蚀刻速度慢。因此，金属氧化膜形成得越厚，越容易产生无法通过蚀刻处理将器件加工成所希望的形状的问题。

在此，本发明人们为了抑制上述问题的发生，对以比以往的膜材料、玻璃板的处理中的臭氧浓度低的臭氧浓度进行处理的方法进行了研究。

然而，本发明人们等尝试将腔室内的臭氧浓度控制得比以往低来实施工件的处理，结果臭氧浓度在所希望的范围内不稳定，多发生不能允许的程度的处理不均，能够正常处理的工件极少。

本发明鉴于上述课题，目的在于提供一种即使在使腔室内的臭氧浓度降低而进行了工件的处理的情况下，也能够稳定且均质地进行处理的光处理装置。

用来解决课题的手段

本发明的光处理装置，其特征在于，具备：

搬送机构，搬送所述工件，具有多个搬送辊；

主腔室，具有搬入由所述搬送机构搬送的所述工件的第一搬入口和搬出所述工件的第一搬出口；

分隔部件，在所述主腔室内，在与所述工件的搬送方向和所述搬送辊的旋转轴方向正交的方向上，将所述多个搬送辊之间的至少一部分划分为处理空间和滞留空间；

紫外光源，配置于所述主腔室的所述处理空间内，朝向由所述搬送机构搬送的所述工件的一面，射出主要发光波长为200nm以下的紫外光；

气体导入口，向所述主腔室内导入工艺气体；以及

搬入副腔室，具有搬入所搬送的所述工件的第二搬入口和搬出所述工件的第二搬出口，所述第二搬出口与所述第一搬入口连通，

所述搬送辊至少一部分位于比所述分隔部件靠所述处理空间侧的位置。

本说明书中的“主要发光波长”是指，在发光光谱上规定了相对于某一波长λ为±10nm的波长区域Z(λ)的情况下，相对于发光光谱内的总积分强度示出40％以上的积分强度的波长区域Z(λi)中的波长λi。

在本说明书中，“工艺气体”是指，将惰性气体和在臭氧的生成中所使用的含氧气体混合而生成的混合气体。

在本说明书中，搬入口与搬出口“连通”是指，在工件的搬送方向上至少一部分连续地连接的状态。例如，可以设想使主腔室与搬入副腔室接触，将第一搬入口与第二搬出口连续地连接的状态、或经由连结部件连续地连接的状态等。

分隔部件不必是将主腔室内的空间完全分离成处理空间与滞留空间的部件，也可以部分地连通处理空间与滞留空间。但是，在从处理空间侧朝向滞留空间侧观察时，相对于分隔部件整体的面积，未配置有分隔部件及搬送机构的区域的面积的合计优选为10％以下，更优选为6％以下。

另外，关于该分隔部件的具体构成，在“具体实施方式”的项目中参照附图进行说明。另外，分隔部件不仅可以设置在主腔室中，也可以追加设置在搬入副腔室中。

本发明人们注意到，在要以比以往低的臭氧浓度处理工件的情况下，由于存在于外侧的气体(以下，有时称为“外部气体”。)流入处理空间内而导致臭氧浓度的相对变动变大，因此无法进行稳定的处理。另外，本发明人们还注意到，在将腔室的内部空间整体作为处理空间的情况下，由于自然对流，臭氧难以停留在工件周边，产生工件未被处理的情况。另外，由于臭氧难以停留在工件周边，因此，臭氧浓度越低，越容易产生工件未被处理的现象。

因此，根据上述光处理装置的构成，由于主腔室的第一搬入口与搬入副腔室的第二搬出口连通，因此外部气体最初从第二搬入口流入搬入副腔室内。即，搬入副腔室作为缓冲空间发挥功能，抑制外部气体直接从第一搬入口流入。

另外，存在于搬入副腔室内的气体是主腔室的处理空间内的气体与外部气体混合而成的混合气体。因此，在将工件搬入主腔室内时，搬入副腔室内的气体流入主腔室内，但与外部气体直接流入的情况相比，该气体对处理空间内的臭氧浓度的影响较小。

另外，在主腔室内生成的臭氧的绝大多数被分隔部件抑制通过搬送辊而移动至滞留空间侧。

即，上述构成的光处理装置与外部气体直接流入主腔室内的构成相比，可抑制主腔室内的臭氧浓度的变动，并且，在处理空间内生成的臭氧容易停留在工件周边。因而，上述构成的光处理装置与以往的光处理装置相比，即使是较低的臭氧浓度，也能够稳定且均质地处理工件整体。

上述光处理装置也可以构成为，具备：

至少一个主排气口，将所述主腔室内的气体排出；

至少一个第一副排气口，将所述搬入副腔室内的气体排出；以及

排气控制机构，控制从所述主排气口及所述第一副排气口排出的气体的量，

所述排气控制机构进行控制，以使每单位时间从所述主排气口排出的气体的总量比从所述第一副排气口排出的气体的总量少。

通过采用上述构成，搬入副腔室内的气压比主腔室的处理空间内的气压低。通过形成这种气压关系，可抑制从搬入副腔室的第二搬入口流入的外部气体流入主腔室的处理空间内。因而，光处理装置在处理工件的过程中的主腔室的处理空间内的臭氧浓度的变动进一步变小，能够更加均质地处理工件整体。

上述光处理装置也可以具备搬出副腔室，该搬出副腔室形成有搬入由所述搬送机构搬送的所述工件的第三搬入口和搬出所述工件的第三搬出口，所述第三搬入口与所述第一搬出口连接。

而且，上述光处理装置也可以构成为，具备：

至少一个主排气口，将所述主腔室内的气体排出；

至少一个第一副排气口，将所述搬入副腔室内的气体排出；

至少一个第二副排气口，将所述搬出副腔室内的气体排出；以及

排气控制机构，控制从所述主排气口、所述第一副排气口以及所述第二副排气口排出的气体的量，

所述排气控制机构进行控制，以使每单位时间从所述主排气口排出的气体的总量比从所述第一副排气口排出的气体的总量少、且比从所述第二副排气口排出的气体的总量少。

由于第一搬出口是将工件从主腔室内朝向外侧搬出的开口，因此与搬入工件的第一搬入口相比，主腔室内的气体容易与工件一同向外侧漏出。这种气体从主腔室内的漏出很可能成为处理空间内的臭氧浓度发生紊乱的重要原因。另外，存在不少从第一搬出口流入的外部气体，虽然其与第一搬入口相比很少。

因此，通过采用上述构成，能够进一步抑制从第一搬出口侧流入的外部气体的影响。因而，光处理装置在对工件进行处理的过程中的主腔室的处理空间内的臭氧浓度的变动进一步变小，能够更加均质地处理工件整体。

上述光处理装置也可以具备：

抽气管，具有配置于所述处理空间内的取入口和配置于所述处理空间外的排出口，从所述取入口抽出所述处理空间内的气体；以及

浓度计，与所述抽气管的所述排出口连接，测定从所述排出口流入的气体的臭氧浓度。

在上述光处理装置中，也可以是，

所述抽气管具备多个所述取入口，

多个所述取入口沿着所述搬送辊的旋转轴方向排列。

通过采用上述构成，在发生某些异常、主腔室内的臭氧浓度超过了规定的范围的情况下、或尽管搬入了工件但臭氧浓度未到达规定的范围的情况下等，能够紧急停止光处理装置。另外，在该构成中，由于能够记录主腔室内的臭氧浓度的变化，因此，例如在处理完毕的工件中发生了不良的情况下，能够确认、分析在利用光处理装置进行的处理中是否发生了异常。

上述光处理装置也可以具备工艺气体控制部，该工艺气体控制部基于所述浓度计测定的臭氧浓度，控制从所述气体导入口导入到所述主腔室内的工艺气体的流量。

上述光处理装置也可以具备电力控制部，该电力控制部基于所述浓度计测定的臭氧浓度，控制向所述紫外光源供给的电力。

通过采用上述构成，能够监视主腔室的处理空间内的臭氧浓度，进而能够进行反馈控制，以使处理空间内的臭氧浓度稳定在所希望的浓度。因而，光处理装置在处理工件的过程中的主腔室的处理空间内的臭氧浓度的变动进一步变小，能够更加均质地处理工件整体。

发明效果

根据本发明，能够实现即使在使腔室内的臭氧浓度降低而进行了工件的处理的情况下，也能够稳定且均质地进行处理的光处理装置。

附图说明

图1是从Y方向观察光处理装置的一个实施方式时的示意图。

图2是图1的处理空间A1周边的放大图。

图3是从X方向观察主腔室时的附图。

图4A是示意地表示主腔室内的搬送机构的构成的立体图。

图4B是从+Z侧观察图4A的搬送机构时的附图。

图4C是从Y方向观察图4A的搬送机构时的附图。

图5A是从Y方向观察比较例1的构成时的示意图。

图5B是从Y方向观察比较例2的构成时的示意图。

图6是表示浓度计测定的臭氧浓度的时间变化的图表。

图7A是表示搬送机构及分隔部件的一个构成例的示意图。

图7B是表示搬送机构及分隔部件的一个构成例的示意图。

图8是从Y方向观察光处理装置的其他实施方式时的示意图。

图9是从Y方向观察光处理装置的其他实施方式时的示意图。

附图标记说明

1：光处理装置

2：主腔室

2a：第一搬入口

2b：第一搬出口

2c：主排气口

2f：排气用风扇

2p：分隔部件

2pa：主面

2pb：孔

2pc：袋

3：搬入副腔室

3a：第二搬入口

3b：第二搬出口

3c1、3c2：副排气口

3f：排气用风扇

3p：分隔部件

4：搬出副腔室

4a：第三搬入口

4b：第三搬出口

4c1、4c2：副排气口

4f：排气用风扇

4p：分隔部件

5：搬送机构

5a：搬送辊

10：工艺气体控制部

10a：浓度计

11：气体供给源

20：紫外光源

20a：光射出面

21：配管

21a：气体导入口

22：抽气管

22a：取入口

22b：排出口

22c：合流部

80：电力控制部

90a：浓度计

90b：记录部

G1：工艺气体

W1：工件

具体实施方式

[装置构成]

以下，参照附图对本发明的光处理装置进行说明。另外，与光处理装置相关的以下各附图都是示意性图示，附图上的尺寸比、个数不一定与实际的尺寸比、个数一致。

另外，以下，在说明光处理装置的构成的基础上，有时具体确定工件而进行说明。然而，作为本发明的光处理装置的对象的工件并不限定于以下的说明中确定的工件。

(光处理装置1)

图1是从Y方向观察光处理装置1的一个实施方式时的示意图，图2是图1的处理空间A1周边的放大图。如图1所示，光处理装置1具备主腔室2、搬入副腔室3、搬出副腔室4、由多个搬送辊5a构成的搬送机构5、工艺气体控制部10、气体供给源11以及排气控制部12。另外，排气控制部12是一个控制部，但为了方便图示，分成多个进行图示。

在以下的说明中，如图1所示，将工件W1的搬送方向设为X方向，将搬送机构5所具备的搬送辊5a的旋转轴方向设为Y方向，将与XY平面正交的方向设为Z方向。

另外，在表现方向时，在区分正负方向的情况下，如“+Z方向”、“-Z方向”那样标注正负符号进行记载，在不区分正负方向而表现方向的情况下，仅记载为“Z方向”。

如图1所示，在光处理装置1中，朝向+X方向，依次排列有搬入副腔室3、主腔室2、搬出副腔室4。如图1所示，搬送机构5将载置于搬送辊5a上的工件W1向+X方向搬送。

如图2所示，搬入副腔室3与主腔室2以相互接触的方式配置，后述的第一搬入口2a与第二搬出口3b连通。另外，主腔室2与搬出副腔室4以相互接触的方式配置，后述的第一搬出口2b与第三搬入口4a连通。

如图2所示，工艺气体控制部10具备测定处理空间A1内的气氛气体的臭氧浓度的浓度计10a。浓度计10a测定由抽气管22抽出的主腔室2内的气氛气体G2的臭氧浓度。然后，如图1所示，工艺气体控制部10基于由浓度计10a测定的臭氧浓度，对气体供给源11输出包括与工艺气体G1的流量相关的信息的控制信号d1。另外，工艺气体控制部10与浓度计10a也可以分体构成。

气体供给源11基于从工艺气体控制部10输入的控制信号d1，向主腔室2的配置有紫外光源20的处理空间A1内，以指定的流量供给工艺气体G1。

本实施方式中的工艺气体G1是含有氧气与氮气的混合气体，典型来说不是空气。另外，作为工艺气体G1，例如也可以采用混合了CDA(清洁干燥空气)与氮气的混合气体。本实施方式中的工艺气体G1被调整为，氧的含有率为0.1％，氮的含有率为99.9％。

(主腔室2)

如图1所示，主腔室2具备多个紫外光源20、配管21、抽气管22、主排气口2c、分隔部件2p以及排气用风扇2f。在主腔室2中收容有搬送机构5的一部分。而且，如图2所示，在主腔室2的壁面上设有在X方向上对置的第一搬入口2a与第一搬出口2b，构成为工件W1从第一搬入口2a搬入，从第一搬出口2b搬出。

如图2所示，紫外光源20是对由搬送机构5搬送的工件W1照射紫外光的光源。本实施方式中的紫外光源20是在管体内封入含有氙(Xe)气的发光气体，并通过从电源部(未图示)施加电压而射出主要发光波长为172nm的紫外光的准分子灯。

紫外光源20被配置为，在Z方向上与由搬送机构5搬送的工件W1的分离距离为10mm以下。

另外，紫外光源20只要是能够射出主要发光波长为200nm以下的紫外光的光源，也可以采用准分子灯以外的光源。另外，即使在采用准分子灯的情况下，也可以采用封入有含有氙(Xe)气以外的气体的发光气体的准分子灯。

另外，本实施方式中的准分子灯是以与管轴正交的面切断时的形状呈矩形状的、呈也被称为扁平管形状的准分子灯，但也可以采用呈扁平管形状以外的形状(例如被称为单层管形状、双层管形状的形状)的准分子灯。

配管21是将从气体供给源11供给的工艺气体G1导向主腔室2内的部件。在本实施方式中，如图2所示，配管21的一部分分支，成为从多个气体导入口21a供给工艺气体G1的构成。另外，关于配管21的构成或形状、设置气体导入口21a的数量等，考虑主腔室2的大小、内部构造等而决定。例如，也可以在X方向上，在主腔室2的中央部侧即灯20之间的空间进一步设置配管21。

这里，如图2所示，在本实施方式中，配置于搬入副腔室3侧的配管21构成为向+X方向喷射工艺气体G1，并且也向-Z方向喷射工艺气体G1。根据该构成，可抑制伴随着工件W1的搬入的包含外部气体的气体从搬入副腔室3向主腔室2流入。

图3是从X方向观察主腔室2时的附图。如图1～图3所示，在抽气管22中，配置于主腔室2内的一端部即取入口22a配置于处理空间A1内，另一端部即排出口22b与工艺气体控制部10所具备的测定臭氧浓度的浓度计10a连接。通过该构成，抽气管22将处理空间A1内的含有臭氧的气氛气体G2导向浓度计10a。

取入口22a也可以配置于处理空间A1内的任意的位置，但在本实施方式中，为了更准确地监视工件W1周边的臭氧浓度是否处于所希望的范围内，在Z方向上配置于与紫外光源20的光射出面20a相同的位置。

如图3所示，本实施方式的抽气管22设有合流部22c，多个取入口22a在Y方向上等间隔地排列。另外，在主腔室2足够小、通过从一处吸引处理空间A1内的气氛气体G2能够稳定地测量臭氧浓度的情况下，抽气管22也可以不具备合流部22c，取入口22a仅为一个。

如图1所示，主排气口2c是将主腔室2内的气氛气体G2向主腔室2的外侧排出的排气口。在本实施方式中，通过排气控制部12控制排气用风扇2f的转速来调整从主排气口2c排出的气氛气体G2的量。

图4A是示意地表示主腔室2内的搬送机构5的构成的立体图，图4B是从+Z侧观察图4A的搬送机构5时的附图，图4C是从Y方向观察图4A的搬送机构5时的附图。如图4A～图4C所示，分隔部件2p形成有与多个搬送辊5a分别对应的多个孔2pb，通过在孔2pb中插通搬送辊5a的状态下进行固定，从而将主腔室2内的空间在Z方向上划分为处理空间A1与滞留空间A2。而且，如图4C所示，搬送辊5a的一部分比分隔部件2p的主面2pa更向+Z侧突出，由此工件W1不被分隔部件2p阻挡地向X方向搬送。

另外，虽然只是一个例子，但本实施方式中的分隔部件2p的大小为(X，Y)＝(280mm，3400mm)。另外，设于分隔部件2p的孔2pb的大小为(X，Y)＝(28mm，13mm)，一个搬送辊5a的直径为45mm，Y方向的长度为11mm。而且，在主腔室2内配置有60个搬送辊5a。

(搬入副腔室3)

如图1所示，搬入副腔室3具备多个副排气口(3c1、3c2)和分隔部件3p，收容有搬送机构5的一部分。而且，如图1所示，在搬入副腔室3的壁面设有在X方向上对置的第二搬入口3a与第二搬出口3b，工件W1从第二搬入口3a搬入，从第二搬出口3b搬出。

如图1所示，在搬入副腔室3中设有分隔部件3p，内侧的空间被划分为搬送机构5的+Z侧的空间B1和-Z侧的空间B2。

副排气口3c1是用于吸引存在于空间B1内的气氛气体G3并向搬入副腔室3的外侧排气的开口。

副排气口3c2是用于吸引存在于空间B2内的气氛气体G3并向搬入副腔室3的外侧排气的开口。

本实施方式中的副排气口(3c1、3c2)是将存在于搬入副腔室3的内侧的气氛气体G3向外侧排气的开口，均相当于第一副排气口。

如图1所示，在副排气口(3c1、3c2)的每一个上设有用于排出搬入副腔室3内的气氛气体G3的排气用风扇3f，通过排气控制部12控制排气用风扇3f的转速，调整对搬入副腔室3内的气氛气体G3进行排气的量。

另外，排气控制部12控制排气用风扇3f，以使每单位时间从主排气口2c排出的气氛气体G2的量比从副排气口(3c1、3c2)排出的气氛气体G3的总量少。由此，搬入副腔室3的空间B1的气压比主腔室2的处理空间A1的气压低，可抑制气氛气体G3从搬入副腔室3流入主腔室2。

在本实施方式中，调整为从主排气口2c每单位时间排出的气氛气体G2的量为10L/min，从副排气口(3c1、3c2)每单位时间排出的气氛气体G3的量为950L/min。即，控制为每单位时间从主排气口2c排出的气氛气体G2的总量比从副排气口(3c1、3c2)排出的气氛气体G3的总量少。

(搬出副腔室4)

如图1所示，搬出副腔室4具备多个第二副排气口(4c1、4c2)和分隔部件4p，收容有搬送机构5的一部分。而且，如图1所示，在搬出副腔室4的壁面上设有在X方向上对置的第三搬入口4a与第三搬出口4b，工件W1从第三搬入口4a搬入，从第三搬出口4b搬出。

如图1所示，在搬出副腔室4中设有分隔部件4p，内侧的空间被划分为搬送机构5的+Z侧的空间C1和-Z侧的空间C2。

副排气口4c1是用于吸引存在于空间C1内的气氛气体G4并向搬出副腔室4的外侧排气的开口。

副排气口4c2是用于吸引存在于空间C2内的气氛气体G4并向搬出副腔室4的外侧排气的开口。

本实施方式中的副排气口(4c1、4c2)是将存在于搬出副腔室4的内侧的气氛气体G4向外侧排气的开口，均相当于第二副排气口。

如图1所示，在副排气口(4c1、4c2)的每一个上设有用于排出搬出副腔室4内的气氛气体G4的排气用风扇4f，排气控制部12控制排气用风扇4f的转速，调整对搬出副腔室4内的气氛气体G4进行排气的量。

在本实施方式中，调整为从副排气口(4c1、4c2)每单位时间排出的气氛气体G4的量为950L/min。即，控制为每单位时间从主排气口2c排出的气氛气体G2的总量比从副排气口(4c1、4c2)排出的气氛气体G4的总量少。

每单位时间从副排气口(3c1、3c2)排出的气氛气体G3的总量和从副排气口(4c1、4c2)排出的气氛气体G4的总量优选如本实施方式那样设定为相同。更详细地说，优选每单位时间从副排气口3c1排出的气氛气体G3和从副排气口4c1排出的气氛气体G4的量相同，并且每单位时间从副排气口3c2排出的气氛气体G3和从副排气口4c2排出的气氛气体G4的量相同。但是，从各个排气口(3c1、3c2、4c1、4c2)排出的气氛气体(G3、G4)的量也可以各不相同。

另外，排气控制部12控制排气用风扇4f，以使每单位时间从主排气口2c排出的气氛气体G2的量比从副排气口(4c1、4c2)排出的气氛气体G4的总量少。由此，搬出副腔室4的空间C1的气压比主腔室2的处理空间A1的气压低，可抑制气氛气体G4从搬出副腔室4流入主腔室2。

[验证实验]

这里，由于实施了确认本实施方式的光处理装置1与以往构成的光处理装置相比，使主腔室2的处理空间A1内的臭氧浓度稳定在更低的浓度的验证实验，下面进行说明。

(实施例)

实施例为上述本实施方式的光处理装置1。

(比较例1)

图5A是从Y方向观察比较例1的构成时的示意图。如图5A所示，比较例1除了不具备分隔部件(2p，3p、4p)这一点之外，是与实施例相同的构成。

(比较例2)

图5B是从Y方向观察比较例2的构成时的示意图。如图5B所示，比较例2除了不具备搬入副腔室3、搬出副腔室4以及分隔部件2p这一点之外，是与实施例相同的构成。

(条件)

臭氧浓度的测定利用浓度计10a进行。另外，不搬送工件W1，臭氧浓度的测定时间设为5分钟。

(结果)

图6是表示浓度计10a测定的臭氧浓度的时间变化的图表。如图6所示，可以确认，比较例1的臭氧浓度相对于比较例2，变动被抑制，在更低的浓度下稳定。而且，可以确认，实施例相对于比较例1，变动被进一步抑制，在更低的臭氧浓度下稳定。

根据以上，光处理装置1与外部气体直接流入主腔室2内的以往的构成相比，抑制了主腔室2内的臭氧浓度的变动，并且在处理空间A1内生成的臭氧容易停留在工件W1周边。因而，光处理装置1与以往的光处理装置相比，即使是较低的臭氧浓度，也能够稳定且均质地处理工件整体。

另外，流入主腔室2内的气体中，伴随着工件W1的搬入从第一搬入口2a流入处理空间A1内的气体的比例非常大。因此，根据主腔室2、第一搬入口2a及第一搬出口2b的尺寸，即使光处理装置1不具备搬出副腔室4，有时也能够使主腔室2的处理空间A1内的臭氧浓度充分地稳定。

另外，在副腔室(3、4)内，气氛气体(G3、G4)的循环对主腔室2的处理空间A1内的臭氧浓度几乎没有影响。因此，对于副腔室(3、4)，也可以不设置分隔部件(3p、4p)。

图7A及图7B是表示搬送机构5以及分隔部件2p的一个构成例的示意图。如图7A所示，分隔部件2p可以是不设置使搬送辊5a贯通的孔2pb而设置收容搬送辊5a的袋2pc的构成，也可以是配置于搬送辊5a的-Z侧的未设有孔2pb、袋2pc的板状的部件。另外，这里对分隔部件2p的构成进行了说明，但设于各副腔室(3、4)的分隔部件(3p、4p)也可以是上述那样的构成，而且，分隔部件(2p、3p、4p)的形状也可以各不相同。

而且，如图4A及图4B所示，搬送辊5a在X方向及Y方向上排列，但配置位置是任意的，只要能够没有问题地搬送工件W1，则也可以采用不规则的配置。而且，搬送辊5a单体的形状是任意的，如图7B所示，也可以呈沿Y方向延伸的形状。

在本实施方式中，具备从各排气口(2c、3c1、3c2、4c1、4c2)排出各个腔室(2、3、4)内的气氛气体(G2、G3、G4)的排气控制机构，但光处理装置1也可以不具备排气控制机构。例如，通过向处理空间A1内供给工艺气体G1，处理空间A1内的气压变高，在充分抑制气氛气体(G3、G4)的流入而使臭氧浓度稳定的情况下，也可以不具备排气控制机构。另外，气氛气体(G2、G3、G4)的排气量的控制也可以使用排气用风扇(2f，3f，4f)以外的机构来进行。例如，各排气口(2c、3c1、3c2、4c1、4c2)也可以经由风量调整用的风门、可变阀等与设于设施内的排气用管道连通，以能够调整排出的气氛气体(G2、G3、G4)的量。根据该构成，通过风量调整用的风门、可变阀等调整引入排气用管道的气体的量，由此调整从各排气口(2c、3c1、3c2、4c1、4c2)排出的气氛气体(G2、G3、G4)的量。另外，风量调整用的风门、可变阀的控制可以由排气控制机构自动进行，也可以由人手动进行。

在本实施方式中，通过浓度计10a测定处理空间A1内的气氛气体G2的臭氧浓度，控制从气体供给源11供给的工艺气体G1的流量，但也可以构成为不具备浓度计10a，而以一定的流量从气体供给源11供给工艺气体G1。

[其他实施方式]

以下，对其他实施方式进行说明。

〈1〉图8是从Y方向观察光处理装置1的其他实施方式时的示意图。如图8所示，光处理装置1也可以具备电力控制部80，该电力控制部80具有浓度计10a，根据浓度计10a测定的主腔室2内的气氛气体G2的臭氧浓度，控制向紫外光源20供给的电力。

在上述构成的情况下，例如，使从气体供给源11供给的工艺气体G1的量恒定，利用从紫外光源20射出的紫外光的强度，控制在处理空间A1内生成的臭氧的量。

从紫外光源20射出的紫外光的强度，例如能够通过驱动电压、供给的电流的大小、在以交流供给的情况下还通过频率、占空比的调整等，与气体的供给量的调整相比细微地进行调整。

〈2〉图9是是从Y方向观察光处理装置1的与图8不同的实施方式时的示意图。如图9所示，光处理装置1可以具备用于监视处理空间A1的气氛气体G2的臭氧浓度的浓度计90a，还可以具备记录浓度计90a所测定的气氛气体G2的臭氧浓度的数据的记录部90b。另外，光处理装置1也可以具备将该数据通过无线或有线发送到外部设备的发送部。另外，记录部90b例如是微机等所具备的存储器、外部设备所具备的硬盘等、或存储器设备等单体的记录介质等。

通过采用上述构成，例如，在处理完毕的工件W1中发生了不良的情况下，能够确认处理空间A1内的臭氧浓度是否发生了异常、对不良原因进行分析。另外，在构成为能够始终监视处理空间A1内的臭氧浓度的情况下，在工件W1的处理中，能够检测处理空间A1内的臭氧浓度的异常。

〈3〉上述的光处理装置1所具备的构成只是一个例子，本发明并不限于图示的各构成。