气浴装置及光刻设备

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种气浴装置及光刻设备。

背景技术

光刻设备是半导体产业中的关键设备，光刻设备的精度要求极高、结构非常复杂，产品精度达纳米级。为实现高精度设备的正常运行，需要在光刻设备整机内部建立一个稳定的工作环境，以控制整机内部的温度、压力以及污染物。

光刻设备整机内部的温度、压力及污染物的控制是通过在光刻设备整机各区域内形成一定正压的环境实现的，一方面可确保整机各区域内气体温度及压力恒定，另一方面可以确保外界的污染物无法进入整机各区域内。这种有正压的环境一般通过气浴装置不断向光刻设备内吹入洁净气体的方式实现的。然而光刻设备整机内部不同区域对于温度、压力的要求各不相同，尤其是工件承载模块区域，对于温度、压力的要求较高。在工件承载模块区域中，由于工件承载模块工作时有很高的速度和加速度，而且工件承载模块本身就是一个移动的热源，对周围环境有影响，为了保证工件承载模块的精密运动稳定可靠，工件承载模块区域的环境需要较为稳定，然而，工件承载模块的运动轨迹大，气浴装置需要覆盖整个工件承载模块的运动区域，所以需要占据较大的空间。

发明内容

本发明的目的在于提供一种气浴装置及光刻设备，无论工件承载模块以何种状态在何位置时都能确保工件承载模块始终在气浴覆盖下，并实现工件承载模块上表面的环境稳定。

为了达到上述目的，本发明提供了一种气浴装置，用以实现对所述光刻设备包括用于承载工件的内工件承载模块的气浴覆盖，包括：

供气模块，用于提供设定温度范围的气体；

第一气浴模块，设置于所述工件承载模块上并与所述供气模块连通，通过向所述工件承载模块的上表面吹气以在所述工件承载模块的上表面形成一稳定的气层。

可选的，所述工件承载模块包括运动台及工件承载台，所述工件承载台设置于所述运动台上并随所述运动台运动，所述第一气浴模块位于所述工件承载台的至少一侧上。

可选的，所述第一气浴模块设置于所述工件承载台内，且所述第一气浴模块通过出风口吹出的气流的方向与所述工件承载台的上表面之间构成一设定角度。

可选的，所述第一气浴模块设置于所述工件承载台的周围，且所述第一气浴模块的出风口不高于所述工件承载台的上表面，所述第一气浴模块通过出风口吹出的气流的方向与所述工件承载台的上表面之间构成一设定角度。

可选的，所述第一气浴模块设置于所述工件承载台的周围，且所述第一气浴模块的出风口高于所述工件承载台的上表面，所述第一气浴模块通过出风口吹出的气流的方向与所述工件承载台的上表面平行。

可选的，所述设定角度介于0°-45°之间。

可选的，所述第一气浴模块的出风口与所述工件承载台的上表面之间构成所述设定角度，以使所述第一气浴模块通过出风口吹出的气流的方向与所述工件承载台的上表面之间构成所述设定角度。

可选的，所述工件承载台与所述第一气浴模块的出风口接触的位置上具有一导流斜面，所述导流斜面与所述工件承载台的上表面之间构成所述设定角度，所述第一气浴模块通过出风口吹出的气流经所述导流斜面导流后与所述工件承载台的上表面之间构成所述设定角度。

可选的，所述第一气浴模块的出风口包括若干等距的狭缝。

可选的，所述第一气浴模块的出风口内设置有一网孔风板，所述网孔风板设置有若干均匀分布的通孔。

可选的，所述通孔的宽度介于0.02mm-0.05mm之间，相邻两个所述通孔之间的间距介于0.02mm-0.05mm之间。

可选的，所述第一气浴模块向所述工件承载模块的上表面吹出的气流的流速介于0.5m/s-5m/s之间。

可选的，所述光刻设备还包括主基板及设置于所述主基板底部的平面光栅，所述气浴装置还包括：

第二气浴模块，位于所述主基板底部并围绕所述平面光栅设置，所述第二气浴模块与所述供气模块连通，通过持续向所述光刻设备内吹气以使所述光刻设备内部保持温度及压力恒定。

可选的，所述第二气浴模块包括相互连通的第一气浴腔、第二气浴腔和第三气浴腔，所述第二气浴腔位于所述第一气浴腔及所述第三气浴腔之间，所述第一气浴腔较所述第三气浴腔更靠近所述光刻设备的中心，且所述第二气浴腔和所述第三气浴腔吹出的气流与所述主基板所在的平面垂直，所述第一气浴腔吹出的气流的方向与所述主基板所在的平面之间构成一锐角。

可选的，所述第一气浴腔与所述第二气浴腔之间设置有一压阻调节板，以使所述第一气浴腔吹送出的气流的流速大于所述第二气浴腔和所述第三气浴腔吹出的气流的流速。

可选的，所述光刻设备还包括若干位于所述运动台上的光栅读头，且所述气浴装置还包括：

第三气浴模块，所述第三气浴模块环绕所述光栅读头并与所述供气模块连通，通过向所述光栅读头的上表面吹气以在所述光栅读头的上表面形成一稳定的气层。

可选的，所述供气模块包括第一供气单元及第二供气单元，所述第一供气单元为所述第一气浴模块提供设定温度范围的气体，所述第二供气单元为所述第二气浴模块及所述第三气浴模块提供设定温度范围的气体，且所述第二供气单元提供的气体的湿度大于所述第一供气单元提供的气体的湿度。

可选的，所述气浴装置还包括：

抽排模块，包括排风口及与所述排风口连通的抽气单元，所述抽气单元通过所述排风口将所述光刻设备内的气体排出。

本发明还提供了一种光刻设备，包括所述的气浴装置。

在本发明提供的气浴装置设置于一光刻设备内，所述光刻设备包括用于承载工件的工件承载模块，所述气浴装置包括供气模块及与所述供气模块连通的第一气浴模块，所述供气模块用于提供设定温度范围的气体，由于所述第一气浴模块设置于所述工件承载模块上，能够跟随所述工件承载模块一起运动，由于通过向所述工件承载模块的上表面吹气以在所述工件承载模块的上表面形成一稳定的气层，以实现对所述工件承载模块的全行程的气浴覆盖，不受工件承载模块的运动影响，实现了工件承载模块上表面的环境稳定，从而可以提高光刻设备的曝光精度和/或测量精度。

附图说明

图1为本发明实施例提供的光刻设备内部环境沿水平方向的剖面示意图；

图2为本发明实施例提供的光刻设备内部环境的俯视示意图；

图3为本发明实施例提供的工件承载模块上设置四个第一气浴模块的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的工件承载模块上设置三个第一气浴模块的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的工件承载模块上设置两个第一气浴模块的一种设置方式的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的工件承载模块上设置两个第一气浴模块的另一种设置方式的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的工件承载模块上设置一个第一气浴模块的结构示意图；

图8a为本发明实施例提供的第一气浴模块设置于工件承载台内部且第一气浴模块的出风口与工件承载台的上表面之间构成设定角度的结构示意图；

图8b为本发明实施例提供的图8a中工件承载台的俯视图；

图9a为本发明实施例提供的第一气浴模块设置于工件承载台内部且在工件承载台内部设置导流斜面的结构示意图；

图9b为本发明实施例提供的图9a中工件承载台的俯视图；

图10a为本发明实施例提供的第一气浴模块设置于工件承载台外侧且第一气浴模块的出风口与工件承载台的上表面之间构成设定角度的结构示意图；

图10b为本发明实施例提供的第一气浴模块设置于工件承载台外侧且在工件承载台内部设置导流斜面的结构示意图；

图10c为本发明实施例提供的图10a或图10b中工件承载台的俯视图；

图11为本发明实施例提供的第一气浴模块设置于工件承载台外侧且出风口高于工件承载台时的结构示意图；

图12为本发明实施例提供的第一气浴模块的出风口为短狭缝的结构示意图；

图13为本发明实施例提供的第二气浴模块的三个气浴腔的结构示意图；

图14为本发明实施例提供的第三气浴模块的结构示意图；

其中，附图标记为：

111-湿气体发生器；112-湿气体温度控制器；113-调节阀；121-干气体发生器；122-干气体过滤器；123-温控器；124-保温风道；20-工件承载模块；21-工件承载台；211-导流斜面；22-运动台；23-传感器；31-第一气浴模块；311-第一气浴模块的出风口；32-第二气浴模块；321-第一气浴腔；322-第二气浴腔；323-第三气浴腔；324-进气接口；325-压阻调节板；326-超效过滤器；33-第三气浴模块；41-平面光栅；42-光栅读头；50-主基板；61-排风口；62-抽气单元。

具体实施方式

光刻设备内部的测量系统一般包括干涉仪测量模块和/或光栅尺测量模块，但是无论是具有干涉仪测量模块还是光栅尺测量模块的光刻机，测量模块区域的环境均需要较为稳定。对于包括干涉仪测量模块的光刻设备，气浴装置需要覆盖整个干涉仪光路，以使光路上的温度稳定、压力波动小，避免干涉仪光路受到周围环境的影响。由于干涉仪光路的末端靠近物镜，无法在整个干涉仪光路上全程设置气浴模块，因此，现采用一种方法使靠近干涉仪光路的末端处的气浴装置具有斜向吹风的功能，使气浴装置吹出的气体能够覆盖干涉仪光路的末端。这种斜向吹风的功能通常通过格栅导向板改变气浴装置吹出的气体的风向实现，但是，格栅导向板是固定设置在光刻设备的框架上的，吹出的气体的风向的改变程度有限，并且对于工件承载模块的温度控制效果有局限性。

对于包括光栅尺测量模块的光刻机，平面光栅通常安装在主基板的下表面上，而光栅读头安装在工件承载模块上并跟随工件承载模块一起运动。在曝光工作时工件承载模块按照预定轨迹扫描运动，工件承载模块的位置不断变化导致光栅读头的位置也不断变化，工件承载模块的光栅读头附近需要气体持续吹淋，才能使光栅读头始终被气浴覆盖，从而保证测量模块温度环境稳定。同时气体持续吹淋也可以带走工件承载模块散发的热量，使工件承载模块温度稳定，进而使工件承载模块热变形对精度的影响减小，有利于提高工件承载模块的精度及测量模块的精度。根据工件承载模块的运动轨迹，气浴装置需要覆盖整个工件承载模块区域，导致气浴装置的面积较大，且需要占据较大的空间。然而，整个工件承载模块区域中有很大一部分区域是平面光栅所在，气浴装置无法布置。

所以不论是包括光栅尺测量模块的光刻设备还是包括干涉仪测量模块的光刻设备，光刻设备内部的气浴装置都是相对光刻设备的框架固定设置的。在实际工程应用中，若要使气浴装置吹出的气流始终覆盖工件承载模块所在区域中的工件、光栅读头和干涉仪光路，则需要较大面积的气浴装置，并且光刻设备中设置气浴装置的空间有限，根本无法合理的设置气浴装置，导致在有限的空间里相对光刻设备的框架固定设置的气浴装置无法使工件承载模块始终被气浴覆盖。

基于此，本发明提供的气浴装置设置于所述光刻设备内，所述光刻设备包括用于承载工件的工件承载模块，所述气浴装置包括供气模块及与所述供气模块连通的第一气浴模块，所述供气模块用于提供设定温度范围的气体，由于所述第一气浴模块设置于所述工件承载模块上，能够跟随所述工件承载模块一起运动，由于通过向所述工件承载模块的上表面吹气以在所述工件承载模块的上表面形成一稳定的气层，以实现对所述工件承载模块的全行程的气浴覆盖，不受工件承载模块的运动影响，实现了工件承载模块上表面的环境稳定，从而可以提高光刻设备的曝光精度和/或测量精度。

下面将结合示意图对本发明的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

本实施例提供了一种气浴装置，设置于一光刻设备内，本实施例中，所述光刻设备为28nm浸没式光刻机，如图1-图3所示，所述光刻设备包括主基板50及工件承载模块20，所述主基板50用于固定物镜及光栅测量模块，其中，所述光栅测量模块的平面光栅41安装在主基板50的下表面上，所述光栅测量模块的光栅读头42是安装在所述工件承载模块20上并随着所述工件承载模块20一起运动的，所述工件承载模块20位于所述主基板50下方并用于承载及移动工件，所述气浴装置包括：

供气模块，用于提供设定温度范围且洁净的气体以使所述光刻设备内的环境始终保持正压，并使整机内部环境实现温度恒定，所述设定温度范围通常是22℃±0.1℃；

第一气浴模块31，设置于所述工件承载模块20上并与所述供气模块连通，通过向所述工件承载模块20的上表面吹气以在所述工件承载模块的上表面形成一稳定的气层；

第二气浴模块32，位于所述主基板50的下表面上并围绕所述平面光栅41设置，所述第二气浴模块32与所述供气模块连通，通过持续向所述光刻设备内吹气以使所述光刻设备内部保持温度及压力恒定；

第三气浴模块33，所述第三气浴模块33环绕所述光栅读头42设置并与所述供气模块连通，通过向所述光栅读头42的上表面吹气以在所述光栅读头42的上表面形成一稳定的气层。

由于所述第一气浴模块31及所述第三气浴模块33设置于所述工件承载模块20上，能够跟随所述工件承载模块20一起运动，所述第一气浴模块31向所述工件承载模块20的上表面吹气以在所述工件承载模块20的上表面形成一稳定的气层，以实现对所述工件承载模块20的全行程的气浴覆盖，不受所述工件承载模块20的运动影响，实现了工件承载模块20上表面的环境稳定，防止所述工件承载模块20产生热变形；所述第三气浴模块33围绕所述光栅读头42设置，可以持续吹走光栅读头42散发的热量，实现光栅读头42位置处的温度控制，保证所述光栅测量模块的测量精度，所述第二气浴模块32负责整个光刻设备内部大环境的温度及污染物控制，保证光刻设备内部环境的稳定，从而可以提高光刻设备的曝光精度和/或测量精度。并且，通过三个气浴模块的配合不需要占用所述主基板50底部太多的区域。

具体的，如图1-图3所示，本实施例中，所述供气模块包括第一供气单元及第二供气单元，所述第一供气单元包括顺次连通的湿气体发生器111、湿气体温度控制器112及若干调节阀113，所述湿气体发生器111用于产生具有一定湿度(湿度通常介于30％-55％)的湿气体(在浸没式光刻设备中由于浸没头内具有浸没液，浸没液蒸发会导致周围温度变化，故液场附近的气浴采用湿气体可以降低蒸发速率从而减小温度变化影响)，所述湿气体温度控制器112用于将所述湿气体发生器111产生的湿气体的温度控制在所述设定温度范围后输入所述第一气浴模块31中，所述调节阀113位于所述湿气体温度控制器112与所述第一气浴模块31及所述第三气浴模块33的管道上，用于控制气体的通断或调节气体的流速。

所述第二供气单元包括顺次连通的干气体发生器121、干气体过滤器122、温控器123及保温风道124，所述干气体发生器121用于产生洁净的干气体(湿度通常小于30％)，所述干气体过滤器122用于过滤干气体中的化学成分颗粒，所述温控器123对干气体进行温度控制，使所述干气体的温度稳定在所述设定温度范围内，并经过所述保温风道124输送如所述第二气浴模块32中，所述保温风道124可以减少气体在输送过程中的温度损失。

可以理解的是，当所述光刻设备不是浸没式光刻设备，例如是常规的投影式光刻设备时，所述供气模块可以仅包括所述第二供气单元，由所述第二供气单元为所述第一气浴模块31、第二气浴模块32及所述第三气浴模块33供气。

如图2所示，所述气浴装置还包括抽排模块，所述抽排模块包括排风口61及与所述排风口61连通的抽气单元62，所述抽气单元62通过所述排风口61将所述光刻设备内的气体排出，以保证所述光刻设备内流场稳定并带走设备运行时产生的颗粒或热量等污染，所述排风口61的数量可以是多个，多个所述排风口61可以位于所述光刻设备内的不同位置处。

请参阅图3-图7，本实施例中，所述工件承载模块20包括运动台22及工件承载台21，所述工件承载台21用于承载工件，所述工件承载台21上还设置有一些传感器23。进一步，所述工件承载台21设置于所述运动台22上并随所述运动台22运动，所述工件承载台21通常是方形的承载台，所述第一气浴模块31沿着所述工件承载台21的周围设置。可选的，所述第一气浴模块31可以位于所述工件承载台21的四个侧壁上，具体如图3所示；或者，所述第一气浴模块31可以位于所述工件承载台21的任意三个侧壁上，具体如图4所示；或者，所述第一气浴模块31可以位于所述工件承载台21的任意两个侧壁上，具体如图5所示；或者，所述第一气浴模块31可以位于所述工件承载台21的任意一个侧壁上，具体如图6及图7所示；所述第一气浴模块31的位置和数量不同的情况下，可以相应设置不同的出风口和排风口61，以保证所述工件承载台21上表面上的流场稳定。可以理解的是，所述工件承载台21还可以是其他的形状，所述第一气浴模块31也可以有其他的布置方式(位于所述工件承载台21周围即可)，在此不再一一举例说明。

进一步，如图8a-图9b所示，所述第一气浴模块31可以设置于所述工件承载台21内部，可以在保持现有工件承载模块外形尺寸不变的情况下，增加气浴功能，并且，所述第一气浴模块31通过出风口311吹出的气流的方向与所述工件承载台21的上表面之间构成一设定角度θ，以避免所述第一气浴模块31吹出的气流冲击所述主基板50上固定的平面光栅41或物镜。

具体的，如图8a及图8b所示，所述第一气浴模块31设置于所述工件承载台21内部，且所述第一气浴模块31的出风口311与所述工件承载台21的上表面之间构成所述设定角度θ，以使所述第一气浴模块31通过出风口311吹出的气流的方向与所述工件承载台21的上表面之间构成所述设定角度θ。进一步，如图9a及图9b所示，所述第一气浴模块31的出风口311也可以平行于与所述工件承载台21的上表面，但是在所述工件承载台21内靠近所述出风口311的一侧上设置一导流斜面211，所述导流斜面211与所述工件承载台21的上表面之间构成所述设定角度θ，所述第一气浴模块31通过出风口311吹出的气流经所述导流斜面211导流后与所述工件承载台21的上表面之间构成所述设定角度θ。这样一来，所述第一气浴模块31吹出的气流可以在所述工件承载台21的上表面形成稳定的气层并且不会对主基板50上固定的平面光栅41或物镜造成扰动。

可选的，如图10a-图10c所示，所述第一气浴模块31还可以作为独立的组件设置于所述工件承载台21的周围，便于设备模块化集成，在所述光刻设备的内部空间不充足的情况下，所述第一气浴模块31的出风口311可以不高于所述工件承载台21的上表面(低于所述工件承载台21的上表面或与所述工件承载台21的上表面齐平)，所述第一气浴模块31通过出风口311吹出的气流的方向与所述工件承载台21的上表面之间构成所述设定角度θ。可以理解的是，为了使所述第一气浴模块31通过出风口311吹出的气流的方向与所述工件承载台21的上表面之间构成所述设定角度θ，所述第一气浴模块31的出风口311可以与所述工件承载台21的上表面之间构成所述设定角度θ，如图10a所示；或者，所述第一气浴模块31的出风口311平行于与所述工件承载台21的上表面，但是在所述工件承载台21内靠近所述出风口311的一侧上设置所述导流斜面211，如图10b所示。

进一步，如图11所示，在所述光刻设备的内部空间充足的情况下，所述第一气浴模块31的出风口311也可以高于所述工件承载台21的上表面，所述第一气浴模块31通过出风口311吹出的气流的方向与所述工件承载台21的上表面平行，这样风向完全平行于所述工件承载台21的上表面，有利于所述工件承载模块的温度控制及降低对所述平面光栅41的气流冲击影响。

可以理解的是，为了尽可能减小所述第一气浴模块31吹出的气流冲击所述平面光栅41，对所述第一气浴模块31吹出的气流的角度(所述设定角度θ)及吹风的速度都需要合理设计，本实施例中，所述设定角度θ介于0°-45°之间，尤其以5°-20°为佳，例如是10°、12°、15°或18°等，所述第一气浴模块31吹出的气流的流速介于0.5m/s-5m/s之间，尤其以0.8m/s-1.2m/s为佳，例如是0.9m/s、1.0m/s、或1.1m/s等，此角度下配合第一气浴模块31的流速控制也更利于气流贴近在所述工件承载台21的上表面流动。

如图8b及图9b所示，所述第一气浴模块31的出风口311可以是一长狭缝，所述长狭缝可以从所述工件承载台21的一个端点处延伸至另一端点处，这样吹出的气流可以覆盖整个所述工件承载台21；或者，如图12所示，所述第一气浴模块31的出风口311也可以包括至少两个短狭缝，至少两个所述短狭缝沿着长度方向等距离设置，多个短狭缝可以使吹出的气流分散，减小对所述工件承载台21的反作用力。可选的，所述出风口311内还可以设置一具有一定阻力的网孔风板(未示出)，所述网孔风板上设置有若干均匀分布的通孔，所述通孔的宽度介于0.02mm-0.05mm之间，相邻两个所述通孔之间的间距介于0.02mm-0.05mm之间，以保持整个出风口311上各点位置处的气流流速均匀。可选的，所述网孔风板可以选用标准金属网筛，所述标准金属网筛上的通孔具有635目，所述通孔的宽度为0.02mm，相邻两个所述通孔之间的间距为0.04mm，符合要求并且节约了成本。

进一步，如图2所示，所述第二气浴模块32位于所述主基板50的下表面上并围绕所述平面光栅41设置，以保证光刻设备内部环境的稳定。可选的，在所述主基板50下表面空间足够的情况下，所述第二气浴模块32可以设置在所述平面光栅41的四周，在所述主基板50下表面空间不足够的情况下，所述第二气浴模块32可以只设置在所述平面光栅41的一侧、两侧或三侧。本实施例中，如图2所示，所述平面光栅41的相对的两侧均设置有多个所述第二气浴模块32，以保证充足的气流供给，所述第二气浴模块32的数量和设置位置可以根据所述主基板50下表面空间、所述光刻设备的内部空间及所述第二气浴模块32的尺寸相应设置，在此不再过多赘述。

如图2及图13所示，所述第二气浴模块32包括相互连通的第一气浴腔321、第二气浴腔322和第三气浴腔323，所述第二气浴腔322位于所述第一气浴腔321及所述第三气浴腔323之间，所述第一气浴腔321较所述第三气浴腔323更靠近所述光刻设备的中心。所述第二气浴腔322上设置有进气接口324，所述进气接口324与所述第二供气单元连通以接入气体，气体再从所述第二气浴腔322中流入所述第一气浴腔321及所述第三气浴腔323中。所述进气接口324的末端设置有超效过滤器326，用于对所述第二供气单元提供的气体进行再次过滤，过滤的等级介于U16-U17，从而可以进一步减小气体中的污染物。进一步，由于所述第二气浴腔322和所述第三气浴腔323远离所述工件承载模块20，所述第二气浴腔322和所述第三气浴腔323吹出的气流可以与所述主基板50所在的平面垂直，而所述第一气浴腔321的位置靠近所述工件承载模块20，所以所述第一气浴腔321吹出的气流的方向与所述主基板50所在的平面之间构成一锐角，以防止所述第一气浴腔321吹出的气流对所述工件承载模块20造成冲击。

可选的，所述第一气浴腔321的出风口可以设置倾斜导向孔，所述倾斜导向孔与所述主基板50所在的平面之间构成一锐角(例如是30°)，以使所述第一气浴腔321吹出的气流的方向与所述主基板50所在的平面之间构成一锐角。当然，若所述第二气浴腔322和所述第三气浴腔323的实际位置也较为靠近所述工件承载模块20，则所述第二气浴腔322和所述第三气浴腔323也可以设置倾斜导向孔，以使所述第二气浴腔322和所述第三气浴腔323吹出的气流的方向也与所述主基板50所在的平面之间构成一锐角。

进一步，所述第一气浴腔321与所述第二气浴腔322之间设置有一压阻调节板325，以使所述第一气浴腔321吹送出的气流的流速大于所述第二气浴腔322和所述第三气浴腔323吹出的气流的流速，以使所述第一气浴腔321吹出的气流可以达到更远的位置。

请参阅图3，本实施例中，所述光栅读头42设置于所述运动台22上并且位于所述工件承载台21的四个角上，所述第三气浴模块33也位于每个所述光栅读头42的周围，如图14所示，所述第三气浴模块33的出风口可以是一矩形的出风口，所述光栅读头42位于所述第三气浴模块33的矩形出风口内，且所述第三气浴模块33吹出的气流的方向可以与所述光栅读头42发射的光路方向平行，用以保证所述第三气浴模块33内所述光栅读头42光路的环境稳定。并且所述第三气浴模块33由于是直接安装在所述运动台22上，可以跟随所述运动台22一起运动，可以实现对运动台22的全行程的气流覆盖，不受所述运动台22的运动影响。

本实施例还提供了一种光刻设备，包括所述气浴装置。

综上，本发明实施例提供的气浴装置设置于所述光刻设备内，所述光刻设备包括用于承载工件的工件承载模块，所述气浴装置包括供气模块及与所述供气模块连通的第一气浴模块，所述供气模块用于提供设定温度范围的气体，由于所述第一气浴模块设置于所述工件承载模块上，能够跟随所述工件承载模块一起运动，由于通过向所述工件承载模块的上表面吹气以在所述工件承载模块的上表面形成一稳定的气层，以实现对所述工件承载模块的全行程的气浴覆盖，不受工件承载模块的运动影响，实现了工件承载模块上表面的环境稳定，从而可以提高光刻设备的曝光精度和/或测量精度。

进一步，在所述主基板的下表面上并围绕所述平面光栅设置第二气浴模块，所述第二气浴模块与所述供气模块连通，通过持续向所述光刻设备内吹气以使所述光刻设备内部保持温度及压力恒定；在所述光栅读头设置围绕所述光栅读头的第三气浴模块，所述第三气浴模块与所述供气模块连通，通过向所述光栅读头的上表面吹气以在所述光栅读头的上表面形成一稳定的气层。通过三个气浴模块的配合能够实现工件承载模块上表面的环境稳定，并且不会占用光刻设备内的太多空间。

上述仅为本发明的优选实施例而已，并不对本发明起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明的技术方案的范围内，对本发明揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本发明的技术方案的内容，仍属于本发明的保护范围之内。