一种适用于方形基片的洗胶边设备

技术领域

本申请涉及基片旋涂设备技术领域，具体涉及一种适用于方形基片的洗胶边设备。

背景技术

纳米压印技术(Nanoimprint Lithography，NIL)是一项成本低廉、分辨率高的光刻技术。纳米压印光刻作为一种全新的微纳米制造技术，较之现行的投影光刻和下一代光刻技术，具有高分辨率、超低成本和高生产率的特点。在纳米压印中，昂贵的光刻只需要用一次来制备印章，就可以大量生产复制品。

纳米压印技术是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。目前最常用的光刻胶涂覆方式是旋涂，旋涂是指在高速旋转的圆形基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在圆形基片上的胶液均匀地涂覆在圆形基片上。随着半导体材料行业的发展，用于纳米压印行业的基片不仅仅只是圆形基片，还出现了方形基片。由于离心力的影响，常用圆形基片多为圆形，而在方形基片旋涂过程中会出现胶液旋涂不均匀的现象，符合解决方形基片上胶液不均是当前所要解决的问题。在进行压印的过程中很容易出现溢胶的现象，就要耗费人力物力进行清胶，容易出现残次品。

在纳米压印过程中一旦发生溢胶现象，压印胶易进入未被覆盖的真空槽部分导致基片粘连在真空吸盘上，甚至堵塞真空开孔和气管，降低设备使用寿命。如果制造两台压印设备分别用于圆形基片和方形基片的压印无疑增加了企业巨大的成本。

发明内容

针对现有技术的上述不足，本发明提供一种适用于方形基片的洗胶边设备，通过设置洗胶边、去胶边和背洗的设备，避免在压印过程中发生溢胶，提高产品的良率。

本发明的技术方案如下：

一种适用于方形基片的洗胶边设备，包括旋转单元和点胶单元，还包括去胶边单元；所述旋转单元包括衬底吸附盘，所述衬底吸附盘的上表面中心处设置有真空开孔，所述衬底吸附盘的上表面还设有十字真空槽路和环形真空槽路；所述衬底吸附盘下部设置有旋转电机Ⅰ，所述旋转电机Ⅰ设置有中空轴，所述真空开孔将衬底吸附盘打通，衬底吸附盘上的真空开孔通过旋转电机Ⅰ的中空轴与真空泵相连通；所述衬底吸附盘外侧设置有多层环形挡胶板，所述挡胶板底部设有废液口；所述点胶单元包括胶筒和旋转点胶装置，所述胶筒存放有纳米压印材料，所述胶筒固定在旋转点胶装置上，所述胶筒出胶端设置有过滤器，所述过滤器连接有点胶嘴，所述胶筒中暂存的纳米压印材料经过过滤器的过滤输入点胶嘴点胶；所述去胶边单元包括水平支撑杆和连接支撑环，所述连接支撑环固定在水平支撑杆上，所述连接支撑环固定有去胶头；所述去胶边单元还包括胶泵和去边液桶，所述胶泵将去边液桶内的去边液通过胶管泵入去胶头。

作为优选，所述衬底吸附盘底部设置有插销槽，所述旋转电机Ⅰ设有插销，所述插销槽与插销卡接。

作为优选，所述衬底吸附盘底部设有至少个顶针，顶针下方连接有顶针升降电机Ⅱ。顶针由顶针升降电机Ⅱ控制其升起降下，上料时，顶针升降电机Ⅱ使顶针向上移动至衬底吸附盘上方，将方形衬底置于顶针上，然后顶针升降电机Ⅱ使顶针向下移动至衬底吸附盘下方完成上料过程。

作为优选，所述废液口向外连接有回收旋涂飞溅废液的废液回收桶；废液回收桶的底部设置有废液管路，所述废液管路的末端连接有废液排放阀门。旋涂飞溅的废液经过挡胶板阻挡汇集到废液口，废液口向外卡接有废液回收桶回收旋涂飞溅处的废液，经过废液管路排出。

作为优选，所述旋转点胶装置包括空间移动机构Ⅰ，所述空间移动机构Ⅰ包括固定胶筒的固定块Ⅰ、支撑杆Ⅰ和升降块Ⅰ，所述固定块Ⅰ连接有连接块，所述连接块固定在支撑杆Ⅰ上；所述固定块Ⅰ将胶筒固定在升降块Ⅰ上，升降块Ⅰ通过连接块固定在支撑杆Ⅰ上，所述支撑杆Ⅰ下部设置有旋转块，所述旋转块带动旋转点胶装置旋转实现点胶位置的移动。空间移动机构Ⅰ通过升降块Ⅰ实现点胶装置在竖直方向的移动，空间移动机构Ⅰ通过旋转块实现点胶装置绕支撑杆Ⅰ做水平方向上的扇面运动，两个方向上的调整实现点胶位置的移动。

作为优选，所述胶筒内设置有胶塞，所述胶塞一端连接有推进杆，所述推进杆连接有电机Ⅲ，所述推进杆通过电机Ⅲ提供动力推动胶塞。

作为优选，所述胶筒连接有过滤纳米压印材料的过滤器；所述过滤器连接有“z”字形点胶嘴。

作为优选，所述去胶边单元(3)包括至少两个去胶头(31)，所述去胶头(31)固定在“c”字型的连接支撑环(32)上；所述去胶边单元(3)通过固定块Ⅱ(38)固定在设备内部的框架上，所述去胶边单元(3)还包括空间移动机构Ⅱ，所述空间移动机构Ⅱ包括水平支撑杆Ⅱ(33)、水平伸缩杆(35)和支撑杆Ⅲ(37)，固定有去胶头(31)的连接支撑环(32)固定在水平支撑杆Ⅱ(33)上；所述水平支撑杆Ⅱ(33)套接在滑移块(34)上，所述滑移块(34)在水平方向与水平伸缩杆(35)相连接，所述水平伸缩杆(35)一端连接有升降块Ⅱ(36)，所述升降块Ⅱ(36)与支撑杆Ⅲ(37)相连接。水平支撑杆Ⅱ通过相对滑移块的移动实现y方向的移动；滑移块固定在水平伸缩杆上，通过水平伸缩杆的伸缩实现x轴方向的移动；升降块Ⅱ套接在延支撑杆Ⅲ上并沿支撑杆Ⅲ实现z轴方向的移动从而带动去胶头的移动。

作为优选，所述设备还包括设置于设备顶部的风机过滤机组，所述风机过滤机组将环境中的空气过滤后从设备顶部吹入设备内部。风机过滤机组将环境中的空气层层过滤后从设备顶部吹入设备内部避免设备内部污染物在腔内漂浮，同时设备内部相对于环境形成正压，避免环境中的污染物进入设备内部。

作为优选，所述设备还包括设备外壳，设备底部设有至少三个地轮和至少三个地脚；所述设备还包括设在设备外壳顶部的警示灯。地轮用于设备的移动，地脚用于设备的固定和水平调整，保证点胶后胶体不会向某个方向流动偏移。设备顶部的警示灯向工作人员反馈设备状态。

本发明的有益效果

本发明设计创新合理，通过设置去胶边单元将方形基片正面和背面的多余的材料清洗，避免在压印过程中溢胶，提高产品良率。去胶边和背洗的设备，避免在压印过程中溢胶，提高产品良率。点胶单元可在方形基片的任意处点胶，实现多种点胶组合，实现方形几片的点胶，保证方形基片涂胶的完整性和均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的内部的结构示意图。

图2为本发明设备外观的结构示意图。

图3为本发明实施例1点胶单元的结构示意图。

图4为本发明实施例1去胶边单元的正视示意图。

图5为本发明实施例1去胶边单元俯视示意图。

图6为本发明实施例1旋转单元正视示意图。

图7为本发明实施例1旋转单元和去胶边单元正视示意图。

图8为本发明旋转单元、点胶单元和去胶边单元操作时的俯视示意图。

其中，旋转单元1，挡胶板11，废液口12，衬底吸附盘13，真空开孔131，环形真空槽路132，插销槽133，十字真空槽路134，插销14，旋转电机Ⅰ15，真空泵16，顶针17，顶针升降电机Ⅱ18，废液回收桶19，废液排放阀门191，废液管路192；

点胶单元2，胶筒21，胶塞211，点胶嘴22，过滤器23，推进杆24，电机Ⅲ25，旋转点胶装置26，固定块Ⅰ261，连接块262，升降块Ⅰ263，支撑杆Ⅰ264，旋转块265；

去胶边单元3，去胶头31，连接支撑环32，水平支撑杆Ⅱ33，滑移块34，伸缩杆35，升降块Ⅱ36，支撑杆Ⅲ37，固定块Ⅱ38，去边液桶39，胶泵391，胶管392；

风机过滤机组4；设备外壳5；地脚6；警示灯7；衬底8；地轮9。

具体实施方式

为了能够更加详尽地了解本公开实施例的特点与技术内容，下面结合附图对本公开实施例的实现进行详细阐述，所附附图仅供参考说明之用，并非用来限定本公开实施例。在以下的技术描述中，为方便解释起见，通过多个细节以提供对所披露实施例的充分理解。然而，在没有这些细节的情况下，一个或多个实施例仍然可以实施。在其它情况下，为简化附图，熟知的结构和装置可以简化展示。

本公开实施例的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本公开实施例的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。

本公开实施例中，术语“上”、“下”、“内”、“中”、“外”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本公开实施例及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本公开实施例中的具体含义。

另外，术语“设置”、“连接”、“固定”应做广义理解。例如，“连接”可以是固定连接，可拆卸连接，或整体式构造；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或者是通过中间媒介间接相连，又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开实施例中的具体含义。

除非另有说明，术语“多个”表示两个或两个以上。

本公开实施例中，字符“/”表示前后对象是一种“或”的关系。例如，A/B表示：A或B。

术语“和/或”是一种描述对象的关联关系，表示可以存在三种关系。例如，A和/或B，表示：A或B，或，A和B这三种关系。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开实施例中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

实施例1

一种适用于方形基片的洗胶边设备，包括旋转单元1和点胶单元2，还包括去胶边单元3。

旋转单元1包括衬底吸附盘13，衬底吸附盘13的上表面中心处设置有真空开孔131，衬底吸附盘13的上表面还设有十字真空槽路134和环形真空槽路132；衬底吸附盘13下部设置有旋转电机Ⅰ15，旋转电机Ⅰ15设置有中空轴，真空开孔131将衬底吸附盘13打通，衬底吸附盘13上的真空开孔131通过旋转电机Ⅰ15的中空轴与真空泵16相连通；衬底吸附盘13外侧设置有两层环形挡胶板11，挡胶板11底部设有废液口12；内层挡胶板11靠近顶针升降电机Ⅱ18且位于衬底8下方，外层挡胶板11高度高于旋涂时衬底8的高度，内、外层挡胶板11之间底部过渡连接，内、外层挡胶板11之间底部的最低处设置有一个废液口12，废液口12联通至废液回收桶19。衬底吸附盘13底部设置有插销槽133，旋转电机Ⅰ15设有插销14，插销槽133与插销14卡接。衬底吸附盘13底部设有三个顶针17，顶针17下方连接有顶针升降电机Ⅱ18。废液口12向外连接有回收旋涂飞溅废液的废液回收桶19；废液回收桶19的底部设置有废液管路192，废液管路192的末端连接有废液排放阀门191。

点胶单元2包括胶筒21和旋转点胶装置26，胶筒21存放有纳米压印材料，胶筒21固定在旋转点胶装置26上，胶筒21出胶端设置有过滤器23，过滤器23连接有点胶嘴22；胶筒21中暂存的纳米压印材料经过过滤器23的过滤输入点胶嘴22点胶。旋转点胶装置26包括空间移动机构Ⅰ，空间移动机构Ⅰ包括固定胶筒21的固定块Ⅰ261、支撑杆Ⅰ264和升降块Ⅰ263，固定块Ⅰ261连接有连接块262，连接块262固定在支撑杆Ⅰ264上；固定块Ⅰ261将胶筒21固定在升降块Ⅰ263上，升降块Ⅰ263通过连接块262固定在支撑杆Ⅰ264上，支撑杆Ⅰ264下部设置有旋转块265，旋转块265带动旋转点胶装置26旋转实现点胶位置的移动。胶筒21内设置有胶塞211，胶塞211一端连接有推进杆24，推进杆24连接有电机Ⅲ25，推进杆24通过电机Ⅲ25提供动力推动胶塞211。胶筒21连接有过滤纳米压印材料的过滤器23；过滤器23连接有“z”字形点胶嘴22。

去胶边单元3包括水平支撑杆Ⅱ33和连接支撑环32，连接支撑环32固定在水平支撑杆Ⅱ33上，连接支撑环32上固定有去胶头31；去胶边单元3还包括胶泵391和去边液桶39，胶泵391将去边液桶39内的去边液通过胶管392泵入去胶头31。去胶边单元3包括两个去胶头31，去胶头31固定在“c”字型的连接支撑环32上；去胶边单元3通过固定块Ⅱ38固定在设备内部的框架上，去胶边单元3还包括空间移动机构Ⅱ，空间移动机构Ⅱ包括水平支撑杆Ⅱ33、水平伸缩杆35和支撑杆Ⅲ37，固定有去胶头31的连接支撑环32固定在水平支撑杆Ⅱ33上；水平支撑杆Ⅱ33套接在滑移块34上，滑移块34在水平方向与水平伸缩杆35相连接，水平伸缩杆35一端连接有升降块Ⅱ36，升降块Ⅱ36与支撑杆Ⅲ37相连接。

设备还包括设置于设备顶部的风机过滤机组4，风机过滤机组4将环境中的空气过滤后从设备顶部吹入设备内部。设备还包括设备外壳5，设备底部设有三个地轮9和三个地脚6；设备还包括设在设备外壳5顶部的警示灯7。

设备工作过程：

如图8所示，

S1上料：

顶针升降电机Ⅱ18使顶针17向上移动至衬底吸附盘13上方，将方形衬底置于顶针17上，然后顶针升降电机Ⅱ18使顶针17向下移动至衬底吸附盘13下方完成上料过程。

S2吸附固定：

上料完成后将方形基片放置在衬底吸附盘13上方，真空泵16开始工作，将电机的中空轴、真空开孔131和真空槽路132中的空气抽走，在方形基片两面形成压差，从而将方形基片固定在衬底吸附盘13上。

S3点胶：

操作空间移动机构Ⅰ，通过控制升降块Ⅰ263实现点胶装置26在竖直方向的移动，通过控制旋转块265实现点胶装置绕支撑杆Ⅰ264做水平方向上的扇面运动，两个方向上的调整实现点胶位置的移动，实现点胶单元2由原点位向点胶位置移动，移动至点胶嘴22位于方形基片上方。

操作电机Ⅲ25使推进杆24推动胶塞211向下移动，推动胶筒21中暂存的纳米压印材料从胶筒21挤出流向过滤器23，经过过滤器23过滤后由点胶嘴22流出。

S4旋涂和废液回收：

操作旋转电机Ⅰ15带动衬底吸附盘13旋转，从而带动使方形基片旋转，方形基片表面的纳米压印材料通过离心力摊开，多余的材料的飞溅至挡胶板11上，废液经过挡胶板11的阻挡汇集到废液口12，废液口12卡接废液回收桶19回收旋涂飞溅处的废液。废液回收桶19底部设有废液管路192，废液管路192末端设有废液排放阀门191，将回收的废液排除设备内部。

S5去边和去边液的回收：

操作空间移动机构Ⅱ，通过调整水平支撑杆Ⅱ33使之相对滑移块34的移动实现y方向的移动；滑移块34固定在水平伸缩杆35上，通过水平伸缩杆35的伸缩实现x轴方向的移动；升降块Ⅱ36套接在延支撑杆Ⅲ37上并沿支撑杆Ⅲ37实现z轴方向的移动从而带动去胶头31的移动。

如图7，旋涂完毕后去胶边单元3将去胶头31移动至方形基片一角，胶泵391将去边液桶39内的去边液通过胶管392泵入去胶头31处，去胶头31固定在“c”字型的连接支撑环32上，使去胶头31喷出的去胶液以一定角度喷向旋涂有纳米压印材料的衬底边缘处，将多余的材料去除，避免在压印使溢胶。

实施例2

一种适用于方形基片的洗胶边设备，包括旋转单元1和点胶单元2，还包括去胶边单元3。

旋转单元1包括衬底吸附盘13，衬底吸附盘13的上表面中心处设置有真空开孔131，衬底吸附盘13的上表面还设有十字真空槽路134和环形真空槽路132；衬底吸附盘13下部设置有旋转电机Ⅰ15，旋转电机Ⅰ15设置有中空轴，真空开孔131将衬底吸附盘13打通，衬底吸附盘13上的真空开孔131通过旋转电机Ⅰ15的中空轴与真空泵16相连通；衬底吸附盘13外侧设置有三层环形挡胶板11，挡胶板11底部设有废液口12。内层挡胶板11靠近顶针升降电机Ⅱ18且位于衬底8下方，中间层挡胶板11和外层挡胶板11高度均高于旋涂时衬底8的高度且外层挡胶板11高度最高，外层挡胶板11、中间层挡胶板11、内层挡胶板11之间底部渐低的过渡连接，中间层挡胶板下部设置有漏胶口，内层挡胶板11、中间层挡胶板11之间底部的最低处设置有一个废液口12，废液口12联通至废液回收桶19，便于外层的胶通过漏胶口汇入中间层挡胶板11与内层挡胶板11之间，然后通过废液口(12)流入废液回收桶(19)。衬底吸附盘13底部设置有插销槽133，旋转电机Ⅰ15设有插销14，插销槽133与插销14卡接。衬底吸附盘13底部设有四个顶针17，顶针17下方连接有顶针升降电机Ⅱ18。废液口12向外连接有回收旋涂飞溅废液的废液回收桶19；废液回收桶19的底部设置有废液管路192，废液管路192的末端卡接有废液排放阀门191。

点胶单元2包括胶筒21和旋转点胶装置26，胶筒21存放有纳米压印材料，胶筒21固定在旋转点胶装置26上，胶筒21出胶端设置有过滤器23，过滤器23卡接有点胶嘴22；胶筒21中暂存的纳米压印材料经过过滤器23的过滤输入点胶嘴22点胶。旋转点胶装置26包括空间移动机构Ⅰ，空间移动机构Ⅰ包括固定胶筒21的固定块Ⅰ261、支撑杆Ⅰ264和升降块Ⅰ263，固定块Ⅰ261连接有连接块262，连接块262固定在支撑杆Ⅰ264上；固定块Ⅰ261将胶筒21固定在升降块Ⅰ263上，升降块Ⅰ263通过连接块262固定在支撑杆Ⅰ264上，支撑杆Ⅰ264下部设置有旋转块265，旋转块265带动旋转点胶装置26旋转实现点胶位置的移动。胶筒21内设置有胶塞211，胶塞211一端连接有推进杆24，推进杆24连接有电机Ⅲ25，推进杆24通过电机Ⅲ25提供动力推动胶塞211。胶筒21卡接有过滤纳米压印材料的过滤器23；过滤器23连接有“z”字形点胶嘴22。

去胶边单元3包括水平支撑杆Ⅱ33和连接支撑环32，连接支撑环32固定在水平支撑杆Ⅱ33上，连接支撑环32上固定有去胶头31；去胶边单元3还包括胶泵391和去边液桶39，胶泵391将去边液桶39内的去边液通过胶管392泵入去胶头31。去胶边单元3包括三个去胶头31，去胶头31固定在“c”字型的连接支撑环32上；去胶边单元3通过固定块Ⅱ38固定在设备内部的框架上，去胶边单元3还包括空间移动机构Ⅱ，空间移动机构Ⅱ包括水平支撑杆Ⅱ33、水平伸缩杆35和支撑杆Ⅲ37，固定有去胶头31的连接支撑环32固定在水平支撑杆Ⅱ33上；水平支撑杆Ⅱ33套接在滑移块34上，滑移块34在水平方向与水平伸缩杆35相连接，水平伸缩杆35一端连接有升降块Ⅱ36，升降块Ⅱ36与支撑杆Ⅲ37相连接。

设备还包括设置于设备顶部的风机过滤机组4，风机过滤机组4将环境中的空气过滤后从设备顶部吹入设备内部。设备还包括设备外壳5，设备底部设有四个地轮9和四个地脚6；设备还包括设在设备外壳5顶部的警示灯7。

实施例3

一种适用于方形基片的洗胶边设备，包括旋转单元1和点胶单元2，还包括去胶边单元3。

旋转单元1包括衬底吸附盘13，衬底吸附盘13的上表面中心处设置有真空开孔131，衬底吸附盘13的上表面还设有十字真空槽路134和环形真空槽路132；衬底吸附盘13下部设置有旋转电机Ⅰ15，旋转电机Ⅰ15设置有中空轴，真空开孔131将衬底吸附盘13打通，衬底吸附盘13上的真空开孔131通过旋转电机Ⅰ15的中空轴与真空泵16相连通；衬底吸附盘13外侧设置有多层环形挡胶板11，挡胶板11底部设有废液口12。内层挡胶板11靠近顶针升降电机Ⅱ18且位于衬底8下方，中间层挡胶板11和外层挡胶板11高度均高于旋涂时衬底8的高度且外层挡胶板11高度最高，外层挡胶板11、中间层挡胶板11、内层挡胶板11之间底部渐低的过渡连接，内层挡胶板11、中间层挡胶板11、外层挡胶板11之间底部的最低处均设置有一个废液口12，各个废液口12均联通至废液回收桶19。衬底吸附盘13底部设置有插销槽133，旋转电机Ⅰ15设有插销14，插销槽133与插销14卡接。衬底吸附盘13底部设有六个顶针17，顶针17下方连接有顶针升降电机Ⅱ18。废液口12向外连接有回收旋涂飞溅废液的废液回收桶19；废液回收桶19的底部设置有废液管路192，废液管路192的末端连接有废液排放阀门191。

点胶单元2包括胶筒21和旋转点胶装置26，胶筒21存放有纳米压印材料，胶筒21固定在旋转点胶装置26上，胶筒21出胶端设置有过滤器23，过滤器23卡接有点胶嘴22；胶筒21中暂存的纳米压印材料经过过滤器23的过滤输入点胶嘴22点胶。旋转点胶装置26包括空间移动机构Ⅰ，空间移动机构Ⅰ包括固定胶筒21的固定块Ⅰ261、支撑杆Ⅰ264和升降块Ⅰ263，固定块Ⅰ261连接有连接块262，连接块262固定在支撑杆Ⅰ264上；固定块Ⅰ261将胶筒21固定在升降块Ⅰ263上，升降块Ⅰ263通过连接块262固定在支撑杆Ⅰ264上，支撑杆Ⅰ264下部设置有旋转块265，旋转块265带动旋转点胶装置26旋转实现点胶位置的移动。胶筒21内设置有胶塞211，胶塞211一端连接有推进杆24，推进杆24连接有电机Ⅲ25，推进杆24通过电机Ⅲ25提供动力推动胶塞211。胶筒21卡接有过滤纳米压印材料的过滤器23；过滤器23卡接有“z”字形点胶嘴22。

去胶边单元3包括水平支撑杆Ⅱ33和连接支撑环32，连接支撑环32固定在水平支撑杆Ⅱ33上，连接支撑环32上固定有去胶头31；去胶边单元3还包括胶泵391和去边液桶39，胶泵391将去边液桶39内的去边液通过胶管392泵入去胶头31。去胶边单元3包括四个去胶头31，去胶头31固定在“c”字型的连接支撑环32上，；去胶边单元3通过固定块Ⅱ38固定在设备内部的框架上，去胶边单元3还包括空间移动机构Ⅱ，空间移动机构Ⅱ包括水平支撑杆Ⅱ33、水平伸缩杆35和支撑杆Ⅲ37，固定有去胶头31的连接支撑环32固定在水平支撑杆Ⅱ33上；水平支撑杆Ⅱ33套接在滑移块34上，滑移块34在水平方向与水平伸缩杆35相连接，水平伸缩杆35一端连接有升降块Ⅱ36，升降块Ⅱ36与支撑杆Ⅲ37相连接。

设备还包括设置于设备顶部的风机过滤机组4，风机过滤机组4将环境中的空气过滤后从设备顶部吹入设备内部。设备还包括设备外壳5，设备底部设有六个地轮9和五个地脚6；设备还包括设在设备外壳5顶部的警示灯7。

在不脱离本发明的精神和实质的前提下，本领域普通技术人员可以对本发明的实施例进行各种等效的修改或替换，而这些修改或替换都应在本发明的涵盖范围内/任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。