显示面板与其制造方法

技术领域

本揭露是关于显示面板与其制造方法，特别是关于在框胶层中的间隔物。

背景技术

液晶面板通常包括两个基板，在两个基板之间则设置了间隔物，间隔物会设置在显示区与非显示区中，非显示区中还有框胶层、电路等其他元件。随着面板的边框越来越窄，间隔物也会与其他元件重叠，例如在形成配向膜时，配向膜液会覆盖位于框胶层中的间隔物，由于框胶层与配向膜的附着能力较差，当配向膜覆盖间隔物时会降低胶框层的密封能力，如何解决此问题，为此领域技术人员所关心的议题。

发明内容

本揭露的实施例提出一种显示面板，具有显示区与非显示区。显示面板包括第一基板、第二基板与第一间隔物。第一基板与第二基板彼此相对设置。框胶层设置在非显示区且位于第一基板与第二基板之间。第一间隔物设置在框胶层中且位于第一基板与第二基板之间，其中第一间隔物具有第一顶面、第一侧面与第一底面，第一顶面相对于第一底面，第一侧面连接第一顶面与第一底面。第一侧面的高度小于5微米，第一底面的宽度大于第一顶面的宽度的1.4倍且小于第一顶面的宽度的2倍，第一侧面与第一底面的法线方向形成一侧面角，且侧面角大于25度且小于45度。

在一些实施例中，第一顶面与第一底面的法线方向形成第一顶角，且第一顶角小于45度。

在一些实施例中，第一顶角还大于25度。

在一些实施例中，第一顶面与第一底面的法线方向形成第一顶角。显示面板还包括第二间隔物，设置在显示区且位于第一基板与第二基板之间。第二间隔物具有第二顶面、第二侧面与第二底面，第二顶面相对于第二底面，第二侧面连接第二顶面与第二底面，第二顶面与第二底面的法线方向形成第二顶角，且第二间隔物的第二顶角大于第一间隔物的第一顶角。

在一些实施例中，显示面板包括多个第一间隔物，其中一个第一间隔物的高度不同于另一个第一间隔物的高度。

以另一个角度来说，本揭露的实施例提出一种显示面板的制造方法，包括下列步骤：提供基板，此基板具有显示区与非显示区；在基板上形成间隔物材料层，其中间隔物材料层包括第一部分与第二部分，第一部分位于显示区内，第二部分位于非显示区内；对间隔物材料层进行曝光工艺，使得间隔物材料层的第一区域的第一子区域的曝光程度不同于间隔物材料层的第一区域的第二子区域的曝光程度，其中第一区域位于间隔物材料层的第二部分中，第二子区域围绕第一子区域；以及对间隔物材料层进行显影工艺形成第一间隔物，其中第一间隔物具有第一顶面、第一侧面与第一底面，第一顶面相对于第一底面，第一侧面连接第一顶面与第一底面，第一侧面的高度小于5微米，第一底面的宽度大于第一顶面的宽度的1.4倍且小于第一顶面的宽度的2倍，第一侧面与第一底面的法线方向形成一侧面角，且侧面角大于25度且小于45度。

在一些实施例中，对间隔物材料层进行曝光工艺的步骤包括：提供光罩，此光罩具有透光区，透光区包括第一子透光区与第二子透光区，其中第二子透光区围绕第一子透光区，且第一子透光区的光穿透率不同于第二子透光区的光透率；以及通过光罩对间隔物材料层进行曝光工艺，其中第一子透光区对应间隔物材料层的第一子区域，且第二子透光区对应间隔物材料层的第二子区域。

在一些实施例中，对间隔物材料层进行曝光工艺的步骤包括：提供第一光罩，此第一光罩具有第一透光区；通过第一光罩对间隔物材料层进行第一曝光工艺，其中第一透光区对应间隔物材料层的第一子区域与第二子区域；提供第二光罩，第二光罩具有第二透光区，且第二透光区的孔径小于第一透光区的孔径；以及通过第二光罩对间隔物材料层进行第二曝光工艺，其中第二透光区对应间隔物材料层的第一子区域。

在一些实施例中，第一顶面与第一底面的法线方向形成第一顶角，且第一顶角小于45度。

在一些实施例中，制造方法还包括下列步骤：对间隔物材料层的第二区域进行另一曝光工艺，其中第二区域位于间隔物材料层的第一部分中。其中进行另一曝光工艺的步骤在进行显影工艺前进行，显影工艺还形成第二间隔物，第二间隔物具有第二顶面、第二侧面与第二底面，第二顶面相对于第二底面，第二侧面连接第二顶面与第二底面，第二顶面的顶点与第二底面的法线方向形成第二顶角，且第二间隔物的第二顶角大于第一间隔物的第一顶角。

在一些实施例中，进行曝光工艺的步骤与进行另一曝光工艺的步骤是使用不同光罩分别进行曝光工艺与另一曝光工艺。

在一些实施例中，曝光工艺的至少一部分与另一曝光工艺共用相同光罩且同时进行。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附附图作详细说明如下。

附图说明

图1是根据一实施例绘示显示面板的俯视图；

图2是根据图1的剖线AA’所绘示的剖面图；

图3是根据一实施例绘示间隔物的剖面示意图；

图4是根据一实施例绘示基板、间隔物与配向膜的俯视图；

图5是根据图4剖线BB’绘示形成配向膜的第一阶段的剖面图；

图6是根据图4剖线BB’绘示形成配向膜的第二阶段的剖面图；

图7是根据一实施例绘示显示面板的第一间隔物的制造方法的曝光工艺的剖面图；

图8是根据绘示图7的光罩与间隔物材料层的俯视示意图；

图9是根据一实施例绘示非显示区内对间隔物材料层进行图案化工艺后形成的第一间隔物的剖面图；

图10是根据另一实施例绘示显示面板的第一间隔物的制造方法的第一曝光工艺的剖面图；

图11是绘示图10的光罩与间隔物材料层的俯视示意图；

图12是绘示显示面板的第一间隔物的制造方法的第二曝光工艺的剖面示意图；

图13是绘示图12的光罩与间隔物材料层的俯视示意图；

图14是根据一实施例绘示显示面板的显示区内的第二间隔物的制造方法的曝光工艺的剖面图；

图15是根据一实施例绘示对间隔物材料层进行图案化工艺后形成的第二间隔物的剖面图；

图16是根据一实施例绘示基板、间隔物、框胶与配向膜的俯视图；

图17是根据图16的剖线CC’绘示的剖面图；

图18是根据一实施例绘示显示面板的俯视图；

图19是根据图18的剖线DD’绘示的剖面图。

【符号说明】

100:显示面板

110,120:基板

120S:衬底基板

130:液晶层

140:框胶层

150:间隔物

151,151a,151b:第一间隔物

152:第二间隔物

DA:显示区

NA:非显示区

AA’,BB’,CC’:剖线

310:顶面

311:顶点

320:侧面

330:底面

340:法线方向

350:交界点

α:顶角

θ:侧面角

r:长度

L:宽度

510:黑矩阵层

520:彩色滤光层

530:平坦层

540,540A1,540A2:配向膜区

540F,540F1,540F2:配向膜

540L:配向液

710:间隔物材料层

711:第一部分

712:第二部分

720:第一区域

721:第一子区域

722:第二子区域

730:光罩

731:第一子透光区

732:第二子透光区

1010,1210,1320:光罩

730T,1011,1211,1321:透光区

1310:第三区域

1501～1504:区域

1610:电路

L1,L2,L3,L4:光线

具体实施方式

关于本文中所使用的“第一”、“第二”等，并非特别指次序或顺位的意思，其仅为了区别以相同技术用语描述的元件或操作。

图1是根据一实施例绘示显示面板的俯视图，图2是根据图1的剖线AA’所绘示的剖面图。请参照图1与图2，显示面板100具有显示区DA与非显示区NA，其中非显示区NA围绕显示区DA，在此实施例中显示区DA为矩形，但在其他实施例中也可以为圆形、或任意形状。显示面板100包括基板110与基板120。基板110与基板120可例如分别为阵列基板与彩膜基板，但不以此为限。举例来说，基板110可包括衬底基板与设置于衬底基板上的薄膜晶体管、像素电极、栅极线、数据线等，基板120可包括另一衬底基板与设置于上述另一衬底基板上的彩色滤光层、黑矩阵层等，但基板110与基板120包括的元件不以此为限。为了简化起见在此并未绘示显示面板100中的所有元件。在本文中，基板110与基板120中的一个与另一个可分别称为第一基板与第二基板。在此实施例中基板110与基板120通过框胶层140组立并在图1中于方向Z彼此堆叠(标示为110/120)，且基板110的一部分未被基板120覆盖。液晶层130设置于基板110与基板120之间且位于显示区DA中。框胶层140也是设置于基板110与基板120之间但位于非显示区NA中。在基板110与基板120之间设置有多个间隔物150。多个间隔物150包括第一间隔物151与第二间隔物152，其中第一间隔物151设置于框胶层140中，第二间隔物152设置于显示区DA中。在此实施例中第一与第二间隔物151、152是形成在基板120上，然后通过框胶层140组立基板110、120，但不以此为限。在其他实施例中，第一与第二间隔物151、152也可以形成在基板110之上，然后通过框胶层140组立基板110、120。

值得注意的是，在图2中省略绘示配向膜。两配向膜可分别设置于液晶层130的相对两侧，也就是其中一配向膜位于液晶层130与基板110间，而另一配向膜则位于液晶层130与基板120间。在此，配向膜的材料可例如包括聚亚酰胺(polyimide，PI)，但本揭露并不在此限。举例来说，在本实施例中，可在基板110上形成一配向膜，在基板120上形成第一与第二间隔物151、152后再形成另一配向膜，然后再将基板110与基板120通过框胶层140组立。因为在本实施例中是在基板120上先形成第一与第二间隔物151、152后再形成配向膜，形成配向膜的工艺例如包括先涂布配向液于基板120上再将配向液固化形成配向膜，因此在形成配向膜的工艺中，为了不让配向液残留在第一间隔物151的表面上形成配向膜而影响第一间隔物151与框胶层140的接着力，以下将说明具有高疏水性的第一间隔物151的形状及其制作方法以避免配向膜沾附于第一间隔物151的表面上。

图3是根据一实施例绘示显示面板的间隔物的剖面示意图。请参照图3，间隔物150具有顶面310、侧面320与底面330。在间隔物150形成在基板120上的实施例(如图2)中，底面330面对基板120，且顶面310面对基板110。而在间隔物150形成在基板110上的实施例中，底面330面对基板110，且顶面310面对基板120。顶面310与底面330相对，侧面320则连接顶面310与底面330。在本实施例中，顶面310在基板110(或基板120)的正投影面积小于底面330在基板110(或基板120)的正投影面积。在本实施例中，侧面320的高度H定义为顶面310与侧面320的交界点350到底面330的垂直距离，也就是侧面320在底面330的法线方向340上的长度，其中底面330的法线方向340为垂直于底面330的方向。底面330的宽度为L+2r，且顶面的宽度为L。另一方面，侧面320与底面330的法线方向340形成侧面角θ。接下来以图3的间隔物150为第一间隔物151来说明形成下列具有高疏水性的第一间隔物151的形状。

在本实施例中，第一间隔物151的侧面320的高度H小于5微米，这使得在具有第一间隔物151的基板120上涂布配向液时比较容易形成Wenzel疏水模型的状态。

在本实施例中，第一间隔物151的底面330的宽度L+2r与顶面310的宽度L的比值大于1.4且小于2，即符合数学式1.4<((L+2r)÷L)<2。上述的数学式亦可改写为数学式1.4L

在本实施例中，第一间隔物151的侧面角θ小于45度。举例来说，在选定底面330的宽度L+2r与顶面310的宽度L的比值，且第一间隔物151的高度不变的情况下，当侧面角θ愈小时，则r愈小，使得L(即顶面310的宽度)需愈小以符合选定的底面330与顶面310的宽度比值。当顶面310的宽度L变小时，顶面310的面积变小，因此配向液的接触角变大，第一间隔物151的疏水性增加，使得配向液不易残留在第一间隔物151的表面上。此外，侧面角θ较佳是大于25度，以避免第一间隔物151的顶面310的受力面积太小而造成支撑力不足。

通过形成具有上述的形状的第一间隔物151，可提高第一间隔物151的疏水性，避免配向膜附着于第一间隔物151，进而提升第一间隔物151与框胶层140的接着力。

此外，除了前面所述的第一间隔物151具有高疏水性的形状外，当第一间隔物151的顶面310的剖面形状为凸面形状时，可进一步提高第一间隔物151的疏水性。如图3所示，顶面310向外凸起以形成一个顶点311，换言之顶点311相对于底面330的高度大于顶面310其他部位相对于底面330的高度。顶面310与底面330的法线方向340形成顶角α。如图3所示，顶面310中位于顶点311的一侧(如左侧)的部分与底面330的法线方向340形成顶角α。举例来说，在选定底面330的宽度L+2r与顶面310的宽度L的比值的情况下，当顶角α愈小时，配向液的接触角愈大，第一间隔物151的疏水性愈高，使得配向液愈不容易残留在第一间隔物151的表面上。在本实施例中，第一间隔物151的顶角α较佳为小于45度，以提升第一间隔物151的疏水性。此外，在本实施例中，顶角α较佳还大于25度，以避免第一间隔物151的支撑力不足。

图4是根据一实施例绘示基板、间隔物与配向膜的俯视图。图5是根据图4的剖线BB’绘示形成配向膜的第一阶段的剖面图。图6是根据图4的剖线BB’绘示形成配向膜的第二阶段的剖面图。如之前所述，在制作显示面板100时需要在基板110、120上分别形成配向膜后再将基板110、120组立形成显示面板100，其中液晶层130位于基板110、120间。图4至图6是以于基板120的配向膜区540中设置配向膜540F为例示。请参照图4至图6，形成配向膜540F的方法例如是先涂布配向液540L于基板120上，接下来固化配向液540L以形成配向膜540F。在形成配向膜540F后可对配向膜540F进行配向，配向的方式可为摩擦配向或是照光配向，但不以此为限。配向膜540F是用以在显示区DA中使液晶分子排列整齐，考量工艺误差并且为了使显示区DA的全部区域均具有配向膜540F，配向膜区540(即配向膜540F的设置范围)会稍微超出显示区DA的范围。随着窄边框的规格要求，因此配向膜区540会延伸至非显示区NA中的预定设置框胶层140的区域(或可称为框胶区，图4未示)。在图4中位于框胶区(图未示)中的第一间隔物151位于配向膜区540中。如图5所示，基板120包括衬底基板120S与设置于衬底基板120S上的黑矩阵层510、彩色滤光层520与平坦层530，平坦层530形成在黑矩阵层510与彩色滤光层520之上，但不以此为限。在另一些实施例中，基板120可不包括黑矩阵层510、彩色滤光层520与平坦层530的至少一个。第一间隔物151形成在基板120之上。图5为形成配向膜540F的第一阶段的示意图，也就是刚涂布配向液540L于基板120上时的示意图，而图6为形成配向膜540F的第二阶段的示意图，也就是在图5的第一阶段后过一段时间后的示意图。如图5所示，在形成配向膜540F的第一阶段时(例如刚涂布配向液540L于基板120上时)，涂布配向液540L于基板120上，且配向液540L覆盖间隔物151的表面(例如覆盖第一间隔物151的顶面310与侧面320)。然而，由于第一间隔物151具有高疏水性，配向液540L由第一间隔物151的表面往下流至基板120上(未示出)，因此在第二阶段时(例如涂布配向液540L于基板120上且经过一段时间后)，如图6所示，配向液540L不会残留在第一间隔物151的顶面310的至少一部分与侧面320的至少一部分上。接下来再将配向液540L固化形成配向膜540F。上述图4至图6是以第一间隔物151设置于基板120上且配向膜540F形成于基板120上为例示，在第一间隔物151设置于基板110上且形成配向膜540F于基板110上的实施例中，配向液540L不残留于第一间隔物151的表面的说明类似图4至图6的说明，于此不再赘述。

以下将以两个实施例(图7与图8的实施例与图10至图13的另一实施例)说明如何形成上述具有高疏水性的间隔物151。图7是根据一实施例绘示显示面板的第一间隔物的制造方法的曝光工艺的剖面图。图8是图7的光罩与间隔物材料层的俯视示意图。图9是根据一实施例绘示对间隔物材料层进行图案案化工艺后形成的第一间隔物的剖面图。图8的光罩730的俯视示意图是由图7的方向Z看到的光罩730的示意图，图8的间隔物材料层710的俯视示意图是由图7的方向Z看到的间隔物材料层710的示意图，且图8中的具有双箭头的虚线是用来示意光罩730的透光区730T的第一子透光区731与第二子透光区732和间隔物材料层710的区域720的第一子区域721与第二子区域722的对应关系。请参照图7与图8，以下说明的各步骤是用以在基板120上形成第一间隔物151，但这些步骤也可以适用于在基板110上形成第一间隔物151的实施例，本揭露并不限于此。首先提供基板120，基板120包括衬底基板120S以及形成于衬底基板120S上的黑矩阵层510、彩色滤光层520与平坦层530，但不以此为限。在另一些实施例中，基板120可不包括黑矩阵层510、彩色滤光层520与平坦层530的至少一个。接下来在基板120上形成间隔物材料层710，此间隔物材料层710包括第一部分711与第二部分712，其中第一部分711位于显示区DA中，而第二部分712位于非显示区NA中。在本实施例中，间隔物材料层710可包括感光性材料(例如但不限于感光性树脂)。举例来说，图案化工艺包括曝光工艺与显影工艺，在进行间隔物材料层710的曝光工艺时，间隔物材料层710中一部份区域被照光，且在进行间隔物材料层710的显影工艺后，间隔物材料层710中的照光区域与非照光区域分别被保留与被移除，或是间隔物材料层710中的照光区域与非照光区域分别被移除与被保留。在本实施例中是以在进行间隔物材料层710的显影工艺后，间隔物材料层710中的照光区域与非照光区域分别被保留与被移除为例示。举例来说，在本实施例中的间隔物材料层710的材料可为负型光刻胶，但不以此为限。接下来对间隔物材料层710进行图案化工艺。图案化工艺包括曝光工艺与显影工艺。如图7与图8所示，首先对间隔物材料层710进行曝光工艺，使得光线L1穿过光罩730的透光区730T照射间隔物材料层710的区域720(或称为第一区域)，区域720位于非显示区NA中。具体来说，区域720位于非显示区NA中的框胶区中，即位于预定设置框胶层140的区域中。区域720包括第一子区域721与第二子区域722，其中第二子区域722围绕第一子区域721且彼此耦接(即第一子区域721的外缘耦接第二子区域722的内缘)。在进行前面所述的曝光工艺后，间隔物材料层710的第一子区域721的曝光程度不同于第二子区域722的曝光程度(或称第一子区域721的光照射量不同于第二子区域722的光照射量)。在图7的实施例中是在光罩730的透光区730T中形成具有不同光穿透率的子透光区以使第一子区域721的曝光程度不同于第二子区域722的曝光程度。具体来说，光罩730的透光区730T包括第一子透光区731与第二子透光区732，其中第二子透光区732围绕第一子透光区731且彼此耦接(即第一子透光区731的外缘耦接第二子透光区732的内缘)，且第一子透光区731的光穿透率不同于第二子透光区732的光穿透率。如图8所示，在此实施例中第一子透光区731的外缘形状与第二子透光区732的内缘与外缘形状为圆形，但在其他实施例中也可以为椭圆、多边形或任意形状。特别的是，第一子透光区731的光穿透率大于第二子透光区732的光穿透率。在通过光罩730对间隔物材料层710进行曝光工艺时，光罩730的透光区730T对应(或称对准)至间隔物材料层710的区域720。具体来说，光罩730的第一子透光区731是对应(或称对准)至第一子区域721，而第二子透光区732是对应(或称对准)至第二子区域722。光线L1穿过光罩730的第一子透光区731与第二子透光区732以分别照射至间隔物材料层710的第一子区域721与第二子区域722，且第一子透光区731的光穿透率大于第二子透光区732的光穿透率，因此在曝光工艺中间隔物材料层710的第一子区域721被照射的光强度大于第二子区域722被照射的光强度。接下来对间隔物材料层710进行显影工艺(未示出)，显影工艺完成后如图9所示，间隔物材料层710的区域720(即第一子区域721与第子二区域722)形成第一间隔物151，且第一间隔物151的形状可符合前面所述的具有高疏水性的形状。

接下来说明如何形成上述具有高疏水性的间隔物151的另一实施例。图10是根据另一实施例绘示显示面板的第一间隔物的制造方法的第一曝光工艺的剖面图。图11是绘示图10的光罩与间隔物材料层的俯视示意图。图12是根据另一实施例绘示显示面板的第一间隔物的制造方法的第二曝光工艺的剖面图。图13是绘示图12的光罩与间隔物材料层的俯视示意图。在此实施例中是采用不同的两个光罩分别进行第一曝光工艺与第二曝光工艺，借此在间隔物材料层710的一区域中形成曝光程度不同的两个子区域。请参照图10与图11，其中衬底基板120S、黑矩阵层510、彩色滤光层520、平坦层530以及间隔物材料层710已经说明如上，在此不再赘述。在此实施例中，光罩(或称第一光罩)1010具有透光区(或称第一透光区)1011，此透光区具有孔径d1。在通过光罩1010对间隔物材料层710进行第一曝光工艺时，透光区1011对应(或称对准)至间隔物材料层710的区域720。区域720包括第一子区域721与第二子区域722，其中第二子区域722围绕第一子区域721且彼此耦接。光线L2穿过光罩1010的透光区1011以照射至间隔物材料层710的区域720(即照射至第一子区域721与第二子区域722)。

请参照图12与图13，图12的第二曝光工艺采用的是光罩(或称第二光罩)1210，此光罩1210具有透光区(或称第二透光区)1211，透光区1211具有孔径d2，此孔径d2小于上述光罩1010的透光区1011的孔径d1。在通过光罩1210对间隔物材料层710进行图12的第二曝光工艺时，透光区域1211是对应(或称对准)至间隔物材料层710的区域720的第一子区域721。光线L3穿过光罩1210的透光区1211以照射至间隔物材料层710的第一子区域721。

由于间隔物材料层710的第一子区域721被曝光两次(即图10与图12的第一与第二曝光工艺均照射间隔物材料层710的第一子区域721)，而间隔物材料层710的第二子区域722仅被曝光一次(即图10的第一曝光工艺照射间隔物材料层710的第二子区域722，但图12的第二曝光工艺未照射间隔物材料层710的第二子区域722)，因此间隔物材料层710的区域720的第一子区域721的光照射量大于间隔物材料层710的区域720的第二子区域722的光照射量(即间隔物材料层710的区域720的第一子区域721的曝光程度大于间隔物材料层710的区域720的第二子区域722的曝光程度)。在完成图10与图12的第一与第二曝光工艺后，接下来对间隔物材料层710进行显影工艺(未示出)，借此形成如图9所示的第一间隔物151，且第一间隔物151的形状可符合前面所述具有高疏水性的形状。

本揭露并不限制上述图10与图12的第一与第二曝光工艺的顺序。举例来说，可先进行图10的第一曝光工艺，然后进行图12的第二曝光工艺，接下来再进行显影工艺，但不以此为限。在另一些实施例中，可先进行图12的第二曝光工艺，然后进行图10的第一曝光工艺，接下来再进行显影工艺，同样可使得间隔物材料层710的区域720的第一子区域721的曝光程度大于间隔物材料层710的区域720的第二子区域722的曝光程度，以形成如图9所示且符合前面所述具有高疏水性的形状的第一间隔物151。

在上述图7至图13的实施例中是以在进行间隔物材料层710的图案化工艺后，间隔物材料层710中的照光区域与非照光区域分别被保留与被移除为例示，因此间隔物材料层710的区域720的第一子区域721的曝光程度大于第二子区域722的曝光程度(或称第一子区域721的光照射量大于第二子区域722的光照射量)，但不以此为限。在进行间隔物材料层710的图案化工艺后，间隔物材料层710中的照光区域与非照光区域分别被移除与被保留的实施例中，间隔物材料层710的第一子区域721的曝光程度小于第二子区域722的曝光程度(或称第一子区域721的光照射量小于第二子区域722的光照射量)，其形成方法于此不再赘述。

请参照图1，显示面板100还包括设置于显示区DA中的第二间隔物152。由于第二间隔物152在显示区DA内的主要作用是在显示面板100被按压时提供支撑，因此第二间隔物152的顶面的受力面积较佳是设计得较大以提供较大的支撑力。在图1的实施例中，位于显示区DA中的第二间隔物152的形状可不同于位于框胶层140中的第一间隔物151的形状，但不以此为限。请参照图3，接下来，以图3的间隔物150为第二间隔物152来说明形成具有较大的顶面的受力面积的第二间隔物152的条件。在本实施例中，第二间隔物152的顶面310的顶角α可大于第一间隔物151的顶面310的顶角α，以使得第二间隔物152的顶面310的剖面形状较平缓而使得第二间隔物152的顶面310具有较大的受力面积。因此在本实施例中，第二间隔物152的顶面310的顶角α较佳可大于第一间隔物151的顶面310的顶角α，但不以此为限。在本实施例中，第二间隔物152的顶角α较佳是大于或等于45度。在本实施例中，第二间隔物152的顶面310的顶角α可大于第一间隔物151的顶面310的顶角α，因此在本实施例中，可使用不同于形成第一间隔物151的曝光工艺来形成显示区DA内的第二间隔物152(可参照图14与图15的实施例)。在本文中，第一间隔物151的顶面310、侧面320与底面330可分别称为第一顶面、第一侧面与第一底面，第二间隔物152的顶面310、侧面320与底面330可分别称为第二顶面、第二侧面与第二底面，且第一间隔物151的顶角α与第二间隔物152的顶角α可分别称为第一顶角与第二顶角。

图14是根据一实施例绘示显示面板的显示区内的第二间隔物的制造方法的曝光工艺的剖面图。图15是根据一实施例绘示对间隔物材料层进行图案案化工艺后形成的第二间隔物的剖面图。请参照图14与图15，提供一基板120，间隔物材料层710设置在基板120上，且间隔物材料层710的第一部分711位在显示区DA中。光罩1320具有透光区1321，在通过光罩1320对间隔物材料层710进行曝光工艺时，透光区1321是对应(或称对准)至间隔物材料层710的区域1310。光线L4穿过光罩1320的透光区1321以照射至间隔物材料层710的第一部分711的区域1310(或称为第二区域)。接下来进行显影工艺，借此在隔物材料层710的区域1310形成第二间隔物152。由于间隔物材料层710的区域1310内的曝光程度(即光照射量)都相同，因此在进行显影工艺后可形成具有大于或等于45度的顶角α的第二间隔物152。在上述图14与图15的实施例中是以在进行间隔物材料层710的显影工艺后，间隔物材料层710中的照光区域与非照光区域分别被保留与被移除为例示，但不以此为限。在进行间隔物材料层710的显影工艺后，间隔物材料层710中的照光区域与非照光区域分别被移除与被保留的实施例的形成方法于此不再赘述。

上述形成第二间隔物152的步骤可以和前面所述形成第一间隔物151的步骤做任意结合。举例来说，可以采用图7的光罩730来进行一曝光工艺，而可以采用图14的光罩1320来进行另一曝光工艺，然后再进行显影工艺以形成第一间隔物151与第二间隔物152，其中光罩730与光罩1320彼此不相同。或者，可以采用图10的光罩1010与图12的光罩1210分别来进行一曝光工艺与另一曝光工艺，而可以采用图14的光罩1320来进行再一曝光工艺，然后再进行显影工艺以形成第一间隔物151与第二间隔物152，其中光罩1010、光罩1210与光罩1320彼此不相同。也就是形成第一间隔物151的步骤中的曝光工艺中使用的光罩可不同于形成第二间隔物152的步骤中的曝光工艺中使用的光罩，但不以此为限。在一些实施例中，形成第一间隔物151的步骤中的至少一部分曝光工艺可与形成第二间隔物152的步骤中的曝光工艺共用光罩且同时进行。例如图7与图8的光罩730除了具有透光区730T外，还具有图14的透光区1321，且在进行图7的曝光工艺时，可同时对间隔物材料层710的区域720与区域1310同时进行曝光，接下来再进行显影工艺以将间隔物材料层710的区域720与区域1310分别形成第一间隔物151与第二间隔物152。或者是图10与图11的光罩1010除了具有透光区1011外，还具有图14的透光区1321，且在进行图10的曝光工艺时，可同时对间隔物材料层710的区域720与区域1310同时进行曝光。或者是图12与图13的光罩1210除了具有透光区1211外，还具有图14的透光区1321，且在进行图12的曝光工艺时，可同时对间隔物材料层710的区域721与区域1310同时进行曝光。

图16是根据一实施例绘示基板、间隔物、框胶与配向膜的俯视图。图17是根据图16的剖线CC’绘示的剖面图。请参照图16与图17，显示面板100包括配向膜540F1、540F2，分别设置在基板110的配向膜区540A1与基板120的配向膜区540A2中。配向膜540F1、540F2分别设置于液晶层130的相对两侧，其中配向膜540F1位于液晶层130与基板110间，而配向膜540F2则位于液晶层130与基板120间。在本实施例中是以第一与第二间隔物151、152设置在基板120为例示，但不以此为限。此外，在图16与图17中是以多个第一间隔物151的一部分位在配向膜区540A2为例示，但不以此为限。在另一些实施例中，多个第一间隔物151可均位在配向膜区540A2中。请参照图3、图16与图17，如之前所述，因为第一间隔物151具有高疏水性，因此第一间隔物151的顶面310的至少一部分与侧面320的至少一部分不沾附配向膜540F2。然而，由于第二间隔物152在显示区DA内的主要作用是在显示面板100被按压时提供支撑，因此第二间隔物152的形状可不同于第一间隔物151的具有高疏水性的形状，使得第二间隔物152的顶面310的至少一部分与侧面320的至少一部分会沾附配向膜540F2。具体来说，因为第一间隔物151的形状为前面所述的具有高疏水性的形状，而第二间隔物152的形状可不同于第一间隔物151的形状且不具有如第一间隔物151的高疏水性，因此沾附在第二间隔物152的表面上的配向膜540F2的面积可大于沾附在第一间隔物151的表面上的配向膜540F2的面积。虽然第二间隔物152的表面沾附配向膜540F2，而当对配向膜540F2摩擦取向时，沾附于第二间隔物152的表面的配向膜540F2可能会配向不均，但第二间隔物152在方向Z重叠于黑矩阵层510(如图15所示)，因此不会影响显示面板100的画面质量。在本文中，配向膜区540A1与配向膜区540A中的一个与另一个可分别称为第一配向膜区与第二配向膜区，且配向膜540F1与配向膜540F2中的一个与另一个可分别称为第一配向膜与第二配向膜。

图18是根据一实施例绘示显示面板的俯视图。图19是根据图18的剖线DD’绘示的剖面图。请参照图18与图19，显示面板100的非显示区NA中除了设置第一间隔物151与框胶层140以外，还会设置许多其他元件。例如，非显示区NA包括区域1501～1504，区域1501内例如可以设置测试电路，区域1502、1504内例如可以设置栅极驱动器，区域1503内例如可以设置走线以连接至源极驱动器，但不以此为限。如图18所示，框胶层140重叠区域1501～1504的一部分，因此框胶层140中的多个第一间隔物151中的一部分(例如第一间隔物151b)于方向Z会重叠区域1501～1504，另一框胶层140中的多个间隔物151的一部分(例如第一间隔物151a)于方向Z未重叠区域1501～1504。如图18与图19所示，电路1610设置于区域1504中，第一间隔物151b于方向Z重叠电路1610，而第一间隔物151a于方向Z未重叠电路1610，因此第一间隔物151a的高度H1不同于第一间隔物151b的高度H2。此电路1610可包括一或多层导体层及/或一或多层绝缘层，本揭露并不限制电路1610的具体结构。因此，第一间隔物151a的高度H1会大于第一间隔物151b的高度H2，高度H1与高度H2之间会形成断差1710。第一间隔物151a、151b的形状可均符合前面所述具有高疏水性的形状以形成不沾附配向膜的第一间隔物151a、151b，进而增加第一间隔物151a、151b与框胶层140的附着力。在此是以第一间隔物151a与第一间隔物151b为例来说明，但在不同的位置的电路的高度也可能不相同，因此框胶层140内可设置至少两种不同高度的第一间隔物151，且这些第一间隔物151的形状均符合前面所述具有高疏水性的形状以形成不沾附配向膜的第一间隔物151，进而增加第一间隔物151与框胶层140的附着力。

在上述的显示面板与制造方法中，由于设置于框胶层内的第一间隔物为具有高疏水性的间隔物，因此配向液不容易残留在第一间隔物上，可以避免配向膜位在第一间隔物与胶框层中间而降低胶框层与第一间隔物之间的附着能力。

虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围当视所附的权利要求所界定者为准。